「ほうほうろん」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

インタフェース回路、論理回路検証方法、論理装置、情報処理装置例文帳に追加

INTERFACE CIRCUIT, LOGICAL CIRCUIT VERIFICATION METHOD, LOGICAL DEVICE, INFORMATION PROCESSING EQUIPMENT - 特許庁

スキージ装置、スクリーン印刷方法、ロータリースクリーン印刷方法、および孔版印刷方法例文帳に追加

SQUEEGEE DEVICE, SCREEN PRINTING PROCESS, ROTARY SCREEN PRINTING PROCESS AND STENCIL PRINTING PROCESS - 特許庁

原版データ作成方法、原版作成方法、露光方法および原版データ作成プログラム例文帳に追加

ORIGINAL DATA CREATION METHOD, ORIGINAL CREATION METHOD, EXPOSURE METHOD, AND ORIGINAL DATA CREATION PROGRAM - 特許庁

漏れ電流の測定方法、漏電機器の探査方法及び漏電要因判別方法例文帳に追加

MEASURING METHOD OF LEAKAGE CURRENT, SURVEY METHOD OF LEAKAGE APPARATUS, AND CAUSE-OF-LEAKAGE DETERMINATION METHOD - 特許庁

録音周波数特性測定方法、録音周波数特性変換方法および音声認識方法例文帳に追加

METHOD OF MEASURING RECORDING FREQUENCY CHARACTERISTIC, METHOD OF CONVERTING RECORDING FREQUENCY CHARACTERISTIC, AND VOICE RECOGNITION METHOD - 特許庁

検査用基板、検査用基板の製造方法、位置検出装置の検査方法、露光装置、および露光方法例文帳に追加

INSPECTING SUBSTRATE, ITS MANUFACTURING METHOD, METHOD OF INSPECTING POSITION DETECTING DEVICE, AND SYSTEM AND METHOD FOR EXPOSURE - 特許庁

３次元放射線画像を再構成するための方法（６０）を提供する。例文帳に追加

To provide a method 60 of reconstructing a three-dimensional radiographic image. - 特許庁

放送番組の録音方法、録音プログラム、及び記憶媒体例文帳に追加

RECORDING METHOD FOR BROADCAST PROGRAM, RECORDING PROGRAM, AND STORAGE MEDIUM - 特許庁

携帯端末装置及び携帯端末装置の情報漏洩確認方法例文帳に追加

PORTABLE TERMINAL DEVICE AND INFORMATION LEAKAGE CONFIRMING METHOD OF PORTABLE TERMINAL DEVICE - 特許庁

マスクパターン検査方法、露光条件検証方法、および半導体装置の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR INSPECTING MASK PATTERN, METHOD FOR VERIFYING EXPOSURE CONDITION, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

マスクパターンの補正方法、露光用マスク、露光用マスクの作製方法、露光用マスクを作製するための電子線描画方法、露光方法、半導体装置、及び、半導体装置の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, EXPOSURE MASK, METHOD FOR PRODUCING EXPOSURE MASK, ELECTRON BEAM DRAWING METHOD FOR PRODUCING EXPOSURE MASK, EXPOSURE METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

携帯用小物入れ、情報漏洩防護フィルム、カードケース及び情報漏洩防止板例文帳に追加

PORTABLE SMALL ARTICLE STORAGE CASE, INFORMATION LEAKAGE PREVENTING FILM, CARD CASE, AND INFORMATION LEAKAGE PREVENTING PLATE - 特許庁

マフラーカッター１７は、マフラーカッター本体１９と、ほうろう層２０とを備えている。例文帳に追加

The muffler cutter 17 is provided with a muffler cutter main body 19 and an enamel layer 20. - 特許庁

設備機器１は、制御情報６を受信して、この制御情報６を元に稼働する。例文帳に追加

The facility equipment 1 operates on the basis of control information 6 by receiving the control information 6. - 特許庁

表面検出装置、露光装置、表面検出方法、露光方法、及びデバイス製造方法例文帳に追加

SURFACE DETECTING DEVICE, EXPOSURE DEVICE, SURFACE DETECTING METHOD, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

ログ情報管理システム、ログ情報管理装置、ログ情報管理方法、ログ情報管理プログラム例文帳に追加

SYSTEM, DEVICE, METHOD, AND PROGRAM FOR MANAGING LOG INFORMATION - 特許庁

反応攪拌装置、反応分画濾過装置及び分画方法、生成方法、濾過方法例文帳に追加

DEVICE FOR REACTION AND AGITATION, DEVICE FOR REACTION, FRACTIONATION AND FILTRATION, AND METHOD FOR FRACTIONATION, METHOD FOR PREPARATION AND METHOD FOR FILTRATION - 特許庁

監査用ログ記録制御方法および情報漏洩監視プログラム例文帳に追加

AUDIT LOG STORAGE CONTROL METHOD AND INFORMATION LEAKAGE MONITORING PROGRAM - 特許庁

情動認識装置及び方法、ロボット装置の情動認識方法、ロボット装置の学習方法、並びにロボット装置例文帳に追加

EMOTION RECOGNITION DEVICE AND METHOD, EMOTION RECOGNITION METHOD OF ROBOT DEVICE, LEARNING METHOD OF ROBOT DEVICE AND ROBOT DEVICE - 特許庁

硝酸塩からなる新規な琺瑯スラリー用分散剤。例文帳に追加

This dispersant for an enamel slurry consists of nitrates. - 特許庁

撮像装置，画面表示方法，焦点調整方法，露出調整方法，およびコンピュータプログラム例文帳に追加

IMAGING APPARATUS, SCREEN DISPLAY METHOD, FOCUS ADJUSTING METHOD, EXPOSURE ADJUSTING METHOD, AND COMPUTER PROGRAM - 特許庁

半導体装置の製造方法、露光方法、パターン補正方法および半導体装置例文帳に追加

SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD, EXPOSURE METHOD, PATTERN CORRECTING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

図形データ分割方法、露光方法、パターン形成方法及び半導体装置例文帳に追加

GRAPHIC DATA DIVIDING METHOD, EXPOSURE METHOD, PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

マスク基板の検査方法、露光マスクの製造方法および半導体装置の製造方法例文帳に追加

INSPECTION METHOD OF MASK SUBSTRATE, MANUFACTURING METHOD OF EXPOSURE MASK, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

マスクブランクスの選択方法、露光マスクの形成方法、および半導体装置の製造方法例文帳に追加

SELECTING METHOD FOR MASK BLANKS, FORMING METHOD FOR EXPOSURE MASK, AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

光源強度分布設計方法、露光装置、露光方法、及び、半導体装置の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR DESIGNING LIGHT SOURCE INTENSITY DISTRIBUTION, ALIGNER, EXPOSURE METHOD, AND METHOD FOR MANUFATCURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

パタンデータ検証方法、パタンデータ作成方法、露光用マスクの製造方法およびプログラム例文帳に追加

METHOD FOR VERIFYING PATTERN DATA, METHOD FOR CREATING PATTERN DATA, METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK, AND PROGRAM - 特許庁

集積回路のパターン設計方法、露光マスクの作成方法、露光マスク、および集積回路装置の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR DESIGNING PATTERN OF INTEGRATED CIRCUIT, METHOD FOR FORMING EXPOSURE MASK, EXPOSURE MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING INTEGRATED CIRCUIT DEVICE - 特許庁

情報漏えいファイル検知装置、及びその方法とプログラム例文帳に追加

INFORMATION LEAKAGE FILE DETECTOR AND METHOD AND PROGRAM OF THE SAME - 特許庁

印刷処理装置、プログラムおよび情報漏洩防止方法例文帳に追加

PRINT PROCESSOR, PROGRAM, AND METHOD OF PREVENTING LEAKAGE OF INFORMATION - 特許庁

情報機器及び情報機器周辺装置の情報漏洩防止装置例文帳に追加

DEVICE FOR PREVENTING INFORMATION LEAKAGE OF INFORMATION EQUIPMENT AND INFORMATION EQUIPMENT PERIPHERAL DEVICE - 特許庁

過失による情報漏えいを防止する計算機システム及び方法例文帳に追加

COMPUTER SYSTEM AND METHOD FOR PREVENTING INFORMATION LEAKAGE BY MISTAKE - 特許庁

フォトマスクの搬送方法、露光方法及び露光処理システム、並びに半導体装置の製造方法例文帳に追加

CARRYING METHOD OF PHOTOMASK, EXPOSURE METHOD AND EXPOSURE TREATMENT SYSTEM, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

マスクパターン作成方法、露光データ作成方法および半導体装置の製造方法例文帳に追加

MASK PATTERN CREATING METHOD, EXPOSURE DATA CREATING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

マスク基板、フォトマスク、露光方法、露光装置の管理方法、及びデバイス製造方法例文帳に追加

MASK SUBSTRATE, PHOTOMASK, EXPOSURE METHOD, CONTROL METHOD FOR EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

基板保持チャックとその製造方法、露光方法、半導体装置の製造方法及び露光装置例文帳に追加

SUBSTRATE HOLDING CHUCK AND ITS MANUFACTURE, METHOD OF EXPOSURE, MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND ALIGNER - 特許庁

波面収差計測装置、波面収差計測方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法例文帳に追加

WAVEFRONT ABERRATION MEASURING DEVICE, WAVEFRONT ABERRATION MEASURING METHOD, EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE - 特許庁

半導体集積回路装置の製造方法、露光方法およびフォトマスクの搬送方法例文帳に追加

MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE, EXPOSURE METHOD AND TRANSPORTING METHOD FOR PHOTO MASK - 特許庁

パタ—ン露光方法、露光装置、核酸アレイの形成方法及びペプチドアレイの形成方法例文帳に追加

PATTERN EXPOSURE METHOD, EXPOSURE DEVICE, FORMATION OF NUCLEIC ACID ARRAY, AND FORMATION OF PEPTIDE ARRAY - 特許庁

ステンシルマスクおよびその製造方法、露光装置および露光方法、並びに電子装置の製造方法例文帳に追加

STENCIL MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD, ALIGNER AND EXPOSURE METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE - 特許庁

洗浄方法、洗浄装置、露光方法、露光装置およびデバイス製造方法。例文帳に追加

CLEANING METHOD, CLEANING APPARATUS, EXPOSURE METHOD, EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

基板処理装置、基板処理方法、露光装置及び露光方法並びにデバイス製造方法例文帳に追加

SUBSTRATE TREATING APPARATUS, SUBSTRATE TREATING METHOD, EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

階調分解能決定方法、アライメント方法、露光装置、及び、デバイスの製造方法例文帳に追加

DETERMINATION METHOD OF GRADATION RESOLUTION, ALIGNMENT METHOD, EXPOSURE APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE - 特許庁

露光マスク基板製造方法、露光マスク製造方法、及び半導体装置製造方法例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING EXPOSURE MASK SUBSTRATE, METHOD OF MANUFACTURING EXPOSURE MASK, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

露光方法、露光装置、デバイス製造方法、リソグラフィシステム及びメンテナンス方法例文帳に追加

EXPOSURE METHOD, EXPOSURE DEVICE, DEVICE MANUFACTURING METHOD, LITHOGRAPHY SYSTEM, AND MAINTENANCE METHOD - 特許庁