「研磨用鉄砥」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

高品質の研磨面を保ちながらしかも高速研磨性により研磨工程の生産性の向上及び低コスト化が可能な安価な酸化水酸化鉄(III) 粉末を砥粒とする研磨用組成物を提供すること。例文帳に追加

To obtain an abrasive composition which uses, as abrasive grains, inexpensive iron (III) hydroxide oxide powders capable of improving the productivity in the abrading step and reducing costs by the high-speed abrasive properties while retaining abraded surfaces of high quality. - 特許庁

鉄を含む磁性流体２１中に研磨砥粒を含有させた磁性研磨スラリー２を用いて、マスクブランクス用基板１の表面を研磨した後、塩酸を含む洗浄液６を用いて、マスクブランクス用基板１の表面を洗浄する方法としてある。例文帳に追加

After the surface of a mask blank substrate 1 is polished by using magnetic polishing slurry 2 prepared by incorporating polishing abrasive grains into a magnetic fluid 21 containing iron, the surface of the mask blank substrate 1 is cleaned by using a cleaning liquid 6 containing hydrochloric acid. - 特許庁

（Ａ）酸化剤、（Ｂ）有機酸、（Ｃ）砥粒、及び（Ｄ）三価の鉄化合物を０．１ｐｐｂから５０ｐｐｍの範囲で含む、半導体デバイスの配線工程における化学的機械的研磨に用いられる金属用研磨液。例文帳に追加

The polishing solution for metal used for chemical mechanical polishing in the wiring process of a semiconductor device contains (A) an oxidizing agent, (B) an organic acid, (C) abrasive grains and (D) a trivalent iron compound in the range of 0.1 ppb-50 ppm. - 特許庁

水性の砥粒無含有組成物は、非鉄金属を含有するパターン化半導体ウエハーを化学機械研磨するのに有用である。例文帳に追加

An aqueous composition containing no abrasive grain is useful for chemically and mechanically polishing a patterned semiconductor wafer containing nonferrous metal. - 特許庁

本発明の研磨用組成物には、砥粒、鉄イオン源、及び鉄イオンをキレートする酸（好ましくはクエン酸又は１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸）が配合されている一方、過酸化水素は含まれていない。例文帳に追加

A composition for polishing includes abrasive grains, an iron ion source, and an acid (preferably, citric acid or 1-hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid) which chelates with iron ions, but does not contain hydrogen peroxide. - 特許庁