polysilicon etchingとは 意味・読み方・使い方

At this point, the second polysilicon film is subjected to anisotropic etching first and then subjected to isotropic etching.例文帳に追加

ここで、第２ポリシリコン膜のエッチングは異方性および等方性エッチングの順に実施する。 - 特許庁

By etching back the non-doped polysilicon layer 28, a portion outside the trench 6 in the non-doped polysilicon layer 28 is removed.例文帳に追加

ノンドープポリシリコン層２８をエッチバックして、ノンドープポリシリコン層２８におけるトレンチ６外の部分が除去される。 - 特許庁

A second polysilicon film is formed on the second insulating film, and a second polysilicon electrode is formed by dry etching.例文帳に追加

第２絶縁膜上に第２ポリシリコン膜を形成し、ドライエッチングにより第２ポリシリコン電極を形成する。 - 特許庁

And seam leakage of the STI oxide caused by a polysilicon side wall present after the polysilicon gate etching can also be avoided.例文帳に追加

ポリシリコン・ゲート・エッチング後に残存するポリシリコン側壁によるＳＴＩ酸化物のシーム漏れも回避される。 - 特許庁

Then, by etching back the doped polysilicon layer 25, a portion outside the trench 6 in the doped polysilicon layer 25 is removed.例文帳に追加

その後、ドープドポリシリコン層２５をエッチバックして、ドープドポリシリコン層２５におけるトレンチ６外の部分を除去する。 - 特許庁

To provide a method of subjecting a metal material of a polysilicon film lower layer to etching processing without giving damage to a polysilicon film.例文帳に追加

ポリシリコン膜下層の金属材料を、ポリシリコン膜へダメージを与えずにエッチング処理する方法を提供する。 - 特許庁

PROCESS FOR ETCHING TUNGSTEN SILICIDE ON POLYSILICON PARTICULARLY IN FLASH MEMORY例文帳に追加

特にフラッシュメモリにおいてポリシリコンの上にある珪化タングステンをエッチングするプロセス - 特許庁

To improve etching uniformity and prevent delay of etching reaction due to natural oxide film generated on a polysilicon surface in etching of polysilicon using XeF2 gas.例文帳に追加

ＸｅＦ_2 ガスを用いたポリシリコンのエッチングにおいて発生する、ポリシリコン表面の自然酸化膜によるエッチング反応の遅れを解決するとともに、エッチング均一性の向上を図る。 - 特許庁