「"plasma- processing"」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

PLASMA GENERATING DEVICE AND PLASMA PROCESSING DEVICE EQUIPPED THEREWITH例文帳に追加

プラズマ発生装置及びこの装置を備えたプラズマ処理装置 - 特許庁

PLASMA PROCESSING SYSTEM, MEMBER FOR GENERATING AND INTRODUCING PLASMA AND DIELECTRIC例文帳に追加

プラズマ処理装置、プラズマ生成導入部材及び誘電体 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus which generates homogeneous plasma.例文帳に追加

均一なプラズマを生成するプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus capable of minimizing gate breakdown by making charge-up distribution on a surface of the object of the plasma processing uniform, and a method of forming a stage of the plasma processing apparatus.例文帳に追加

プラズマ処理対象表面のチャージアップ分布を均一化してゲート破壊を少なくすることができるプラズマ処理装置およびプラズマ処理装置のステージ製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing system and a plasma processing method by which contamination to an object to be processed can be suppressed and sputtering and etching of the inside wall of a plasma processing chamber be also effectively prevented.例文帳に追加

被処理体に対するコンタミネーションを抑制しつつ、プラズマ処理室内壁のスパッタリングおよびエッチングをも効果的に防止したプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus that can prevent the reduction of processing gas concentration in a part to be processed of a workpiece that is subject to plasma processing, and to provide a plasma processing method.例文帳に追加

被処理体におけるプラズマ処理される被処理部分の処理ガスの濃度の低下を防止することができるプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a plasma processing method and a plasma processing apparatus, capable of suppressing oxidation of an object to be treated during plasma processing and improving the processing rate, without increasing the RF power.例文帳に追加

プラズマ処理時に、被処理体の酸化を低減すると共に、ＲＦパワーを上げずに、処理レートを向上させることができるプラズマ処理方法及びプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus and a plasma processing method that can suppress an increase in manufacturing cost of the apparatus, can perform detailed control of a plasma processing state, and can improve in-plane uniformity of plasma processing.例文帳に追加

装置の製造コストの増大を抑制することができるとともに、プラズマ処理状態の微細な制御を行うことができプラズマ処理の面内均一性の向上を図ることのできるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To rovide plasma processing equipment which can perform various plasma processing even in a process where the conditions of plasma processing are limited by its device configuration when at least two plasma processing steps are performed in the same plasma reaction chamber.例文帳に追加

同一のプラズマ反応室内において、少なくとも２のプラズマ処理工程を行う場合、その装置構成によりプラズマ処理の条件が制限される工程においてもより多様なプラズマ処理を行うことができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus which allows the improvement of the evenness of processing in a direction of a sample surface, and a plasma processing method.例文帳に追加

試料の面方向について処理の均一性を向上させたプラズマ処理装置またはプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

DISCHARGE PLASMA PROCESSING METHOD OF SHEET-LIKE BASE MATERIAL AND DEVICE THEREFOR例文帳に追加

シート状基材の放電プラズマ処理方法及びその装置 - 特許庁

To facilitate the attaching/detaching operation of an electrode of a plasma processing apparatus.例文帳に追加

プラズマ処理装置の電極の着脱操作を容易化する。 - 特許庁

To provide an electrode structure for a plasma processing system for surely suppressing arc discharge, and also to provide a plasma processing system provided with the same.例文帳に追加

アーク放電を確実に抑制するプラズマ処理装置の電極構造と、これを備えたプラズマ処理装置とを提供する。 - 特許庁

PLASMA PROCESSING DEVICE, EVALUATION METHOD AND CONTROL METHOD OF THE SAME例文帳に追加

プラズマ処理装置とその評価方法及びその制御方法 - 特許庁

PLASMA PROCESSING APPARATUS, FAULT DETECTION APPARATUS, AND FAULT DETECTION METHOD例文帳に追加

プラズマ処理装置、異常検出装置、及び異常検出方法 - 特許庁

PLASMA PROCESSING METHOD AND APPARATUS FOR PARTICLES例文帳に追加

粒状体に対するプラズマ処理方法およびプラズマ処理装置 - 特許庁

PLASMA PROCESSING SYSTEM, MEMBER FOR GENERATING AND INTRODUCING PLASMA, AND SLOT ELECTRODE例文帳に追加

プラズマ処理装置、プラズマ生成導入部材及びスロット電極 - 特許庁

PLASMA PROCESSING APPARATUS AND PRODUCTION METHOD OF THIN FILM USING IT例文帳に追加

プラズマ処理装置およびそれを用いた薄膜の製造方法 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus and a plasma processing method capable of optimizing a flow of process gas according to a process condition or the like.例文帳に追加

プロセス条件などに応じてプロセスガスの流れを最適化できるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

Damages made on the exposed surface of the lower layer metal film by the oxygen-based plasma processing are removed by performing hydrogen-based plasma processing.例文帳に追加

酸素系プラズマ処理によって下層金属膜の露出面にできたダメージを、水素系プラズマ処理を行って取り除く。 - 特許庁

To provide a plasma processing device further correctly managing a temperature condition, and a plasma processing method.例文帳に追加

本発明は、温度状態の管理をより正確に行うことができるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of optimizing the etch resistance of a substrate material in a plasma processing system including a plasma processing chamber.例文帳に追加

プラズマ処理チャンバを含むプラズマ処理システムにおいて、基材のエッチングに対する耐性を最適化する方法を提供する。 - 特許庁

The plasma processing equipment is used for the large area wafer processing.例文帳に追加

プラズマ処理装置は大面積ウェハー処理のために使用される。 - 特許庁

HIGH FREQUENCY APPLYING ELECTRODE AND PLASMA PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

高周波印加電極とこの電極を用いたプラズマプロセス装置 - 特許庁

To obtain a plasma processing apparatus which can stabilize discharge.例文帳に追加

放電の安定化を図り得るプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

PLASMA PROCESSING DEVICE, GAS SUPPLY MEMBER, AND ITS PRODUCTION PROCESS例文帳に追加

プラズマ処理装置とガス供給部材およびその製造方法 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus and plasma processing method capable of suppressing arcing while shortening tact time.例文帳に追加

タクトタイムの短縮化を図りつつ、アーク放電の発生を抑制し得るプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

PLASMA ETCHING APPARATUS AND METHOD OF FORMING INNER WALL IN PLASMA PROCESSING CHAMBER例文帳に追加

プラズマエッチング装置及びプラズマ処理室内壁の形成方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR PROCESSING SAMPLE BY PLASMA PROCESSING例文帳に追加

プラズマ処理による試料処理方法および試料処理装置 - 特許庁

PLASMA RESISTANT RUBBER COMPOSITION AND RUBBER MATERIAL FOR PLASMA PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

耐プラズマ性ゴム組成物及びプラズマ処理装置用ゴム材料 - 特許庁

INDUCTION COUPLED ANTENNA, AND PLASMA PROCESSING DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

誘導結合型アンテナおよびこれを採用したプラズマ処理装置 - 特許庁

POWER INTRODUCTION TERMINAL AND PLASMA PROCESSING DEVICE EQUIPPED WITH THE SAME例文帳に追加

電力導入端子およびそれを備えたプラズマ処理装置 - 特許庁

PART FOR PLASMA PROCESSING DEVICE, METHOD FOR IDENTIFICATION DISPLAY IMPRINTING例文帳に追加

プラズマ処理装置用部品及び識別表示の刻印方法 - 特許庁

METHOD OF MONITORING PLASMA PROCESSOR, PLASMA PROCESSING METHOD AND APPARATUS例文帳に追加

プラズマ処理装置の監視方法、プラズマ処理方法及び装置 - 特許庁

To improve uniformity of plasma processing on a substrate surface.例文帳に追加

基板表面におけるプラズマ処理の均一性を向上させる。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus and a plasma processing method capable of exciting a uniform plasma on a large-area substrate.例文帳に追加

大面積基板上に均一なプラズマを励起することが可能なプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing device which allows the processing of a large-size substrate.例文帳に追加

大型基板を処理できるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR IMPROVED PLASMA PROCESSING OF SUBSTRATE例文帳に追加

基板の改良されたプラズマ処理のための装置および方法 - 特許庁

PLASMA PROCESSING APPARATUS AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURED THEREBY例文帳に追加

プラズマ処理装置およびそれを用いて作製した半導体装置 - 特許庁

ETCHING METHOD, CLEANING METHOD, PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND MATCHING CIRCUIT例文帳に追加

エッチング方法、クリーニング方法、プラズマ処理装置及び整合回路 - 特許庁

PLASMA PROCESSOR AND PLASMA PROCESSING METHOD USING INVERTER CIRCUIT例文帳に追加

インバータ回路を用いたプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 - 特許庁

PLASMA PROCESSING METHOD AND PLASMA PROCESSOR USING MARX CIRCUIT例文帳に追加

マルクス回路を用いたプラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 - 特許庁

PLASMA PROCESSOR, PLASMA PROCESSING METHOD, AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR例文帳に追加

プラズマ処理装置、プラズマ処理方法および半導体製造方法 - 特許庁

MICROWAVE INTRODUCTION APPARATUS AND SURFACE WAVE PLASMA PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

マイクロ波導入装置および表面波励起プラズマ処理装置 - 特許庁

GAP OCCURRENCE PREVENTION STRUCTURE AND PLASMA PROCESSING APPARATUS HAVING THE SAME例文帳に追加

ギャップ発生防止構造及びこれを有するプラズマ処理装置 - 特許庁