w CCとは 意味・読み方・使い方

In the formula, W is the weight (g) of the hydrogen storage alloy, V1 is the apparent volume (cc) of the negative electrode, and V2 is the volume (cc) of the conductive substrate.例文帳に追加

Ｘ＝Ｗ／（Ｖ_1 −Ｖ_2 ） 但し、Ｗは前記水素吸蔵合金の重量、Ｖ_1 は前記負極の見掛け体積、Ｖ_2 は前記導電性基板の体積を示す。 - 特許庁

The sprayed coating film 3 is composed of a W sprayed coating film or an Mo sprayed coating film subjected to degassing treatment at a heating temperature of 1,073 to 1,373 K in a reducing atmosphere after the thermal spraying formation, and also, the remaining amount of gas is ≤10 Torr cc/g.例文帳に追加

溶射膜３は溶射形成後に還元雰囲気中にて1073〜1373Kの加熱温度で脱ガス処理が施されたＷ溶射膜またはＭｏ溶射膜からなり、かつガス残存量が10Torr・cc/g以下とされている。 - 特許庁

(1) ST5%(warp)+ST 5%(weft)≤1.2 g/d, (2) AP≤0.5 cc/cm2/sec., (3) W≤205 g/cm2, (4) S(warp)+ S(weft)≤220 mm, (5) T≤0.30 mm.例文帳に追加

1)ＳＴ５％（経）＋ＳＴ５％（緯）≦１．２ｇ／ｄ、2)ＡＰ≦０．５ｃｃ／ｃｍ^^2 ／ｓｅｃ．、3)Ｗ≦２０５ｇ／ｍ^2 、4)Ｓ（経）＋Ｓ（緯）≦２２０ｍｍ、5)Ｔ≦０．３０ｍｍ。 - 特許庁

Width W and the overall length L of the first coil conductor 9, and the cut-off frequency fc when the common mode choke coil CC is employed as a common mode filter satisfy following relation; √(L/W)<(7.6651-fc)/0.1385.例文帳に追加

第１のコイル導体９の導体幅Ｗ及び全長Ｌと、コモンモードチョークコイルＣＣをコモンモードフィルタとして用いた場合のカットオフ周波数ｆｃとは、「√（Ｌ／Ｗ）＜（７．６６５１−ｆｃ）／０．１３８５」なる関係式を満たしている。 - 特許庁

When defined that M (mg/cc) is the volume of mercury, 9.9≥M≥7.7 is fulfilled, and 25-100 atom% of excessive halogen against the halogen contained in the metal halide is enclosed, here, the tube voltage is 200 V, class and the tube output power is 2000 W class - 3000 W class.例文帳に追加

水銀の量をＭ（ｍｇ／ｃｃ）としたとき、９．９≧Ｍ≧７．７であり、過剰のハロゲンが、ハロゲン化金属に含まれるハロゲンの２５〜１００原子％封入され、管電圧２００Ｖ級で管電力２０００Ｗ級〜３０００Ｗ級とした。 - 特許庁

In the woody golf club, a real loft angle is 15 degrees or more, and at the time of defining a club length as L (inches), head volume as W (cc) and the real loft angle as R (degrees), the following expression (A) is satisfied.例文帳に追加

リアルロフト角が１５度以上であって、クラブ長さをＬ（インチ）、ヘッド体積をＷ（ｃｃ）、リアルロフト角をＲ（度）としたとき、以下の式（Ａ）を満たすことを特徴とするウッド型ゴルフクラブである。 - 特許庁

An Ar gas flow rate, pressure in film formation, high-frequency power and a film formation period are set to 10 cc/min, 0.27 Pa, 200 W and 15 min, respectively, and the thickness of the film formed under the conditions is set to around 3,000 Å.例文帳に追加

Ａｒガス流量１０ｃｃ／ｍｉｎ、成膜時の圧力０．２７Ｐａ、高周波電力２００Ｗ、成膜時間１５分とし、この条件で成膜された膜圧は約３０００Åとなる。 - 特許庁