sulfonic acid type resinとは 意味・読み方・使い方

The negative type resist composition for electron beams or X-rays contains a sulfonic acid generator, an alkali-soluble resin, a crosslinker and a specified carboxylic acid generator.例文帳に追加

スルホン酸発生剤、アルカリ可溶性樹脂、架橋剤及び特定のカルボン酸発生剤を含有する電子線又はＸ線用ネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

The radiation sensitive resin composition contains (A) an acid dissociable group-containing copolymer containing an alkyl substituted norbornane lactone ring, (B) a sulfonic ester type acid increaser and (C) an acid generator.例文帳に追加

（Ａ）アルキル置換ノルボルナンラクトン環を含有する酸解離性基含有共重合体と、（Ｂ）スルホン酸エステル型の酸増殖剤と、（Ｃ）酸発生剤とを含有する感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

This catalyst for producing the bisphenol-A comprises a modified sulfonic acid type cation exchange resin prepared by reacting a part of sulfonic acid groups in a sulfonic acid type cation exchange resin obtained by sulfonating a copolymer resin of monovinyl monomers consisting essentially of styrenes and divinyl monomers in which at least a part thereof are polycyclic aromatic divinyl monomers with a sulfur-containing amine compound.例文帳に追加

スチレン類を主とするモノビニルモノマーとジビニルモノマーとの共重合樹脂をスルホン化して得られるスルホン酸型陽イオン交換樹脂であって、ジビニルモノマーの少なくとも一部が多環芳香族ジビニルモノマーであるスルホン酸型陽イオン交換樹脂のスルホン酸基の一部を含イオウアミン化合物と反応させた変性スルホン酸型陽イオン交換樹脂からなるビスフェノールＡ製造用触媒。 - 特許庁

The aliphatic polyester resin composition comprises 5-50 pts.mass polyether polyester compound and 0.5-10 pts.mass organic sulfonic acid type surfactant based on 100 pts.mass aliphatic polyester resin, wherein the organic sulfonic acid type surfactant is added in a synthetic process of the polyether polyester compound.例文帳に追加

脂肪族ポリエステル樹脂１００質量部当たりポリエーテルポリエステル化合物を５〜５０質量部及び有機スルホン酸型界面活性剤を０．５〜１０質量部の割合で含有するものとし、且つ該有機スルホン酸型界面活性剤を該ポリエーテルポリエステル化合物の合成過程で加えた。 - 特許庁

To provide a method for producing bisphenol A by selecting and using a sulfonic acid type ion exchange resin, which requires a short washing time by a simple washing method, in producing bisphenol A from phenol and acetone by using the sulfonic acid type cation exchange resin catalyst.例文帳に追加

スルホン酸型イオン交換樹脂触媒を用い、 フェノールとアセトンからビスフェノールA を製造するに際し、 該触媒として、 簡易洗浄法により、 洗浄に要する時間の短いスルホン酸型イオン交換樹脂を選別して使用するビスフェノールA の製造方法を提供すること。 - 特許庁

NEW SULFONIC ACID QUATERNARY AMMONIUM SALT, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AQUEOUS POLYURETHANE RESIN COMPOSITION USING THE SAME AND CROSSLINKING TYPE AMPHOTERIC POLYURETHANE ELASTOMER EACH USING THE SAME例文帳に追加

新規なスルホン酸４級アンモニウム塩、その製造方法、それを用いた水性ポリウレタン樹脂組成物及び架橋型両性ポリウレタンエラストマー - 特許庁

To provide a method for producing a bisphenol, capable of preventing the activity deterioration of a partially modified sulfonic acid type cation- exchange resin applied as a catalyst for producing the bisphenol with time.例文帳に追加

ビスフェノール製造触媒として使用される部分変性されたスルホン酸型陽イオン交換樹脂の活性の経時低下を抑制する。 - 特許庁

NAPHTHOQUINONE DIAZIDE SULFONIC ACID ESTER, POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, SEMICONDUCTOR DEVICE AND DISPLAYING DEVICE USING POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PROCESS FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR APPARATUS AND DISPLAYING ELEMENT例文帳に追加

ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、ポジ型感光性樹脂組成物、並びに該ポジ型感光性樹脂組成物を用いた半導体装置及び表示素子、並びに半導体装置及び表示素子の製造方法 - 特許庁