「露光ステージ」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

露光機のワークステージ及び露光方法例文帳に追加

WORK STAGE OF ALIGNER AND EXPOSURE METHOD - 特許庁

露光装置及び走査露光方法、並びにステージ装置例文帳に追加

ALIGNER, SCANNING EXPOSURE METHOD, AND STAGE DEVICE - 特許庁

ステージ装置、露光装置、及び露光方法例文帳に追加

STAGE APPARATUS, EXPOSURE SYSTEM, AND EXPOSING METHOD - 特許庁

投影露光装置及びステージ装置、並びに露光方法例文帳に追加

PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND STAGE UNIT, AND EXPOSURE METHOD - 特許庁

ステージ制御装置及びその方法、ステージ装置並びに露光装置例文帳に追加

APPARATUS AND METHOD FOR STAGE CONTROL, STAGE APPARATUS AND EXPOSURE APPARATUS - 特許庁

ステージ装置、ステージ制御装置の設計方法、及び露光装置例文帳に追加

STAGE DEVICE, DESIGNING METHOD FOR STAGE CONTROLLER, AND EXPOSURE DEVICE - 特許庁

ステージベース、ステージ装置、露光装置及びデバイスの製造方法例文帳に追加

STAGE BASE, STAGE APPARATUS, EXPOSURE EQUIPMENT, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

ステージ装置、露光装置、およびステージ装置の制御方法例文帳に追加

STAGE APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND CONTROL METHOD OF THE STAGE APPARATUS - 特許庁

ステージ装置、ステージ装置の調整方法及び露光装置例文帳に追加

STAGE APPARATUS, STAGE APPARATUS ADJUSTING METHOD, AND EXPOSURE EQUIPMENT - 特許庁

基板ステージ装置および該基板ステージ装置を用いた半導体露光装置例文帳に追加

SUBSTRATE STAGE DEVICE AND SEMICONDUCTOR EXPOSURE DEVICE USING THE SAME - 特許庁

ワークステージ及びそのワークステージを備えた露光装置例文帳に追加

WORK STAGE AND EXPOSURE DEVICE PROVIDED WITH THE SAME - 特許庁

ステージ装置、露光装置及びステージ装置のメンテナンス方法例文帳に追加

STAGE DEVICE AND METHOD FOR MAINTAINING ALIGNER AND STAGE DEVICE - 特許庁

ステージ装置、露光装置、及びステージ装置の制御方法例文帳に追加

STAGE DEVICE, EXPOSURE DEVICE, AND CONTROL METHOD FOR THE STAGE DEVICE - 特許庁

ステージ装置、露光装置、及び前記ステージ装置を用いた位置決め方法例文帳に追加

STAGE DEVICE AND ALIGNER AND POSITIONING METHOD USING THE STAGE DEVICE - 特許庁

ワークステージおよびこのワークステージを使った露光装置例文帳に追加

WORKPIECE STAGE AND EXPOSURE APPARATUS USING THE WORKPIECE STAGE - 特許庁

ステージ装置、露光装置、およびステージ装置の制御方法例文帳に追加

STAGE DEVICE, EXPOSURE DEVICE, AND METHOD OF CONTROLLING THE STAGE DEVICE - 特許庁

ステージ制御方法、ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法例文帳に追加

METHOD OF CONTROLLING STAGE, STAGE DEVICE, ALIGNER, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE - 特許庁

移動ステージ装置、移動ステージの移動方法及び露光装置例文帳に追加

MOVING STAGE DEVICE, METHOD FOR MOVING MOVING STAGE AND EXPOSURE DEVICE - 特許庁

ステージ位置制御方法、ステージ位置制御装置、および投影露光装置例文帳に追加

STAGE POSITION CONTROL METHOD, STAGE POSITION CONTROL APPARATUS AND PROJECTION ALIGNER - 特許庁

ワークステージおよびこのワークステージを使った露光装置例文帳に追加

WORK STAGE AND EXPOSURE APPARATUS USING THE WORK STAGE - 特許庁

ワークステージおよびこのワークステージを使った露光装置例文帳に追加

WORK STAGE AND EXPOSURE DEVICE USING WORK STAGE - 特許庁

ステージ制御方法、ステージ制御装置、露光方法及び露光装置並びにデバイス製造方法例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING STAGE, METHOD AND APPARATUS FOR EXPOSURE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

ステージ制御方法、露光方法、ステージ制御装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法例文帳に追加

STAGE CONTROL METHOD, EXPOSURE METHOD, STAGE CONTROL UNIT, EXPOSURE DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

ステージ装置、ステージ位置管理方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法例文帳に追加

STAGE APPARATUS, STAGE POSITION-CONTROLLING METHOD, EXPOSURE METHOD AND PROJECTION ALIGNER, AND DEVICE- MANUFACTURING METHOD - 特許庁

露光方法、基板ステージ、露光装置、及びデバイス製造方法例文帳に追加

EXPOSURE METHOD, SUBSTRATE STAGE, EXPOSURE DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

露光装置、露光装置のステージ製造方法及びデバイス製造方法例文帳に追加

EXPOSURE EQUIPMENT, STAGE MANUFACTURING METHOD OF THE SAME, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

支持装置、ステージ装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法例文帳に追加

SUPPORTING SYSTEM, STAGE SYSTEM, EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

ステージ装置、計測装置及び計測方法、露光装置及び露光方法例文帳に追加

STAGE DEVICE, MEASURING APPARATUS AND METHOD, ALIGNER AND EXPOSURE METHOD - 特許庁

ステージ装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法例文帳に追加

STAGE SYSTEM, EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

ステージ駆動方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法例文帳に追加

STAGE-DRIVING METHOD, METHOD AND ALIGNER, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE - 特許庁

温度調節装置、ステージ装置、露光装置および露光方法例文帳に追加

TEMPERATURE-REGULATING DEVICE, STAGE APPARATUS, EXPOSURE DEVICE AND EXPOSURE METHOD - 特許庁

ステージ装置、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法例文帳に追加

STAGE DEVICE, STEPPER, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

ステージ装置とホルダ、および走査型露光装置並びに露光装置例文帳に追加

STAGE APPARATUS AND HOLDER, SCANNING ALIGNER AND ALIGNER - 特許庁

ステージ装置、露光装置、露光方法およびデバイス製造方法例文帳に追加

STAGE APPARATUS, ALIGNER, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

基板保持装置、ステージ装置及び露光装置並びに露光方法例文帳に追加

SUBSTRATE RETAINER, STAGE DEVICE, EXPOSING DEVICE AND EXPOSING METHOD - 特許庁

露光方法、基板ステージ、露光装置、及びデバイス製造方法例文帳に追加

PHOTOLITHOGRAPHY METHOD, SUBSTRATE STAGE, PHOTOLITHOGRAPHY MACHINE, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE - 特許庁

ステージ装置とその位置制御方法および露光装置並びに露光方法例文帳に追加

STAGE SYSTEM AND METHOD OF CONTROLLING POSITION THEREOF, AND ALIGNER AND METHOD OF EXPOSURE - 特許庁

露光工程における露光位置で、ステージ駆動特性を計測する。例文帳に追加

The stage drive performance is measured at the exposure position in the exposure step. - 特許庁

マスク、ステージ装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法例文帳に追加

MASK, STAGE DEVICE, ALIGNER, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

静電チャック、ステージ装置及び露光装置例文帳に追加

ELECTROSTATIC CHUCK, STAGE DEVICE, AND EXPOSURE APPARATUS - 特許庁

干渉計システム、ステージ装置及び露光装置例文帳に追加

INTERFEROMETER SYSTEM, STAGE APPARATUS, AND EXPOSURE APPARATUS - 特許庁

電子線露光装置用片持ちレチクルステージ例文帳に追加

CANTILEVER RETICLE STAGE FOR ELECTRON BEAM EXPOSURE SYSTEM - 特許庁

干渉計、ステージ装置、及び露光装置例文帳に追加

INTERFEROMETER, STAGE APPARATUS, AND EXPOSURE SYSTEM - 特許庁

ステージ装置、半導体検査装置、及び半導体露光装置例文帳に追加

STAGE DEVICE, SEMICONDUCTOR INSPECTION APPARATUS, AND SEMICONDUCTOR ALIGNER - 特許庁

ステージ装置、測定方法、及び電子ビーム露光装置例文帳に追加

STAGE APPARATUS, MEASUREMENT METHOD, AND ELECTRON BEAM EXPOSURE APPARATUS - 特許庁