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vertical etchingとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 垂直エッチング
「vertical etching」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 102件
CARRIER DEVICE FOR VERTICAL THIN PLATE ETCHING MACHINE例文帳に追加
直立型薄板エッチングマシンの搬送装置 - 特許庁
To provide a vertical carrying type etching apparatus in which the leakage of an etching liquid to the outside of a case is reduced and etching quality is increased.例文帳に追加
エッチング液がケース外に漏れるのを減らし、エッチング品質を高める垂直搬送式エッチング装置を提供する。 - 特許庁
In order to raise accuracy of the dimension of the beam by vertical etching, a guiding hole for etching is opened by a laser or the like.例文帳に追加
また垂直エッチによりハリ寸法の精度を上げるため、レーザー等によるエッチング先導孔を開ける。 - 特許庁
Vertical nano circuits (100 and 300) are manufactured by such known standard processes as Damascene, wet etching, and reactive etching.例文帳に追加
縦型ナノ回路(100,300)は、Damascene、ウェットエッチング、反応性エッチング等の標準的な既知のプロセスを用いて作製される。 - 特許庁
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「vertical etching」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 102件
With the resist mask 12 as the etching mask, anisotropic etching is carried out by using the resist mask 12 as an etching mask to form cavity parts, of which the wall surfaces are vertical in the silicon substrate 10 as shown by Fig (d).例文帳に追加
レジストマスク12をエッチングマスクとして、異方性エッチングを行い、シリコン基板10に壁面が垂直な窪み部を形成する(d)。 - 特許庁
To provide a dry etching apparatus capable of readily performing etching, whose sectional form is vertical and whose in-plane uniformity is superior, even under various etching conditions.例文帳に追加
多種のエッチング条件下においても、断面形状が垂直で面内均一性の良いエッチングを容易に行なうことができる、ドライエッチング装置を提供する。 - 特許庁
In plasma etching, a potential gradient on a substrate is vertical to the substrate.例文帳に追加
プラズマエッチング時においては、基板上の電位勾配は、基板に対して垂直になる。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of semiconductor device which performs anisotropic etching to a conductive layer in vertical direction or substantially vertical direction.例文帳に追加
半導体装置の製造方法に関し、垂直あるいはほぼ垂直に導電層を異方性エッチングすること。 - 特許庁
In this case, the etching shape of the polyimide film 32 is not formed in vertical shape but formed so as to have a tapered shape relative to the etching direction.例文帳に追加
この際、ポリイミド膜32のエッチング形状は、垂直ではなく、エッチング方向に対して、テーパ形状を持つようにする。 - 特許庁
A beam is provided on the ink feeding hole by using a vertical etching method of (100)Si substrate.例文帳に追加
(100)Si基板の垂直エッチ法を用いて、インク供給口にハリを設ける。 - 特許庁
The side 14a becomes a smooth surface substantially vertical to a substrate surface by the wet etching.例文帳に追加
ウェットエッチングによって、側面14aは、基板面にほぼ垂直な平滑面となっている。 - 特許庁
The side 13c is a smooth surface nearly vertical to a substrate surface by wet etching.例文帳に追加
ウェットエッチングによって、側面13cは、基板面にほぼ垂直な平滑面となっている。 - 特許庁
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