「"露光ステージ"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

そして、露光ステージ６を上昇させてワーク２をスペーサー１を介してフォトマスク９に押し当てる。例文帳に追加

The exposure stage 6 is raised so that the work 2 presses against a photomask 9 by way of the spacer 1. - 特許庁

露光ステージでのその後の位置合せは、マスク・テーブルに対するマスクの位置が分かっている場合、より短い時間で行うことができる。例文帳に追加

When the position of the mask relative to the mask table is known, subsequent alignment on the exposure stage is performed in a shorter time. - 特許庁

露光ステージの第２軸（Ｙ軸）方向の大きさがフォトマスクの大きさに対応した大きさであること。例文帳に追加

The size in a second axial (Y-axial) direction of the exposing stage is set corresponding to the size of a photomask. - 特許庁

露光装置は、露光処理を実行するための露光ステージ４とアライメント計測を実行するためのアライメントステージ７を有する。例文帳に追加

The aligner has an exposure stage 4 used for executing exposure treatment, and an alignment stage 7 used for executing alignment and measurement. - 特許庁

本実施の形態では、露光ステージ３６の下面のうち、その周辺部分に遮熱部材８０を取り付けるようにしている。例文帳に追加

In this embodiment, the heat shielding member 80 is mounted on the peripheral portion of the under surface of the exposure stage 36. - 特許庁

液浸露光装置１００は、露光ステージ１０、外周ステージ２０、投影レンズ３０および駆動部４０を備えている。例文帳に追加

The immersion exposure apparatus 100 includes the exposure stage 10, the outer peripheral stage 20, a projection lens 30, and a driving unit 40. - 特許庁

また、露光ステージ１８から基板Ｆを剥離する場合、排気孔７４より所定量の空気を排出させ、吸着状態を構成的に解除する。例文帳に追加

In peeling the substrate F from the exposure stage 18, the prescribed amount of air is ejected from exhaust holes 74 to structurally release the absorption state. - 特許庁

そして、露光ステージ３６の下面（移動ステージ４０と対向する面）の一部に遮熱部材８０を取り付ける。例文帳に追加

A heat shielding member 80 is mounted on a part of an under surface (the surface opposite the moving stage 40) of the exposure stage 36. - 特許庁

前記温度設定部は、前記ステージ情報に基づいて、前記複数の露光ステージそれぞれについて個別に、前記加熱温度の設定を行う。例文帳に追加

The temperature setting part sets the heating temperature individually for each of the plurality of exposure stages based on the stage information. - 特許庁

テープ６の中央領域１７と側辺領域１９とを露光ステージ２に固定することができる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure device in which a center region 17 and a side region 19 of a tape 6 can be fixed to an exposure stage 2. - 特許庁

ガイド部材14に吸着機能を持たせ、乾板13を露光ステージ12上の基準位置に正確に装填する。例文帳に追加

A guide member 14 has an attracting function, and a dry plate 13 is accurately mounted at a reference position on an exposure stage 12. - 特許庁

露光ステージ１６を移動しながら撮影すると、撮影画像は撮影時のシャッタースピード等にもよるが、長円形マークＭＬとなる。例文帳に追加

In this image recording device, a photographed image becomes an elliptical marking ML by photographing an image while moving an exposure stage 16, although depending on a shutter speed at the time of photographing or the like. - 特許庁

各種の露光装置に使用できる露光ステージ装置であって、露光装置に使用した該露光ステージは、露光基板である凹型ウェハ又は凸型ウェハの変形した変形ウェハ６０をＸ軸、Ｙ軸とも上下に傾斜できる微調整部１３０を基板ホルダー１５０裏面に設けた。例文帳に追加

The exposure stage device is usable for various exposure devices, and an exposure stage used for an exposure device is constituted by providing a fine adjustment section 130, capable of tilting the deformed wafer 60 deformed into the concave wafer or convex wafer as a substrate to be exposed, vertically along both an X axis and a Y axis on a reverse surface of a substrate holder 150. - 特許庁

ついで、ワーク搬送機構２３が、ワークＷを露光ステージＷＳに搬送し、マスクマークＭＡＭとワークマークＷＡＭの位置が一致するように位置合わせを行ない、露光ステージＷＳを移動させながら、ワークＷ上の各露光領域を順次露光する。例文帳に追加

Then a work conveying mechanism 23 conveys the work W to an exposure stage WS and performs alignment so that positions of mark marks MAM and work marks WAM are aligned with each other, and while the exposure stage WS is moved, each exposure region on the work W is exposed in sequence. - 特許庁

パレット１２を位置決めする位置決め部を露光ステージ１１に設けるとともに、位置決め部に係合する係合部を有するパレット１２上に基板ＢＰを載置し、パレット１２を露光ステージ１１上に位置決めして基板ＢＰを露光する。例文帳に追加

The substrate BP is exposed by arranging a positioning portion to position a palette 12 on an exposure stage 11, at the same time putting the substrate BP on the palette 12 having an engaging portion which engages to the positioning portion, and positioning the palette 12 on the exposure stage 11. - 特許庁

ウエハを載置する露光ステージを複数有する露光機から、加熱対象ウエハの露光時に用いられた前記露光ステージを特定する情報を、ステージ情報として取得するステージ情報取得部と、前記加熱対象ウエハの加熱を行う加熱装置の加熱温度を設定する温度設定部とを具備する。例文帳に追加

The device for manufacturing a semiconductor device includes: a stage information acquisition part for acquiring, as stage information, information for specifying an exposure stage used in exposing a object wafer to be heated from an exposure unit including a plurality of exposure stages each used for mounting a wafer thereon; and a temperature setting part for setting the heating temperature of a heating device for heating the object wafer. - 特許庁

投影露光装置１０は、露光光を用いてフォトマスク１４に形成された透光パターンを露光ステージ３１上の基板３２に投影する露光光学系を有する。例文帳に追加

The project exposure device 10 has an exposure optical system that projects a projected pattern formed on a photomask 14 on a substrate 32 on exposure stage 31 with exposure light. - 特許庁

液浸液を液浸露光装置の外周ステージから露光ステージに向かって移動させる際に、有機膜の外周端縁が基板から剥離することを防止する。例文帳に追加

To prevent the outer peripheral edge of an organic film from peeling from a substrate when an immersion liquid is moved from the outer peripheral stage to the exposure stage of a liquid immersion exposure apparatus. - 特許庁

生産性に影響を与えずに露光ステージ及びフォトマスクの温度変動を抑制し、製品のトータルピッチの精度や転写精度のバラツキを低減させる露光方法及び露光装置を提供するものである。例文帳に追加

To provide an exposure method and an exposure device that suppress temperature fluctuation of an exposure stage and a photo mask without affecting productivity and reduce variations in accuracy of total pitch of a product and transfer accuracy. - 特許庁

露光装置は、所定幅を有するロールフィルム状の被露光体Ｔを露光ステージ５０上に送り込んで、マスクの回路パターンを被露光体に露光する露光装置である。例文帳に追加

The exposure apparatus feeds a body T to be exposed in a roll film shape having a prescribed width onto an exposure stage 50 and exposes the circuit pattern of a mask to the body to be exposed. - 特許庁

露光ステージをステップ移動させながら、近接露光の間隔の設定を行っても、着色画素などに微小な共通欠陥が偏在して発生しないＸＹステップ露光装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an XY step exposure device which is free of maldistribution of fine common defects in colored pixels etc., even when intervals of proximity exposure are set while an exposure stage is moved in steps. - 特許庁

電子ビームＥＢは、収束用の電子レンズや各種の偏向器や成形アパーチャ等（図示せず）を介する電子光学系１２、さらにマスク１３を介して露光ステージ１６に支持された基材１７に照射される。例文帳に追加

The electron beam EB is projected through an electron optical system 12 comprising a converging electron lens, various deflectors and a shaping aperture (not shown), and through a mask 13 to a substrate 17 supported on an exposure stage 16. - 特許庁

半導体、液晶露光装置において、ＰＷＭ変調用モータードライバーのリップルノイズによる露光ステージあるいは徐振ダンパーの異常振動を防止する。例文帳に追加

To protect an exposure stage or a vibration-proof damper against abnormal vibrations caused by the ripple noises of a PWM pulse width modulation motor driver in an aligner used for manufacturing semiconductors and liquid crystals. - 特許庁

透明膜を露光する際に、下地となる電極配線や露光ステージの溝等の存在により露光の光が局所的に強度が変動する反射光となってレジストを露光するため、高精細なパターニングができない。例文帳に追加

To solve such a problem that when a transparent film is exposed, high-definition patterning cannot be performed since resist is exposed as exposure light becomes reflected light which locally varies in intensity owing to presence of electrode wiring, the groove of an exposure stage, etc., as a base. - 特許庁

記録ヘッドの位置毎に露光ステージの移動によって発生するピッチング振動による位置ずれを補正し、記録媒体に描画される画像の歪みを低減させることができる露光装置を得る。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus in which positional shift due to pitching vibration caused by the movement of an exposure stage is corrected in every position of a recording head and distortion in an image to be drawn on a recording medium can be decreased. - 特許庁

この実施形態では露光ステージ１６前段のマスク１３が、ステージ１６上のウェハ照射面に対して所定角度θ傾けられた配置となっている。例文帳に追加

The mask 13 on the prestage of the exposure stage 16 is inclining by a specified angle θ against the irradiating surface of a wafer on the stage 16. - 特許庁

駆動部４０は、露光ステージ１０の周囲に配置された外周ステージ２０を、有機膜５０が上面に設けられた基板５２に対して昇降方向に相対駆動する。例文帳に追加

The driving unit 40 drives the outer peripheral stage 20 arranged at the periphery of the exposure stage 10 in an elevating/lowering direction relatively to a substrate 52 having the organic film 50 provided on its upper surface. - 特許庁

露光ステージを複数備えた露光装置を使用した場合であっても、形成されるパターンの寸法のずれを抑制することのできる、半導体装置の製造装置、その制御方法、及びその制御プログラムを提供する。例文帳に追加

To provide: a device for manufacturing a semiconductor device, the device suppressing deviation of a dimension of a pattern to be formed even when an exposure device having a plurality of exposure stages is used; a method of controlling the same; and a program for controlling the same. - 特許庁

露光装置を構成する各種機器のうち、アライメントステージ２１Ａ、ウエハ供給アーム２１ｃ、露光ステージ１１、ウエハ回収アーム２１ｄの四つのユニットを結び、ウエハが循環可能な搬送経路を想定する。例文帳に追加

Four units, an alignment state 21A, a wafer feed arm 21c, an exposure stage 11, and a wafer recovery arm 21d, out of various equipments comprising an exposure system are connected together into a transfer route in which a wafer can be circulated. - 特許庁

マザーガラス基板が更に大型化しても、露光ステージの平面度の精度を保持し、移動速度を確保し、位置精度を確保した、カラーフィルタ製造用のＸＹステップ露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an XY step exposure device for color filter production, which can maintain the accuracy of flatness of an exposing state even if a mother glass substrate is further enlarged, and ensure a moving speed and positional accuracy. - 特許庁

露光ステージ内でパターンマスクの温度制御を行う冷却水を、ステージ内の被露光基板載置面の全面にわたって設けた冷却水槽に常に流すこと。例文帳に追加

Over the entire surface just below a substrate placement surface to be exposed inside a stage 1, a cooling water bath 2 of depth, if applicable, about 5-10 mm is provided, where a cooling water flows. - 特許庁

マークデータメモリ６８に記憶するマークデータを、カメラ部３８の撮影環境（シャッタースピード、露光ステージ１６の移動速度等）を加味した画像ＭＬ’とした。例文帳に追加

Marking data stored in marking data memory 68 are given as an image ML' for which photographing environments (shutter speed, the moving velocity of the exposure stage 16 and the like) of a camera part 38 are taken into consideration. - 特許庁

露光ステージに光の反射率が異なる部分があっても、高精度のパターン形成を可能とし、液晶表示装置の表示ムラの発生を防止する。例文帳に追加

To prevent the occurrence of the display irregularity of a liquid crystal display by accurately forming a pattern even when a part having a different light reflectance is present on an exposure stage. - 特許庁

ライトバルブに液晶パネル３０を用いた露光装置１０であって、液晶パネル３０と、露光ステージ５０上のメディア１に至る光路上に、遮蔽板４２を備えたシャッター機構４０が設けられている。例文帳に追加

This exposure device 10 using a liquid crystal panel 30 as a light valve is provided with the panel 30 and a shutter mechanism 40 equipped with a shielding plate 42 on an optical path leading to the medium 1 on an exposure stage 50. - 特許庁

ここで、露光ステージ４とアライメント計測ステージ７はそれぞれ独立に動作可能であり、それぞれウエハが保持された保持ユニットを装着して露光処理とアライメント計測処理を独立して実行する。例文帳に追加

The exposure stage 4 and alignment stage 7 can operate and execute the exposure treatment and alignment and measurement in a state where holding units for wafers are respectively fitted to the stages 4 and 7, independently. - 特許庁

チャック搬送ロボット１２は、アライメントステージ７に装着された保持ユニットを、ウエハが保持、固定された状態を保ちながら露光ステージ４へ移動し、装着させる。例文帳に追加

A chuck transporting robot 12 fits a holding unit fitted to the alignment stage 7 to the exposure stage 4 by moving the unit to the stage 4 in a state where a wafer is held by and fixed to the unit. - 特許庁

ウエハを保持する保持ユニットは、アライメント計測用のステージ基準マークを有し、露光ステージ４及びアライメントステージ７に着脱可能である。例文帳に追加

Each holding unit which holds the wafer has a stage reference mark for alignment and measurement, and can be fitted to and removed from the exposure and alignment stages 4 and 7. - 特許庁

レチクルの予めの整列を失うことなくレチクル露光ステージ上に予め整列されたレチクルを移動およびロードする方法および装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a method and a device for moving and loading a reticle which is preliminarily aligned on a reticle exposure stage without impairing the preliminary alignment. - 特許庁

このとき、制御装置４７は、露光ステージ３２に取り付けられた温度検出装置４８により検出された感光材付き基板５１の温度に基づいて、チャックステージ３３のステップ移動量Ｌを補正する。例文帳に追加

A controlling apparatus 47 corrects the step shift amount L of the chuck stage 33 on the basis of the temperature of the substrate 51 detected by a temperature detecting apparatus 48 attached to the exposure stage 32. - 特許庁

従って、液晶パネルの製造の工程で、露光ステージと液晶表示パネルとの間で摩擦帯電、剥離帯電を生じても、メタル層５５と近接したゲート配線等の配線との間でスパークを生じ難くなる。例文帳に追加

Therefore, even if the friction charging or exfoliation charging is caused between an exposure stage and the liquid crystal display panel in the process of manufacturing the liquid crystal panel, a spark is hardly generated between the metal layer 55 and a wire such as a nearby gate wire. - 特許庁

次に、露光ステージ３２の駆動ステージ３４によりチャックステージ３３をステップ移動量Ｌだけステップ移動させて感光材付き基板５１を第２の露光位置に位置付けた後、感光材付き基板５１へ向けて照射光学系４０によりマスク３６を介して露光光を照射する。例文帳に追加

Then the drive stage 34 of the exposure stage 32 shifts the chuck stage 33 stepwise in a step shift amount L to position the substrate 51 with the photosensitive material at a second exposure position, and the irradiation optical system 40 irradiates the substrate 51 with exposure light through the mask 36. - 特許庁

露光ステージ１８に基板Ｆを位置決め固定する場合、排気孔７４より所定量の空気を排出させた状態で基板Ｆを支持プレート６０上に載置し、次いで、吸気孔７２より空気を吸引させて基板Ｆを吸着する。例文帳に追加

In positioning and fixing a substrate F on an exposure stage 18, the substrate F is placed on a supporting plate 60 while a prescribed amount of air is ejected from exhaust holes 74 and then, the air is sucked from intake air holes 72 to absorb the substrate F. - 特許庁

制御手段は、露光パターンの繰り返し露光の初期と終期における露光ステージのステップ駆動に伴って、マスクをマスクパターンの配列ピッチのｎ倍の量移動させるマスクステージ５のステップ駆動を行わせる。例文帳に追加

The control means causes the step driving of the mask stage 5 for moving the mask by the quantity of n times the array pitch of the mask patterns to be carried out by accompanying the step driving of the exposure stage in the initial period and end period of the repetitive exposure of the exposure patterns. - 特許庁

微調整部１３０を設けた基板ホルダー１５０を露光ステージ１００に載置して、露光する変形ウェハ６０の照射個所が照射系９０に対して水平となるように基板ホルダー１５０を小刻みにステップすると同時に高さ調整と傾斜をかけて常に一定の間隔差を維持した。例文帳に追加

The substrate holder 150 provided with the fine adjustment section 130 is mounted on the exposure stage 100 and the substrate holder 150 while stepping bit by bit is adjusted in height and tilted to always maintain a fixed interval difference, so that an irradiation place of the deformed wafer 60 to be exposed is horizontal to an irradiation system 90. - 特許庁

制御手段は、露光パターンの繰り返し露光の初期と終期における露光ステージのステップ駆動に伴って、マスクをマスクパターンの配列ピッチのｎ倍の量移動させるマスクステージ５のステップ駆動を行わせる。例文帳に追加

By accompanying the step driving of the exposure stage in an initial period and a final period of the repetitive exposure of the exposure pattern, the control means makes the step driving of the mask stage 5 perform, and moves the mask by the amount of n times the array pitch of the mask pattern. - 特許庁