solve for xとは 意味・読み方・使い方

To solve the problem of a performance enhancing technique in microfabrication of a semiconductor device using an electron beam or X-ray and to provide a negative type resist composition for an electron beam or X-ray satisfying such characteristics as sensitivity and resist shape when an electron beam or X-ray is used.例文帳に追加

電子線又はＸ線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はＸ線の使用に対して感度とレジスト形状の特性を満足する電子線又はＸ線用ネガ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

To solve the problem that the accuracy of element mapping due to electron beam scanning is lowered because of the non-uniformity of the sensitivity distribution in the point focal region of a polycapillary for converging inherent X rays.例文帳に追加

固有Ｘ線を収束するポリキャピラリの点焦点領域内での感度分布の不均一性のために、電子線走査による元素マッピングの正確性が低下する。 - 特許庁

To solve problems in X-ray tomography by constitution using an image sensor in a thin and long shape and to provide an X-ray tomography method for reducing an exposure and obtaining high quality images.例文帳に追加

細長形状のイメージセンサを用いた構成によるＸ線断層面撮影において、上記問題を解決すること課題としており、被爆量が低減され、かつ、高品位な画像を得ることが可能なＸ線断層面撮影方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problem of a performance enhancing technique in microfabrication using electron beams or X-rays and to provide a negative type resist composition for use in electron beams or X-rays satisfying such characteristics as sensitivity, resolution and resist shape when electron beams or X-rays are used and excellent in PBD stability.例文帳に追加

電子線またはＸ線を使用するミクロファブリケーション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、電子線またはＸ線の使用に対して感度と解像性・レジスト形状の特性を満足し、更にＰＢＤ安定性が優れた電子線またはＸ線用ネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To solve the problems of a performance enhancing technique in the micromachining of a semiconductor device using electron beams or X-rays and to obtain a negative type chemical amplification type resist composition for electron beams or X-rays which satisfies sensitivity and resolution, resist shape characteristics to the use of electron beams or X-rays.例文帳に追加

電子線又はＸ線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線またはＸ線の使用に対して感度と解像性・レジスト形状の特性を満足する電子線又はＸ線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物の開発である。 - 特許庁

To solve the problems that conventionally performance enhancing technique in microfabrication of a semiconductor device using electron beams or X-rays and to provide a negative chemical amplification type resist composition for electron beams or X-rays which satisfies sensitivity, resolution and resist shape, when electron beams or X-rays are used.例文帳に追加

電子線又はＸ線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はＸ線の使用に対して感度と解像度、レジスト形状の特性を満足する電子線又はＸ線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To solve the problem of a performance enhancing technique in the microfabrication of a semiconductor device using electron beams or X-rays and to provide a negative type chemical amplification type resist composition for electron beams or X-rays satisfying such characteristics as sensitivity, resolution and resist shape when electron beams or X-rays are used.例文帳に追加

電子線又はＸ線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はＸ線の使用に対して感度と解像度、レジスト形状の特性を満足する電子線又はＸ線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To solve the problem of a performance enhancing technique in the microfabrication of a semiconductor device using electron beams or X-rays and to provide a negative chemical amplification type resist composition for electron beams or X-rays satisfying sensitivity, resolution and resist shape in the use of electron beams or X-rays.例文帳に追加

電子線又はＸ線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はＸ線の使用に対して感度と解像度、レジスト形状の特性を満足する電子線又はＸ線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁