reticle holderとは 意味・読み方・使い方

A reticle holder 7 can be moved in the vertical direction by the vertically moving structure 6.例文帳に追加

垂直方向移動機構６は、レチクルホルダー７を垂直方向に移動させることができる。 - 特許庁

The laser beam 10 emitted from a pulse laser beam source 9 is condensed by a lens 11, and the laser beam is made to irradiate on the surface of the reticle 8 provided on the reticle holder 7.例文帳に追加

パルスレーザー光源９から出射されたパルスレーザー光１０は、レンズ１１で集光され、レチクルホルダー７に設置されたレチクル８の表面に照射される。 - 特許庁

A reticle stage 15 is provided with an electrostatic chuck 21 for electrostatically sucking a reticle R, and holder sections 35 are provided on both ends, in an X direction and a counter-X direction of the electrostatic chuck 21, respectively.例文帳に追加

レチクルステージ１５は、レチクルＲを静電吸着する静電チャック２１を備え、該静電チャック２１のＸ方向及び反Ｘ方向の両端部には、ホルダ部３５がそれぞれ設けられている。 - 特許庁

As shown in (b), a chuck 4 for sucking a reticle 6 having a pattern region 7 having a pattern to be exposed and transferred formed thereon is mounted on the reticle holder 3.例文帳に追加

（ｂ）に示すように、レチクルホルダ３には、露光転写すべきパターンが形成されたパターン領域７を持つレチクル６を吸着するための、チャック部４が搭載されている。 - 特許庁

A mark substrate holder 101 absorbs the whole rear surface of the mark substrate by an electrostatic chuck, with the structure same as that of a reticle holder 103 to fully reduce an influence of a deflection by own weight of the mark substrate.例文帳に追加

マーク基板ホルダ１０１が、レチクルホルダ１０３と同様の構造により、静電チャックによりマーク基板の裏面全体を吸着するので、マーク基板の自重たわみの影響は十分に低減することが可能である。 - 特許庁

An aligner is provided with a gas-supplying system, which supplies a prescribed low-absorptivity gas, such as the nitrogen, rare gas, etc., to a protective space PS, surrounded by the patterned surface of a reticle R carrying a pellicle 75 fitted to the patterned surface via a frame 76 and the pellicle 75 while the reticle R is held by a reticle holder 14.例文帳に追加

そのパターン面にフレーム７６を介してペリクル７５が装着されたレチクルＲがレチクルホルダ１４により保持された状態で、そのレチクルＲのパターン面とフレーム７６とペリクル７５とで囲まれた保護空間ＰＳ内に所定のガス、例えば窒素又は希ガス等の低吸収性ガスを給気管６６を介して供給するガス供給系を備えている。 - 特許庁

Next, centering is performed so that the eccentric quantity becomes a standard value or less by photographing the reticle pattern while moving the glass pane 3 by a grinding wheel 9 by making the eccentric direction coincide with the direction of the grinding wheel 9 by rotating the holder 4.例文帳に追加

次に、ホルダー４を回転させて、偏心方向を砥石９の方向に一致させ、砥石９によりガラス板３を移動させながらレチクルパターンを撮影して偏心量が規格値以下になるように芯出しを行う。 - 特許庁

This exposure system includes an exposure unit 1 provided with a wafer stage WST for placing a wafer holder WH for holding a wafer W and exposing a pattern DP of a reticle R on the wafer W, a measurement unit 2, and a carrying apparatus 3.例文帳に追加

本発明の露光システムは、ウェハＷを保持するウェハホルダＷＨを載置するウェハステージＷＳＴを備え、レチクルＲのパターンＤＰをウェハＷ上に露光する露光ユニット１と、計測ユニット２と、搬送装置３とを含んでなる。 - 特許庁