「がい膜」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

さらに前記セラミックス膜が、多孔質膜であることが好ましい。例文帳に追加

The ceramic film is preferably a porous film. - 特許庁

膜側対向電極５ａは可撓性薄膜４に沿って広がっている。例文帳に追加

A film-side counter electrode 5a extends along the flexible thin film 4. - 特許庁

異方性光学膜の製造方法及び異方性光学膜、並びに光学素子例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING ANISOTROPIC OPTICAL FILM, ANISOTROPIC OPTICAL FILM, AND OPTICAL ELEMENT - 特許庁

プラズマＣＶＤにより成膜される膜の成膜において、低温成膜が可能であり、かつ低温成膜であっても膜中の残留物を低減することができる成膜方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a film deposition method of a film to be deposited by plasma CVD which is capable of performing low-temperature film deposition, and reducing residues in a film even in the low-temperature film deposition. - 特許庁

隔膜型電極用電解液、隔膜型電極及び隔膜型電極の安定化方法例文帳に追加

ELECTROLYTE FOR DIAPHRAGM TYPE ELECTRODE, THE DIAPHRAGM TYPE ELECTRODE, AND METHOD FOR STABILIZING THE SAME - 特許庁

酸化防止膜４３上には離型膜３８が成膜され、再生したコアとなる。例文帳に追加

A mold releasing film 38 is formed on the oxidation preventing film 43 to become a regenerated core. - 特許庁

第１、第２心材膜３の側壁上に側壁膜１３が形成される。例文帳に追加

A sidewall film 13 is formed on sidewalls of the primary and secondary core films 3. - 特許庁

シリコン窒化膜１２上に低誘電率膜１３が形成されている。例文帳に追加

A low-dielectric-constant film 13 is formed on the silicon nitride film 12. - 特許庁

親水性皮膜の下に耐腐食性皮膜２５が形成されている。例文帳に追加

A corrosion resistant coating film 25 is formed under the hydrophilic coating film. - 特許庁

この蛍光膜形成溶剤３２から蛍光膜を形成することができる。例文帳に追加

A fluorescent film can be formed from the fluorescent film forming solvent 32. - 特許庁

また、第２保護膜２６が第１保護膜２５の上に形成されている。例文帳に追加

A second protective film 26 is formed on the first protective film 25. - 特許庁

赤外線遮蔽膜形成用塗料および赤外線遮蔽膜付基材例文帳に追加

COATING FOR FORMING INFRARED LIGHT-SHADING FILM AND SUBSTRATE HAVING INFRARED LIGHT-SHADING FILM - 特許庁

ｎ型シリコン単結晶領域２の、拡散抵抗層７が形成された表面上の絶縁膜であるＳｉＯ膜４とＳｉＮ膜５の合計膜厚は、裏面上の絶縁膜であるＳｉＯＮ膜３の膜厚より薄い。例文帳に追加

The total film thickness of the SiO film 4 and the SiN film 5 being the insulation films formed on the surface of the dispersed resistance layer 7 of the n-type silicon single crystal region 2 is thinner than the film thickness of the SiON film 3 of the insulation film of the rear surface. - 特許庁

熱処理によりＴａＳｉＮ膜が形成されることにより、シリコン酸化膜とＴａＮ膜の密着力が向上し、膜はがれを防止する。例文帳に追加

By forming the TaSiN film through heat treatment, adhesion of the silicon oxide film and the Tan film is improved, and peeling off of films is prevented. - 特許庁

ＴａＮ膜が絶縁膜中のＨのＴａ膜への吸蔵を妨害することにより、Ｔａ膜の脆弱化が抑制される。例文帳に追加

Since the TaN film interrupts the occlusion of the H contained in the insulating film into the Ta film, the embrittlement of the Ta film is suppressed. - 特許庁

タッピンねじ用皮膜形成剤、同皮膜形成剤の調製方法、同皮膜形成剤を用いてタッピンねじの外周を被覆する皮膜を形成する皮膜形成方法、および、同皮膜形成剤にて形成された皮膜付きタッピンねじ例文帳に追加

TAPPING SCREW FILM FORMING AGENT, FILM FORMING AGENT PREPARING METHOD, FILM FORMING METHOD USING FILM FORMING AGENT TO FORM FILM COVERING OUTER PERIPHERY OF TAPPING SCREW, AND TAPPING SCREW WITH FILM FORMED BY FILM FORMING AGENT - 特許庁

キャパシタ部は、基板上に設けられた電極膜１１（下位電極膜）、当該電極膜１１に対向する電極膜１２（上位電極膜）、並びに、当該電極膜１１，１２間の誘電体膜１３からなる積層構造を有する。例文帳に追加

The capacitor has a lamination structure consisting of an electrode film 11 (lower electrode film) provided on the substrate, an electrode film 12 (upper electrode film) which counters the electrode film 11, and a dielectric film 13 between the electrode films 11 and 12. - 特許庁

第二工程では、被成膜面の一部１２を覆わないように、第一薄膜２０が成膜された基板１０を保持し、被成膜面の一部１２の上及び第一薄膜２０の上にさらに第二薄膜４０を成膜する。例文帳に追加

In a second process, the substrate 10 with the first thin film 20 formed is held so that the portion 12 of the film-formed face is not be covered, and a further second thin film 40 is formed on the portion 12 of the film-formed face and on the first thin film 20. - 特許庁

半導体単結晶膜１３は、膜厚が１００ｎｍ以下のエピタキシャル膜である。例文帳に追加

The semiconductor single-crystal film 13 consists of an epitaxial film whose film thickness is 100 nm or smaller. - 特許庁

ゲート電極３には、シリコン窒化膜である絶縁膜４及び絶縁膜５が形成されている。例文帳に追加

An insulating film 4 and an insulating film 5 of silicon nitride films are formed on the gate electrode 3. - 特許庁

また、水素バリヤ層３２の上下には、Ｏ_3 −ＴＥＯＳ膜からなる層間絶縁膜が成膜されている。例文帳に追加

Above and below the hydrogen barrier layer 32, interlayer insulating films 34 and 30 comprising O3-TEOS film are formed. - 特許庁

レジストカバー膜用処理ブロックにおいて、レジストカバー膜（保護膜）が形成される。例文帳に追加

A resist cover film (the protecting film) is formed in the processing block for the resist cover film. - 特許庁

有機酸化亜鉛膜、ならびにそれを用いたｎ型導電膜およびｐ型導電膜の形成方法例文帳に追加

FORMING METHOD OF ORGANIC ZINC OXIDE FILM, N-TYPE CONDUCTIVE FILM AND P-TYPE CONDUCTIVE FILM USING THE FILM - 特許庁

更に、このＮＤ膜３５上に、酸化物透明導電層としてＩＴＯ膜３６が成膜されている。例文帳に追加

An ITO film 36 as an oxide transparent conductive layer is further film-deposited on the ND film 35. - 特許庁

樹脂粒子13は、塗膜12の膜厚よりも粒径が大きいので塗膜12から頭出ししている。例文帳に追加

The resin particles 13 have bigger diameters than the film thickness of the coating film 12, and therefore, the particles 13 are protruded from the coating film 12. - 特許庁

絶縁膜の凹部内に形成された配線のバリアメタル膜の絶縁膜からの剥がれを防ぐ。例文帳に追加

To prevent a barrier metal film of wiring formed in a recess of an insulating film from being peeled off from the insulating film. - 特許庁

変位部５，６，９，１０は全て、下側のＳｉＮ膜と上側のＡｌ膜との２重膜からなる。例文帳に追加

All the displacement sections 5, 6, 9, and 10 are made of a double film of a lower SiN film and an upper Al film. - 特許庁

反射防止膜及び反射防止膜を用いた光学部品及び反射防止膜を用いた画像表示装置例文帳に追加

ANTIREFLECTING MEMBRANE, OPTICAL COMPONENT USING ANTIREFLECTING MEMBRANE, IMAGE FORMING APPARATUS USING ANTIREFLECTING MEMBRANE - 特許庁

又、ハードコート膜及び光学多層膜を光学製品基体と防汚膜の間に配置する。例文帳に追加

A hard coat film and an optical multilayer film are arranged between the optical product base and the antifouling film. - 特許庁

成膜対象物に形成される膜の膜質の低下が抑えられたスパッタリング装置を得ること。例文帳に追加

To obtain a sputtering apparatus which can suppress reduction in the quality of a film formed on a film deposition object. - 特許庁

形成される膜の膜質および膜厚が均一となるプラズマ処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma processing apparatus for uniformizing the film quality and film thickness of a film to be formed. - 特許庁

安定した金属酸化膜、特に酸化チタン膜の形成が可能な成膜方法を提供する。例文帳に追加

To provide a film deposition method by which a stable metallic oxide film, in particular, a titanium oxide film can be deposited. - 特許庁

薄膜の成膜装置およびこれを用いて薄膜が形成された液晶表示装置例文帳に追加

THIN FILM FORMING DEVICE, AND LIQUID DISPLAY DEVICE IN WHICH THIN FILM IS FORMED USING IT - 特許庁

大面積の基板上に膜を形成することが可能な成膜方法および成膜装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and an apparatus for film deposition for depositing a film on a substrate of large area. - 特許庁

光による成膜において、膜を所望の形状にすることができる成膜用基板を提供する。例文帳に追加

To provide a substrate for film-formation capable of being formed with a film shaped into a desired pattern in film-formation with light. - 特許庁

これにより、膜厚むらのない配向膜材料からなる塗布膜を得ることができる。例文帳に追加

Thereby a coated film composed of the alignment layer material without uneven film thickness is obtained. - 特許庁

塗布膜の膜厚分布の発生を抑制しつつ、塗布膜が形成される時間の短縮化を図る。例文帳に追加

To suppress the generation of film thickness distribution in an application film, and at the same time to shorten time for forming the application film. - 特許庁

両方とも有機膜である場合は、第３の膜として無機膜を設けることが好ましい。例文帳に追加

If they are both organic films, it is preferable to provide an inorganic film as a third film. - 特許庁

本発明は、膜の表面粗さが小さいフッ化物膜の成膜方法を提供すること目的とする。例文帳に追加

To provide a method for depositing a fluoride film having reduced surface roughness. - 特許庁

絶縁膜４と絶縁膜６とに挟まれるようにして、金属膜５が形成されている。例文帳に追加

A metal layer 5 is formed so as to be held between the insulating film 4 and the insulating film 6. - 特許庁

プラグ１１が埋め込まれた絶縁体膜の上にＳｉＯ_２膜１３を成膜する。例文帳に追加

An SiO_2 film 13 is formed on an insulating film embedded with plugs 11. - 特許庁

ここで、梁は、厚膜部４２と、厚膜部よりも厚みが薄い薄膜部４４とを備えている。例文帳に追加

The beam comprises a thick part 42 and a thin part 44 which is thinner than the thick part. - 特許庁

膜が除去された部分を熱酸化して厚いシリコン酸化膜９を形成し、窒化膜を除去する。例文帳に追加

The section where the film is removed is thermally oxidized to form a silicon oxide film 9, and the nitride film is removed. - 特許庁

膜構造における膜定着部の気密性、水密性向上のための上方掩覆用補助膜例文帳に追加

AUXILIARY FILM FOR UPPER COVER FOR ENHANCING GAS SEALABILITY AND WATER SEALABILITY OF FILM SECURING PORTION IN FILM STRUCTURE - 特許庁

膜厚の変更が容易な、線材表面塗膜の膜厚調整方法及び装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and an apparatus for adjusting the film thickness of a wire surface coating film in which the film thickness is easily changeable. - 特許庁