依存適合性の英語

限界値を求めるために使用される作動特性量の第１の作動特性量を第２の作動特性量に依存して適合的に決定することによって該限界値を適合する。例文帳に追加

A first operation characteristic amount of the operation characteristic amount used for calculating the limit value is suitably determined depending on a second operation characteristic amount, and the limit value is fitted. - 特許庁

異なる駆動系への適合が容易であり、温度依存性の少ない同調アブソーバを備えたシャフト組立体を得ること。例文帳に追加

To obtain a shaft assembly with the tuned absorber which is easily applied to a different drive system and is of little temperature dependence. - 特許庁

ゴルフクラブの性能の調整・修正を、ゴルフシャフトに依存するが、シャフト先端部を曲折させて、かつ堅牢で、ゴルフルールに適合する構造にすること。例文帳に追加

To provide a golf club shaft with a strong structure due to a curve on its tip, conforming to the golf rules, since an adjustment and revision of performance of the golf club depend on the shaft. - 特許庁

宛先毎に変動する、収容局（交換機）から宛先端末間のアナログ伝送路長に依存した信号特性に適合できるようにした画像通信装置を提供する。例文帳に追加

To provide an image communication device capable of being suited to signal characteristics, depending on an analog transmission line length from a housing station (replacement unit) to a destination terminal that varies, varying on the destination. - 特許庁

生体においてニコチン性アセチルコリン受容体アンタゴニストとして作用するよう適合された製剤、および当該製剤を投与しニコチン依存症を治療・予防する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a preparation suited so as to act as nicotinic acetylcholine receptor antagonist in an organism and to provide a method for treating and preventing nicotine dependence by administering the preparation. - 特許庁

価電子帯と伝導帯との間に２ｅＶを超えるエネルギーギャップを有する半導体材料のジャンクション・バリア・ショットキ・ダイオードの温度依存性を制御する方法は、このダイオードの製造中に、意図された使用に適合するダイオードの特性の温度依存性を得るように、ダイオードのグリッド部のオン状態抵抗を調節することを含む。例文帳に追加

The method of regulating the temperature dependence of the junction barrier Schottky diode of a semiconductor material, having an energy band gap exceeding 2eV between a valence band and a conductive band includes a step of regulating an on-state resistance of the grid of a diode so as to obtain the temperature dependence of the diode characteristics that are suitable for the intended use, during the manufacturing of the diode. - 特許庁

通常のドライプロセスに加え、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した、ＤＯＦ、パターン倒れ、及び疎密依存性が改良された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition suitable not only to a normal dry process but also to an immersion process for a line width of 45 nm or less and improved in the DOF, pattern collapse and iso/dense bias, and to provide a resist film and a pattern forming method each using the composition. - 特許庁