zirconium tetrachlorideとは 意味・読み方・使い方

A titanium tetrachloride feedstock containing the trace of impurities of zirconium tetrachloride or hafnium tetrachloride is contacted with a sufficient amount of titanium hydride for converting zirconium tetrachloride or hafnium tetrachloride to a low volatility compound.例文帳に追加

痕跡レベルの四塩化ジルコニウム又は四塩化ハフニウム不純物を含有している四塩化チタン供給原料を、四塩化ジルコニウムまたは四塩化ハフニウムをより低揮発性の化合物に変えるのに十分な量の水素化チタンと接触させるようにする。 - 特許庁

Titanium tetrachloride, zirconium tetrachloride, silicon tetrachloride and tin tetrachloride are added to glycol or glycol alcohol to prepare a metallic glycol alcohol chelate solution, and this solution, as a surface treating agent, is applied, e.g. on metals such as nickel, cobalt, iron and brass or glass to form a metallic or metallic oxide film.例文帳に追加

四塩化チタン、四塩化ジルコニウム、四塩化シリコン、四塩化錫をグリコールやグリコールアルコールに添加して、金属グリコールアルコールキレート液を作り、これを表面処理剤としてニッケル、コバルト、鉄、真鍮等の金属、ガラス等に塗布して、金属あるいは金属酸化物皮膜を形成する。 - 特許庁

A mixture is distilled to separate titanium tetrachloride from the low volatility zirconium or hafnium compound.例文帳に追加

得られた混合物を蒸留して、低揮発性のジルコニウムまたはハフニウム化合物から四塩化チタンを分離する。 - 特許庁

To provide an improved process for removing trace of Group IVb metal and Group Vb metal impurities from Group IVb metal tetrahalides, particularly a process for removing zirconium tetrachloride from titanium tetrachloride.例文帳に追加

ＩＶｂ族金属四ハロゲン化物から痕跡量のＩＶｂ族金属汚染物およびＶｂ族金属汚染物を除去する改良方法、特に四塩化チタンから四塩化ジルコニウムを除去する方法、を提供すること。 - 特許庁

ω-Alkenoic ester of 9-12 carbon atoms is subjected to the self- condensation reaction in the presence of titanium tetrachloride or zirconium tetrachloride into β-ketoacid ester and the resultant p-ketoacid ester is intramolecularly cyclized through the metathesis reaction to produce the objective an α-alkoxycarbonyl macrocyclic ketone.例文帳に追加

炭素数９〜１２を有するω-アルケン酸のエステルを四塩化チタン又は四塩化ジルコニウム及びトリアルキルアミンの存在下に縮合させてβ-ケト酸エステルとし、これをメタセシス反応により分子内環化することからなるα-アルコキシカルボニル大環状ケトンの製造方法。 - 特許庁

And the producing method of the alcohol vapor stop-off film by depositing silica, titania or zirconia on the surface of the inorganic porous body by chemical vapor deposition using oxygen and at least one kind selected from a group composed of silicon alkoxide, titanium alkoxide, titanium tetrachloride, silicon tetrachloride and zirconium tetrachloride is provided.例文帳に追加

２．シリコンアルコキシド、チタンアルコキシド、四塩化チタン、四塩化ケイ素および四塩化ジルコニウムからなる群より選択される少なくとも１種と酸素とを用いて、無機多孔体の表面に化学蒸着法によりシリカ、チタニアまたはジルコニアを堆積することを特徴とする上記項１に記載のアルコール蒸気阻止膜の製造方法。 - 特許庁

The concrete example of a preferable Lewis acid is a zinc compound such as zinc chloride, zinc bromide, zinc acetate, an aluminum compound such as aluminum chloride, aluminum bromide, diethylaluminum chloride, a boron compound such as boron trifluoride, boron trichloride, a titanium compound such as titanium tetrachloride, a zirconium compound such as zirconium chloride, and a tin compound such as tin tetrachloride, tin trichloride.例文帳に追加

好ましいルイス酸の具体例としては、塩化亜鉛、臭化亜鉛、酢酸亜鉛等の亜鉛化合物、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、塩化ジエチルアルミニウム等のアルミニウム化合物、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素等のホウ素化合物、４塩化チタン等のチタン化合物、塩化ジルコニウム等のジルコニウム化合物、４塩化スズ、三塩化スズ等のスズ化合物が挙げられる。 - 特許庁