single exposureとは 意味・読み方・使い方

RETAINING METHOD OF OPTICAL MEMBER MADE OF CUBIC SINGLE CRYSTAL MATERIAL, OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE DEVICE AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加

立方晶系単結晶材料からなる光学部材の保持方法、光学系、露光装置および露光方法 - 特許庁

An optimum calibration measurement chart is selected in each of single wavelength exposure and 2-wavelength exposure.例文帳に追加

さらに、単一波長露光時と２波長露光時のそれぞれにおいて最適なキャリブレーション計測チャートを選択する。 - 特許庁

Therefore, in this project, regarding specific target organ/systemic toxicity (single exposure and repeated exposure), the toxicity manifestation concentration at the time of vapor inhalation is investigated in mg/l, and is evaluated by comparing it with the value shown in the Table. If the original data is given in ppm, the unit is converted into mg/l and a comparison is made.例文帳に追加

原資料の記載が ppm であれば単位を mg/l に変換し比較する。 - 経済産業省

To provide a digital camera capable of executing photometry similar to a single exposure meter and being substituted for the exposure meter.例文帳に追加

単独の露出計と同様の測光を可能とし、露出計としても代用することができるデジタルカメラを提供する。 - 特許庁

A lithographic apparatus for use in the process may comprise an exposure tool having a single illuminator and a single patterning device that is imaged through a single exposure slit onto a scanning substrate.例文帳に追加

このプロセスで使用するためのリソグラフィ装置は、単一のイルミネータと、単一の露光スリットを介して、スキャンする基板上に結像される単一のパターニングデバイスとを有する露光ツールを備えることができる。 - 特許庁

A synthetic hologram obtained as a result can be generated by a single exposure.例文帳に追加

結果として得られる合成ホログラムはこのように一回の露出で作ることができる。 - 特許庁

The exposure apparatus includes: moving to an exposure position by mechanical operations of a light-shielding mask or a substrate stage on the basis of the information about a medium to be exposed by referring to a position set by a single alignment; stopping at the set exposure position; and carrying out exposure, after moving to the exposure position, under exposure conditions calculated by an exposure condition calculating mechanism.例文帳に追加

被媒体情報をもとに、１回のアライメントで設定した位置を基準として、遮光マスク又は基板ステージの機械動作によって露光位置へ移動し、設定した露光位置で停止し、露光位置に移動した後、露光条件算出機構で算出された露光条件をもとに露光を行う。 - 特許庁

To provide a single exposure method and a double exposure method for reducing mask error factors and improving a lithography process resolving power.例文帳に追加

マスクエラーファクタを減少するため、およびリソグラフィプロセス分解能を向上させるための単一露光方法および二重露光方法。 - 特許庁