very high vacuumとは 意味・読み方・使い方

A degree of vacuum in the vicinity of a plurality of electron sources is kept very high all the time by vacuum-evacuating electron gun chambers mounted with the plurality of electron sources independently from a sample chamber.例文帳に追加

さらに、複数の電子源を搭載した電子銃室を試料室とは独立に真空排気することによって複数の電子源近傍の真空度を常に高真空に保つことを特徴とする。 - 特許庁

A degree of vacuum in the vicinity of electron sources is kept very high all the time by vacuum-evacuating a plurality of electron gun chambers independently from a sample chamber.例文帳に追加

さらに、複数の電子銃室を試料室とは独立に真空排気することによって電子源近傍の真空度を常に高真空に保つことを特徴とする。 - 特許庁

To improve vacuum treatment characteristics, to heighten uniformity of the vacuum treatment characteristics at very high level in particular and to manufacture a non-single crystal film which is excellent and uniform in film thickness, film quality and surface properties.例文帳に追加

真空処理特性を向上させ、特に真空処理特性の均一性を極めて高いレベルとし、膜厚、膜質、表面性共に極めて良好で均一な非単結晶膜を製造する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic electroluminescent element having high driving durability, high luminous efficiency and high luminance, wherein a very small amount of oxygen existing in a vacuum evaporator can be removed.例文帳に追加

真空蒸着装置内に存在する微量の酸素が除去でき、駆動耐久性に優れ、しかも発光効率及び発光輝度の高い有機電界発光素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a display device in which any vacuum tube and gas discharge are unnecessary, the utility efficiency of light is very high, a driving is performed at a low voltage and a response speed is high.例文帳に追加

真空管やガス放電を必要とすることなく、しかも光の利用効率を非常に高くし、低電圧で駆動することができ、応答速度も速い表示ディスプレイを提供する。 - 特許庁

To provide an extrusion compact which is made of specific mortar with very high strength and high durability, capable of having high compactness without using a vacuum extruder under condition of reduced pressure and suitable for members for a building construction requiring high strength.例文帳に追加

非常に高強度でかつ耐久性が高く、真空式押出成形機を用いて減圧条件下で成形しなくても、高い緻密性を得ることができる特定のモルタルからなるとともに、高強度を要求される建築構造部材等にも適用可能な押出成形体を提供する。 - 特許庁

To provide a catadioptric projection objective lens for use in the vacuum ultraviolet (VUV) range having very high image side numerical apertures which allows immersion lithography at numerical apertures NA>1.例文帳に追加

ＮＡ＞１の開口数で液浸リソグラフィが可能な非常に高い像側開口数を有する真空紫外（ＶＵＶ）領域で使用する反射屈折投影対物レンズの提供。 - 特許庁

To provide a catadioptric projection objective lens suitable for use in a vacuum ultraviolet (VUV) range having potential for very high image side numerical aperture which can be extended to values allowing immersion lithography at numerical apertures NA>1.例文帳に追加

ＮＡ＞１の開口数で液浸リソグラフィを可能にする値に達することができる非常に高い像側開口数の可能性を有する真空紫外（ＶＵＶ）領域で使用するのに適する反射屈折投影対物レンズを提供する。 - 特許庁