trench etchingとは 意味・読み方・使い方

METHOD OF REDUCING REACTIVE ION ETCHING LAG IN DEEP- TRENCH SILICON ETCHING例文帳に追加

ディープ・トレンチ・シリコン・エッチングの反応性イオン・エッチング・ラグを低減する方法 - 特許庁

In the trench etching step, a planarizing state of the trench wall face can be obtained and a trench having a flat wall face can be obtained during etching.例文帳に追加

トレンチエッチング中に、トレンチ壁面を平坦化する状態が得られ、平坦な壁面を持つトレンチをエッチングすることができる。 - 特許庁

A first trench etching 78 is carried out, and a bottom face of the substrate is subjected to etching.例文帳に追加

第１のトレンチエッチング(78)が実施され、基板の底面がエッチングされる。 - 特許庁

Next, the gate trench 21 is formed by dry etching.例文帳に追加

次に，ドライエッチングによりゲートトレンチ２１を形成する。 - 特許庁

The trench element separation film on the trench etching mask, liner layer, and trench etching mask are removed so that the semiconductor substrate is exposed.例文帳に追加

そして半導体基板が露出されるようにトレンチエッチングマスク上のトレンチ素子分離膜、ライナー層及びトレンチエッチングマスクを除去する。 - 特許庁

To provide an etching method for realizing trench etching without hollow or roughness on a trench side wall surface while maintaining a high etching rate.例文帳に追加

高速エッチングレートを維持しつつ、トレンチ側壁面にえぐれや面荒れの無いトレンチエッチングを実現するためのエッチング方法を提供する。 - 特許庁

Then, a trench is formed in the substrate 10 by etching.例文帳に追加

次に基板中にエッチングによってトレンチを形成する。 - 特許庁

Further, the process to carry out the hole etching or the trench etching is carried out once again.例文帳に追加

さらに、前述のホールエッチング又はトレンチエッチングをする工程を再度行う。 - 特許庁