process design problemとは 意味・読み方・使い方

To solve a problem that since a conventional scanning module has no clear designing policy for the arrangement of components for miniaturization, the design is ineffectual and components are added by try and error and then adjusted, which results in a deterioration in cost and performance in a manufacturing process.例文帳に追加

従来の走査モジュールは、小型化を図る際に部品の配置の設計指針が明らかではなく、部品の追加や試行錯誤で部品を取り付け、調整するなど設計に無駄があり、製造時のコストの悪化や性能の劣化が生じている。 - 特許庁

To provide a bag which dissolves the problem that many waste cut pieces or others are generated in manufacturing the bag, whose manufacturing process is simple, which has excellent design, and which can be compactly stored if needed.例文帳に追加

バッグの製造に多数の端切れ等が出るという欠点を解消し、更に製造工程が簡素であるバッグの提供を課題とするものであり、併せてデザイン的に優れていると共に必要に応じてコンパクトに収納することのできるバッグを提供する。 - 特許庁

To provide various pieces of information usable for comprehending whether or not there is any futility or problem in an actually performed operation including an operation process, which has been already finished, in form easy as possible to understand in a development project having a plurality of design processes.例文帳に追加

複数の設計工程を有する開発プロジェクトにおいて、すでに終了した作業工程をも含めて、実際に行われた作業に無駄や問題がなかったかを把握するのに有用な各種の情報を、できるだけ見易い形で提供する。 - 特許庁

To solve such a problem that it becomes very difficult to design a circuit with high linearity because of making a semiconductor process micro and, lowering of source voltage, etc., although the nonlinearity of a control code and an output phase of a phase composing circuit should be made as small as possible.例文帳に追加

位相合成回路における制御コードと出力位相との非線型性は極力小さくしなければならないが、半導体プロセスの微細化や電源電圧の低下等によりリニアリティの高い回路の設計が非常に困難になって来ている。 - 特許庁

To provide a process for the production of a glass substrate for a flat panel display, causing little deformation of the substrate after division even in the case of a large-sized glass and giving a display free from the problem of the generation of displaying defect caused by the deviation of the pattern from desired design.例文帳に追加

本発明の目的は、大板ガラスであっても、分割切断後の変形が少なく、パターンが所期の設計からずれてディスプレイの表示不良が発生するということがないフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a lighting unit, capable of dispensing with such a complicated process as to work on a ceiling installation substrate face and a structural skeleton by solving such a problem that a ceiling face and a luminaire lack uniformity in design, and a construction method for a ceiling using the lighting unit.例文帳に追加

天井面と照明器具とが意匠的な統一感に欠けるような問題を解消し、天井施工下地面や構造躯体に対して手を加えるような煩雑な工程を不要にできる照明ユニット、及び照明ユニットを用いた天井の施工方法を提供する。 - 特許庁

In this initiative, Kyoto Institute of Technology, Kyoto Shisaku Net (group of small and medium-size processing companies) and product developing companies that represent the Keihan region collaborate closely with each other in developing a follow-up type internship program by organically combining problem solving, practical design training, internship and lectures. This internship program would enable students to have first-hand experience of the actual monodzukuri process leading up to the realization of their own product design in the form of a finished product, thereby fostering personnel with creativity and a critical mind and capable of looking at the monodzukuri process from a multi-faceted, broad perspective.例文帳に追加

本取組は、京都工芸繊維大学、京都試作ネット(中小加工企業群)、京阪地区を代表する製品開発企業、の三者が緊密に連携し、問題解決型デザイン実習とインターンシップおよび講義を有機的に結合することによって、学生が自ら企画設計した「マイプロダクト」が形になるまでのリアルなものづくりプロセスを追跡的に実体験する「川下り方式インターンシッププログラム」を開発し、創造性と批判的思考能力を持ち、ものづくりプロセスを多面的・俯瞰的に見通す力を持つ人材を育成することを目指している。 - 経済産業省

The method of designing a semiconductor integrated circuit includes the steps of: calculating the risk of occurrence of a problem for each place on the semiconductor integrated circuit to be designed, based on the result of process simulation performed using a previously designed layout pattern 204 and physical model 201; and correcting a design standard 203 according to the risk for each place and generating a compaction condition 206 for each place.例文帳に追加

本発明による半導体集積回路の設計方法は、事前に設計されたレイアウトパタン２０４と物理モデル２０１とを用いて行われるプロセスシミュレーションの結果に基づいて、設計対象となる半導体集積回路上の場所毎に、不具合の発生する危険度を算出するステップと、場所毎の危険度に応じて設計基準２０３を修正し、場所毎のコンパクション条件２０６を生成するステップとを具備する。 - 特許庁