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"plasma- processing"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 2308件
To achieve a plasma processing apparatus for achieving circularly polarized wave processing of microwaves to wide plasma processing conditions and obtaining plasma processing characteristics having improved axisymmetry, and to provide a processing method in the plasma processing apparatus using microwaves.例文帳に追加
マイクロ波を用いたプラズマ処理装置において、広いプラズマ処理条件に対してマイクロ波の円偏波化が達成され、軸対称性の良いプラズマ処理特性を得ることのできるプラズマ処理装置の実現と処理方法を提供する。 - 特許庁
To reduce the charge-up damage in a plasma processing method.例文帳に追加
プラズマ処理方法において、チャージアップダメージを減少させる。 - 特許庁
PLASMA PROCESSING METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTROOPTICAL DEVICE例文帳に追加
プラズマ処理方法及び電気光学装置の製造方法 - 特許庁
INDUCTION COUPLED PLASMA GENERATING SYSTEM AND PLASMA PROCESSING SYSTEM例文帳に追加
誘導結合型プラズマ生成装置およびプラズマ処理装置 - 特許庁
HOLDING APPARATUS, METHOD OF MANUFACTURING SAME, AND PLASMA PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
載置装置及びその製造方法並びにプラズマ処理装置 - 特許庁
ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA TREATMENT DEVICE, AND ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA PROCESSING METHOD例文帳に追加
大気圧プラズマ処理装置及び大気圧プラズマ処理方法 - 特許庁
PLASMA PROCESSING DEVICE AND METHOD, AND PLASMA GENERATING METHOD例文帳に追加
プラズマ処理装置、プラズマ処理方法及びプラズマ生成方法 - 特許庁
PLASMA PROCESSING DEVICE, TEMPERATURE CONTROL DEVICE, AND CONTROL METHOD THEREFOR例文帳に追加
プラズマ処理装置、温度制御装置及びその制御方法 - 特許庁
To provide plasma processing equipment for improving gas flow.例文帳に追加
ガスの流れを良好にするプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a plasma processing apparatus capable of performing plasma processing on a workpiece by uniformly controlling an electron density distribution.例文帳に追加
電子密度分布を均一に制御し、プラズマ処理を被処理体に施すことができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
PLASMA GENERATOR, PLASMA PROCESSOR, AND PLASMA PROCESSING METHOD例文帳に追加
プラズマ発生装置、プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 - 特許庁
PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOVOLTAIC DEVICE例文帳に追加
プラズマ処理装置及び光起電力素子の製造方法 - 特許庁
PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR REMOVING DUST IN THE APPARATUS例文帳に追加
プラズマプロセス装置およびその装置内のダスト除去方法 - 特許庁
To provide a plasma processing method and apparatus which are capable of subjecting only a very fine region to plasma processing.例文帳に追加
極めて微小な領域のみにプラズマ処理を行うことができるプラズマ処理方法及び装置を提供すること。 - 特許庁
PULSE TRANSMISSION LINE, PULSE SUPPLYING APPARATUS, AND PLASMA PROCESSING DEVICE例文帳に追加
パルス伝送線路、パルス供給装置及びプラズマ処理装置 - 特許庁
PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING INFORMATION RECORDING MEDIUM例文帳に追加
プラズマ処理装置及び情報記録媒体の製造方法 - 特許庁
PLASMA PROCESSING METHOD AND COMPUTER READABLE STORAGE MEDIUM例文帳に追加
プラズマ処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 - 特許庁
PLANAR ANTENNA MEMBER AND PLASMA PROCESSING APPARATUS EMPLOYING THE SAME例文帳に追加
平面アンテナ部材及びこれを用いたプラズマ処理装置 - 特許庁
PROCESSING DEVICE, PLASMA PROCESSING DEVICE, AND METHOD OF CLEANING THEM例文帳に追加
処理装置、プラズマ処理装置及びこれらのクリーニング方法 - 特許庁
To provide a plasma processing apparatus and a plasma processing method that improve processing precision of a surface to be processed.例文帳に追加
被処理面の加工精度を向上させることが可能なプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供すること。 - 特許庁
TEMPERATURE CONTROL MECHANISM, PLASMA PROCESSING APPARATUS AND TEMPERATURE CONTROL METHOD例文帳に追加
温調機構、プラズマ処理装置及び温調制御方法 - 特許庁
AUXILIARY APPARATUS AND METHOD OF ANALYZING LUMINESCENCE OF PLASMA PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
プラズマ処理装置の発光解析補助方法及び装置 - 特許庁
PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD THEREFOR, AND PLASMA CONTROL MEMBER例文帳に追加
プラズマ処理装置、プラズマ制御部材及びプラズマ処理方法 - 特許庁
EXHAUST GAS PROCESSING METHOD, AND PLASMA PROCESSING METHOD AND APPARATUS例文帳に追加
排気処理方法、プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 - 特許庁
PLASMA PROCESSING APPARATUS AND TREATMENT ROOM INTERNAL SURFACE STABILIZATION METHOD例文帳に追加
プラズマ処理装置および処理室内壁面安定化方法 - 特許庁
PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND ELECTRODE MEMBER FOR THE SAME例文帳に追加
プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置用の電極部材 - 特許庁
DEVICE FOR CONTROLLING PLASMA PROCESSING DEVICE SYSTEM, METHOD OF CONTROLLING PLASMA PROCESSING SYSTEM, AND STORAGE MEDIUM STORING CONTROL PROGRAM例文帳に追加
プラズマ処理装置システムの制御装置、プラズマ処理システムの制御方法および制御プログラムを記憶した記憶媒体 - 特許庁
GAS SUPPLYING METHOD OF PLASMA PROCESSING MACHINE AND DEVICE THEREFOR例文帳に追加
プラズマ加工機におけるガス供給方法およびその装置 - 特許庁
PLASMA PROCESSING APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD OF THIN-FILM SOLAR CELL例文帳に追加
プラズマ処理装置および薄膜太陽電池の製造方法 - 特許庁
After the plasma processing, an additional liner can be accumulated.例文帳に追加
プラズマ処理の後、付加的なライナを堆積することができる。 - 特許庁
CONTROL DEVICE OF PLASMA FORMING REGION AND PLASMA PROCESSING DEVICE例文帳に追加
プラズマ形成領域の制御装置及びプラズマ処理装置 - 特許庁
To achieve uniform plasma processing in a large range by optimizing a distribution of microwave regardless of change in a plasma processing condition.例文帳に追加
プラズマ処理条件の変更にかかわらずマイクロ波の分布を最適化して、広い範囲で均一なプラズマ処理を得る。 - 特許庁
MICROWAVE GENERATING UNIT AND PLASMA PROCESSING APPARATUS COMPRISING THE SAME例文帳に追加
マイクロ波発生ユニット及びそれを備えたプラズマ処理装置 - 特許庁
HIGH-FREQUENCY PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD例文帳に追加
高周波プラズマ処理装置及び高周波プラズマ処理方法 - 特許庁
DISCHARGE PLASMA PROCESSING DEVICE AND PROCESSING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
放電プラズマ処理装置及びそれを用いた処理方法 - 特許庁
ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA PROCESSING METHOD AND APPARATUS USING MICROWAVE例文帳に追加
マイクロ波を用いた大気圧プラズマ処理方法及び装置 - 特許庁
An apparatus 100 is provided for semiconductor wafer plasma processing.例文帳に追加
半導体ウエハーのプラズマ処理用装置100を開示する。 - 特許庁
To obtain a plasma processing system, capable of reducing charge up damage applied to a semiconductor element during plasma processing.例文帳に追加
プラズマ処理時の半導体素子に加わるチャージアップダメージを低減することができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a plasma processing method and a plasma processing device for processing a pattern that is finer in dimension than plasma.例文帳に追加
プラズマの寸法より微細なパターン処理を行なうためのプラズマ処理方法およびプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a plasma processing apparatus that easily evaluates a removed film thickness after plasma processing in a short time.例文帳に追加
プラズマ処理後の除去膜厚を短時間で簡易的に評価するプラズマ処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
MICROWAVE PLASMA PROCESSOR, PLASMA PROCESSING METHOD AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加
マイクロ波プラズマ処理装置、プラズマ処理方法及び電子部品 - 特許庁
VACUUM PLASMA PROCESSING APPARATUS HAVING CONNECTOR FOR ELECTRODE CONNECTION例文帳に追加
電極接続用コネクタを備えた真空プラズマ処理装置 - 特許庁
PLASMA EXCITING COIL, PLASMA EXCITATION DEVICE AND PLASMA PROCESSING DEVICE例文帳に追加
プラズマ励起用コイル、プラズマ励起装置、及びプラズマ処理装置 - 特許庁
MICROWAVE PLASMA PROCESSOR AND MICROWAVE PLASMA PROCESSING METHOD例文帳に追加
マイクロ波プラズマ処理装置およびマイクロ波プラズマ処理方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING EPITAXIAL SILICON FILM AND PLASMA PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
エピタキシャルSi膜の製造方法およびプラズマ処理装置 - 特許庁
MICROWAVE PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND METHOD OF SUPPLYING MICROWAVES例文帳に追加
マイクロ波プラズマ処理装置及びマイクロ波の給電方法 - 特許庁
PLASMA ETCHING METHOD, PLASMA ETCHING SYSTEM AND PLASMA PROCESSING SYSTEM例文帳に追加
プラズマエッチング方法、プラズマエッチング装置及びプラズマ処理装置 - 特許庁
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