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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > solve for xの意味・解説 > solve for xに関連した英語例文

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solve for xの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 30



例文

solve for x 例文帳に追加

xを求める - 日本語WordNet

Solve this equation for x [to find the value of x].例文帳に追加

この方程式を解いて x の価を求めなさい. - 研究社 新和英中辞典

Solve the following equation for x. 例文帳に追加

次の方程式を解いて x の値を求めなさい. - 研究社 新和英中辞典

To solve such a problem that integrated diagnosis is difficult when many indexes which are used for diagnosis of spine disease on the basis of X-ray images are individually obtained.例文帳に追加

X線画像に基づく脊椎疾患の診断に用いるたくさんの指標が個別に得られると、統合的な診断が難しい。 - 特許庁

例文

To solve the problem that a lot of power consumption is wasted due to energization to excitation coils of X- and Y-axis drive motors during continuous stop for sewing preparation or the like.例文帳に追加

縫製準備中など継続的な停止中にも、X,Y軸駆動モータの励磁コイルへ通電するため、無駄な電力消費量が多くなる。 - 特許庁


例文

To solve the controversial point that a difference is generated in electrostatic capacities by wiring and the difference causes a sensibility unevenness when an amplifier and a semiconductor sensor used for detecting high-energy X-rays and gamma rays are connected by the wiring.例文帳に追加

高エネルギーX線・ガンマ線の検出のために用いる半導体センサー素子と増幅器を配線により結合する場合に、配線による静電容量に違いが生じ、感度むらの原因となる。 - 特許庁

To solve problems with a complicated control circuit and increase in an initial cost caused by a feedback control using a NOX meter, for controlling NOX removal in exhaust gas.例文帳に追加

排気ガス中のNO_X除去のための制御は、NO_X計を用いたフイードバック制御によって行われているため、制御回路が複雑となってイニシャルコストも高くなっている。 - 特許庁

To solve the problem of a performance enhancing technique in microfabrication of a semiconductor device using an electron beam or X-ray and to provide a negative type resist composition for an electron beam or X-ray satisfying such characteristics as sensitivity and resist shape when an electron beam or X-ray is used.例文帳に追加

電子線又はX線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はX線の使用に対して感度とレジスト形状の特性を満足する電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

To solve the problems that conventionally performance enhancing technique in microfabrication of a semiconductor device using electron beams or X-rays and to provide a negative chemical amplification type resist composition for electron beams or X-rays which satisfies sensitivity, resolution and resist shape, when electron beams or X-rays are used.例文帳に追加

電子線又はX線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はX線の使用に対して感度と解像度、レジスト形状の特性を満足する電子線又はX線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

例文

To solve the problem of a performance enhancing technique in the microfabrication of a semiconductor device using electron beams or X-rays and to provide a negative type chemical amplification type resist composition for electron beams or X-rays satisfying such characteristics as sensitivity, resolution and resist shape when electron beams or X-rays are used.例文帳に追加

電子線又はX線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はX線の使用に対して感度と解像度、レジスト形状の特性を満足する電子線又はX線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

例文

To solve the problem of a performance enhancing technique in microfabrication of a semiconductor device using an electron beam or X-ray and to provide a negative type resist composition for an electron beam or X-ray satisfying such characteristics as sensitivity and resist shape when an electron beam or X-ray is used.例文帳に追加

電子線又はX線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はX線の使用に対して感度とレジスト形状の特性を満足する電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To solve the problem on excess load of vacuum stress in thinning a glass panel, by applying compression stress to the glass panel for a color cathode-ray tube through chemical reinforcement method, to solve the problem on damage and thermal stress generated in the manufacturing of the cathode-ray tube, and further to provide the sufficient X-ray shielding performance.例文帳に追加

化学強化法によりカラー陰極線管用ガラスパネルに圧縮応力を付与して、薄肉化した場合における真空応力の過負荷の問題を解決するとともに、陰極線管製造時に発生する損傷や熱応力の問題を解決し、加えて十分なX線遮蔽能力を得る。 - 特許庁

To solve problems in X-ray tomography by constitution using an image sensor in a thin and long shape and to provide an X-ray tomography method for reducing an exposure and obtaining high quality images.例文帳に追加

細長形状のイメージセンサを用いた構成によるX線断層面撮影において、上記問題を解決すること課題としており、被爆量が低減され、かつ、高品位な画像を得ることが可能なX線断層面撮影方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problem in performance enhancing technique in micromachining of a semiconductor element using electron beams or X-rays, and provide a negative chemical amplification type resist composition for electron beams or X-rays which satisfies the sensitivity, degree of resolution and resist shape characteristics.例文帳に追加

電子線又はX線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はX線の使用に対して感度と解像度、レジスト形状の特性を満足する電子線又はX線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

In order to solve above problems, a plurality of connecting cables 4 for connecting both ends of at least one electrode of X and Y electrodes are installed on the side for displaying images of a front substrate.例文帳に追加

本発明では、上記課題を解決するために、前記XおよびY電極3の少なくとも一方について個々の該電極両端を接続する複数本の接続配線4を、前面基板1の映像が表示される側に設ける。 - 特許庁

To solve the problem that the accuracy of element mapping due to electron beam scanning is lowered because of the non-uniformity of the sensitivity distribution in the point focal region of a polycapillary for converging inherent X rays.例文帳に追加

固有X線を収束するポリキャピラリの点焦点領域内での感度分布の不均一性のために、電子線走査による元素マッピングの正確性が低下する。 - 特許庁

To solve the problem that a board stage is hardly matched to an X axis of a cutting clearance groove, in a printed circuit board cutting device for cutting a board raw material into a lattice shape and manufacturing small printed circuit boards having the same shape.例文帳に追加

基板素材を格子状に切断し、同形状の小さなプリント基板を製造するプリント基板切断装置において、基板ステージの切断逃げ溝のX軸への合わせ込み作業が困難である。 - 特許庁

To solve the problem of a performance enhancing technique in the microfabrication of a semiconductor device using electron beams or X-rays and to provide a negative type chemical amplification type resist composition for electron beams or X-rays which satisfies characteristics such as sensitivity and resolution in the use of electron beams or X-rays, resist shape, development defects, appliability and solubility in a solvent.例文帳に追加

電子線又はX線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はX線の使用に対して感度と解像度、レジスト形状、現像欠陥、塗布性及び溶剤溶解性の特性を満足する電子線又はX線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To solve the problem of a performance enhancing technique in the microfabrication of a semiconductor device using electron beams or X-rays and to provide a negative chemical amplification type resist composition for electron beams or X-rays satisfying sensitivity, resolution and resist shape in the use of electron beams or X-rays.例文帳に追加

電子線又はX線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はX線の使用に対して感度と解像度、レジスト形状の特性を満足する電子線又はX線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

To enhance performance in the microfabrication of a semiconductor device using electron beams or X-rays, to solve the conventional problems and to provide a negative type chemical amplification type resist composition for electron beams or X-rays having good sensitivity, resolution and resist shape when electron beams or X-rays are used, reducing development defects and having good suitability to coating.例文帳に追加

電子線又はX線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上及び従来の問題点を解決することであり、電子線又はX線の使用に対して良好な感度、解像度、レジスト形状に加え、現像欠陥を低減し、良好な塗布性を有する電子線又はX線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

To solve the problem of a performance enhancing technique in microfabrication using electron beams or X-rays and to provide a negative type resist composition for use in electron beams or X-rays satisfying such characteristics as sensitivity, resolution and resist shape when electron beams or X-rays are used and excellent in PBD stability.例文帳に追加

電子線またはX線を使用するミクロファブリケーション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、電子線またはX線の使用に対して感度と解像性・レジスト形状の特性を満足し、更にPBD安定性が優れた電子線またはX線用ネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To enhance performance and to solve technical problem in the microfabrication of a semiconductor device using electron beams or X-rays and to provide a negative type chemical amplification type resist composition for electron beams or X-rays which satisfies characteristics such as sensitivity, resolution, resist shape, development defects and appliability in the use of electron beams or X-rays.例文帳に追加

電子線又はX線を使用する半導体素子の微細加工における性能の向上及び技術課題を解決することであり、電子線又はX線の使用に対して感度、解像度、レジスト形状、現像欠陥、及び塗布性の特性を満足する電子線又はX線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

To solve the problems of a performance enhancing technique in the micromachining of a semiconductor device using electron beams or X-rays and to obtain a negative type chemical amplification type resist composition for electron beams or X-rays which satisfies sensitivity and resolution, resist shape characteristics to the use of electron beams or X-rays.例文帳に追加

電子線又はX線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線またはX線の使用に対して感度と解像性・レジスト形状の特性を満足する電子線又はX線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物の開発である。 - 特許庁

To solve the problems of a performance enhancing technique in the microfabrication of a semiconductor device using electron beams or X-rays and to provide a negative type chemical amplification type resist composition for electron beams or X-rays which satisfies sensitivity, resolution and resist shape when electron beams or X-rays are used and also satisfies characteristics such as development defects, suitability to coating and solubility in a solvent.例文帳に追加

電子線又はX線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はX線の使用に対して感度と解像度、レジスト形状、現像欠陥、塗布性及び溶剤溶解性の特性を満足する電子線又はX線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To solve various problems existing in the case of using an ellipsometric crystal for quick determination of a structure factor tensor and improvement of measurement sensitivity, though an ellipsometric method of an X-ray domain which is necessary for determining the structure factor tensor of a material is already proposed.例文帳に追加

物質の構造因子テンソルの決定に必要なX線領域の偏光解析の方法は既に提案されているが、構造因子テンソルの迅速決定および測定感度向上のために、偏光解析結晶を用いる場合には、種々の問題を解決しなければならない。 - 特許庁

To solve the problem that a footprint (an area on a plane necessary for processing) of a laser irradiation apparatus for moving a stage supporting thereon a substrate in X and Y direction becomes unavoidably large to cause the apparatus to become very great as a whole when the substrate becomes greater in size.例文帳に追加

基板が設置されたステージをX方向やY方向に移動させるレーザー照射装置は、基板が大型化した場合、比例してフットプリント(処理に必要とされる平面での面積)が格段に大きくなり、装置全体の巨大化を招く問題が生じてしまう。 - 特許庁

To solve the problem that a means for detecting a microcrack and a deterioration part at the inside of concrete and a means for judging a deterioration state are not available in the diagnosis of the durability of a concrete actual structure by using an X-ray contrast photographing method.例文帳に追加

本発明は、コンクリート実構造物の耐久性診断において、コンクリート内部のマイクロクラックや劣化部を検出する手段や劣化状況を判断する手段がないという問題点を、X線造影撮影法を使用することにより、解決することを目的としている。 - 特許庁

To solve the problem that a flange (23) sometimes enters a lacrimal passage from a lacrimal punctum because of the softness and the flange (23) is not projected by X-rays when the flange (23) of a brim NST which is a lacrimal passage stent for a lacrimal passage surgery and lacrimal punctum plug is reduced.例文帳に追加

涙道手術のための涙道ステントであるブリムNST及び涙点プラグのツバ(23)を小さくするとその柔らかさのためにツバ(23)が涙点から涙道内に入って行くことがあり、ツバ(23)がX線で映らないということである。 - 特許庁

To solve the problem that regions in transmission image information corresponding to stripes of pellicle have been displayed in a white or grayish color in a screen of a monitor etc. when X-rays are transmitted through the fibers of the pellicle to cause incorrect recognition as internal defects in a method for nondestructively inspecting the presence or absence of worm holes etc. in chestnut nuts.例文帳に追加

栗の果実における虫食い等の有無を非破壊検査する方法において、渋皮のスジをX線が透過すると、透過画像情報において当該スジに対応する領域がモニタ等の画面に白又は灰色っぽく表示され、これを内部欠陥と誤認する問題を解消する。 - 特許庁

例文

To solve problems relating to the techniques for improving the performance in microfabrication of a semiconductor device using high energy rays, X rays, electron beams or EUV light, and to provide a positive resist composition satisfying requirements of high sensitivity, high resolution, a favorable pattern profile and favorable line edge roughness.例文帳に追加

高エネルギー線、X線、電子線あるいはEUV光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

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