「露光ステージ」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

レチクル・アライメントセンサ６Ａ，６Ｂは露光光源ＬＳから射出されたパルス状の露光光ＥＬの一部を用いて、レチクルＲに形成されたレチクルマークＲＭとウェハステージ９上の基準部材１０に形成された基準マークとを観察し、これらの位置情報及び相対的な位置ずれを計測する。例文帳に追加

Reticle alignment sensors 6A, 6B, using part of pulse-like exposure light EL emitted from an exposure light source LS, observe reticle marks RM formed on a reticle R and a reference mark formed on a reference member 10 on a wafer stage 9, and measure positional information about these marks and a relative positional displacement therebetween. - 特許庁

荷電粒子線を用いて被露光基板上に所望のパターンを露光するために、前記荷電粒子線を遮蔽するためのブランキングアパーチャ１１０と、ブランキングアパーチャ１１０を光軸に対して略垂直な平面内で移動するＢＡステージ４０１，４０２と、ブランキングアパーチャ１１０の開口面積を変える開口可変手段と、を有する。例文帳に追加

In order to expose a desired pattern on a substrate using a charged particle beam, a blanking aperture 110 for shielding the charged particle beam, BA stages 401 and 402 for moving the blanking aperture 110 in a plane substantially perpendicular to the optical axis, and a means for varying the opening area of the blanking aperture 110 are provided. - 特許庁

露光対象である基板８を載置したステージ１に対向するように、２個以上の光学ユニット３…を備えた搭載部２を設け、１つの光学ユニットが１つのデバイス領域９…内で進退移動して、アレイ状に形成されたデバイス領域９…毎に基板８全面を露光するように構成している。例文帳に追加

There is provided a mounting unit 2 comprising two or more optical units 3... so as to face a stage 1 on which the substrate 8 of an exposure target is placed, and one optical unit moves back and forth within one device region 9... to expose entirely the substrate 8 for each of the device regions 9... formed in an array shape. - 特許庁

基板ステージＰＳＴ上の基板ホルダＰＨに基板Ｐを保持し、液体供給機構１０から供給される液体１を用いて投影光学系ＰＬの像面側に液浸領域ＡＲ２を形成し、露光光ＥＬで投影光学系ＰＬと液浸領域ＡＲ２とを介して基板Ｐを露光する。例文帳に追加

A substrate P is held by a substrate holder PH on a substrate stage PST, an immersed region AR2 is formed on the image plane side of the projection optical system PL by using a liquid 1 supplied from a liquid supplying mechanism 10, and the substrate P is exposed by exposure light EL via the projection optical system PL and the immersed region AR2. - 特許庁

本発明の露光装置は、レチクルステージ１１上にドーズコントロール用等の役目を持つキャリブレーションプレート１と、クリーニング用の拡散板もしくは投影光学系を照射する光を拡散させる役目を持つプレート２を常設し、必要に応じて露光光を照射して投影光学系１２内に万遍なく光を照射し、投影光学系１２内のコンタミネーションを脱離させる。例文帳に追加

This aligner is provided continually with a calibration plate 1 which serves for dose control, etc., and a plate 2 which serves to diffuse the light to irradiate the diffusion plate for cleaning or the projection system, on a reticle stage 11, and light is applied evenly into the projective optical system 12 by applying exposure light at need thereby desorbing the contamination within the projective optical system 12. - 特許庁

そしてインターフェイスブロック内の搬送手段から露光後の基板を受け渡しステージに受け渡した後、現像処理用の単位ブロック内の搬送手段による当該基板の受け取りのタイミングを、当該基板が露光されてから加熱ユニットに搬入されるまでの時間が予め設定した時間となるように調整する。例文帳に追加

After the exposed substrate is delivered to a delivery stage from the conveying means in an interface block, the timing of receiving the substrate by the conveying means in the unit block for developing process is adjusted in such a manner that the time from the exposure of the substrate to carrying it into the heating unit becomes a preset time. - 特許庁

光量測定装置１１は、露光装置３に対向配置され、光電子増倍管１１１と、光電子増倍管１１１を露光装置３のＰＬＺＴ素子アレイ３１に対して平行に移動させる１軸ステージ１１２と、光電子増倍管１１１の感度電圧を調整する調整器１１３とを備えている。例文帳に追加

This light quantity measuring apparatus 11 is arranged to face the exposure device 3 and has the photoelectron multiplier tube 111, a uniaxial stage 112 for moving the photoelectron multiplier tube 111 in parallel to the PLZT element array 31 of the exposure device 3 and a regulator 113 for regulating the sensitivity voltage of the photoelectron multiplier tube 111. - 特許庁

基板ステージに搭載される基板の端面の位置をレーザー測長器で直接計測することにより、マスクに対する基板の相対位置を高精度で位置決めできるようにして、基板端面からパターンまでの距離のバラつきを防止して高精度の露光を行うことができる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure device capable of performing high accuracy exposure while preventing variance in the distance from a substrate end face to a pattern by directly measuring the position of the end face of a substrate mounted on a substrate stage with a laser length measuring device so as to determine a relative position of the substrate with respect to the mask with high accuracy. - 特許庁

露光装置ＥＸは、マスク面を境界とする空間を定義する空間定義部材１とともにマスクＭを移動させるマスクステージＭＳＴと、前記空間の圧力を制御する圧力制御器と、複数の空間定義部材１のうち露光処理に使用すべきマスクＭに適合した空間定義部材を当該マスクＭに組み合わせるための操作機構ＭＬとを備える。例文帳に追加

An aligner EX comprises mask stage MST for moving the mask M along with the space definition member 1 for defining the space with the mask surface as the boundary; a pressure controller for controlling pressure in the space; and an operation mechanism ML for combining the space definition member conforming to the mask M to be used for exposure treatment in a plurality of space definition members 1 with the mask M. - 特許庁

本発明の露光設備は、複数個のスロットを持つレティクルライブラリ１１０と、露光工程が進行されるレティクルステージ１３０とを含み、レティクルを複数個のスロットを持つレティクル保管部材１１０に移送させて、前記レティクルを複数個のスロットのうちのいずれか一つからレティクルステージ１３０に移送させて、複数個スロットのうちのいずれか一つを前記レティクルの飽和温度で制御する。例文帳に追加

The exposure equipment includes a reticle library 110 having a plurality of slots, a reticle stage 130 on which an exposure process proceeds, wherein a reticle is transferred to a reticle storage member 110 having a plurality of slots, then the reticle is transferred from one of the plurality of slots to the reticle stage 130 while the one of the plurality of slots is controlled at a saturation temperature of the reticle. - 特許庁

スキャニング露光プロセスの間にパターンジェネレータの位置を制御する、ステージシステムに対するパターンジェネレータの滑りを実質的に低減又は排除するために使用されることができるシステム及び方法を提供する。例文帳に追加

To provide a system and a method that can be used to substantially reduce or eliminate the slipping of a pattern generator to a stage system that controls the position of the pattern generator during a scanning exposure process. - 特許庁

ウェハ露光装置のマスクステージにマスク基板をチャックすることによりマスク基板の平坦度が悪化することに起因する、製品歩留まりの低下の問題を解決するために有効なマスク基板の平坦度シミュレーションシステムを実現すること。例文帳に追加

To realize a flatness simulation system for a mask substrate effective for solving the problem of lowering in the yield of products due to degradation in the flatness of the mask substrate by chucking the mask substrate to a mask stage of a water exposing device. - 特許庁

ウェハ露光装置のマスクステージにマスク基板をチャックすることによりマスク基板の平坦度が悪化することに起因する、製品歩留まりの低下の問題を解決するために有効なマスク基板情報生成方法を実現すること。例文帳に追加

To provide a method for generating mask substrate information which is effective to solve problems of decrease in production yield caused by degradation in the flatness of a mask substrate due to chucking the mask substrate on a mask stage of a wafer exposure apparatus. - 特許庁

このため、例えばステージの移動範囲内の走査方向の横側に空きスペースが存在する場合には、そのスペースにレチクル交換ロボットを配置することで、露光装置の大型化を招くことなく、レチクル交換を円滑に行うことができる。例文帳に追加

Thereby, for example, when these is an idle space by the side of the scanning direction in the moving range of the stage, the reticle is smoothly exchanged, without enlarging the size of the exposure device by placing the reticle exchanging robot in the space. - 特許庁

この系は、露光領域内で、±５％未満の放射度均一性を有する１つ以上の放射パルスを用いて、１つ以上のワークピース領域の少なくとも１つを照射するように、レーザー光源とワークピースステージとの間に配置される。例文帳に追加

The system is arranged between the laser light source and the workpiece stage so as to illuminate within the exposure field at least one of the one or more workpiece fields with the one or more pulses of radiation, with an irradiance uniformity of less than ±5%. - 特許庁

フォトマスク１はフォトマスクステージ５に装着され、フォトマスク移動装置５０により露光領域を照射エリア７０に移動し、アライメントマーク１５と基板マーク（図示せず）を用いて、位置合せ装置（図示せず）により位置合せを行う。例文帳に追加

The photomask 1 is mounted on a photomask stage 5, and the exposure region is moved to an irradiation area 70 by a photomask moving device 50 and aligned by an alignment device (not shown in Figure) using an alignment mark 15 and a substrate mark (not shown). - 特許庁

電子放出能の高い、線状形状を持つ、電界放射型陰極、および、幅広のスリットを有する陽極からなる電子線発生部、ならびに、型マスクおよび試料を搭載する、可動ステージ部を組み合わせた、電子露光装置を作製する。例文帳に追加

An electronic aligner formed by combining a linear field radiation type cathode having high electron emission capacity, an electron beam generation part consisting of an anode with a wide slit and a movable stage part whereon a molding mask and a sample are mounted is prepared. - 特許庁

ウエハの位置を測定するためのアライメントマークＰＭＯＬ，ＰＭＯＲ，ＦＸＹ０１−ＦＸＹ０４を、レチクルを支持するレチクルステージＲＳＴＧ上に固定されたレチクル基準プレートＰＬに設けたアライメントマークパターンＰＭ，ＦＭを露光することによりウエハＷに形成する。例文帳に追加

Alignment marks PMOL, PMOR, FXYO1-FXYO4 for measuring the position of the wafer are formed on the wafer W by exposing alignment patterns PM, FM, provided on a reticle reference plate PL fixed onto a reticle stage RSTG for supporting a reticle. - 特許庁

分割逐次露光装置ＰＥでは、マスクステージ１が、マスクＭの互いに対向する２辺に対応して配置されて、それぞれ複数のボックス溝１６ｂ（１６ｂ１，１６ｂ２，・・・１６ｂ１０）を有する一対のチャック部１６を備える。例文帳に追加

A mask stage 1 of a division sequential exposure apparatus PE has a pair of chucks 16 disposed corresponding to two sides opposing to each other of a mask M, each chuck having a plurality of box grooves 16b (16b1, 16b2, to 16b10). - 特許庁

マスク・アライメントマークとワーク・アライメントマークとにより位置合わせを行う露光装置において、ワークステージに形成した貫通孔部分でワークに生じる局所的な温度上昇を防止した構造を提案することである。例文帳に追加

To provide a structure which prevents local temperature rise of a workpiece at the part of a through-hole formed in a workpiece stage, in an aligner which performs alignment by detecting a mask alignment mark and a workpiece alignment mark. - 特許庁

ＴＣＰハンドリング装置１において、キャリアテープにおける露光単位マーク５４を取得する第２カメラ６ｂと、ＴＣＰの外部端子およびコンタクト部の接続端子が正しく接続するように、位置ずれ補正を行うプッシャステージ４とを設ける。例文帳に追加

A TCP handling apparatus 1 is provided with a second camera 6b that acquires an exposure unit mark 54 on a carrier tape and a pusher stage 4 which so compensates for any positional deviation that an external terminal of TCP and a connection terminal in a contact part can be correctly connected. - 特許庁

露光装置で基板を載置するステージの位置制御を担うアクチュエーターにおいては、ボールスクリュウ装置が採用されているが、該ボールスクリュウの軸方向の最小の移動距離を、ねじピッチの加工限界で規定される値以下にする技術を提供すること。例文帳に追加

To set a minimal moving distance in the axial direction of a ball screw, to a level which is not higher than that prescribed by the machining limit of a screw pitch, in an actuator in which a ball-screw apparatus is installed for performing the positional control of a stage with a substrate mounted thereon in an aligner. - 特許庁

そして、各パターンＲＭｐ１〜ＲＭｐ４、ＲＭｓ１、ＲＭｓ２を露光光により照明し、そのパターンの投影光学系を通過した投影像を、ウエハステージ上に配設された基準板上の開口部を介して受光センサで検出する。例文帳に追加

Then, each of the pattern RMp1-RMp4, RMs1, and RMs2 is illuminated with exposing lights, and projected images passing through the projecting optical system of the patterns are detected through openings on a reference board arranged on a wafer stage by a light-receiving sensor. - 特許庁

露光ステージ１８に基板Ｆを位置決め固定する場合、排気孔７４より所定量の空気を排出させた状態で基板Ｆを支持プレート６０上に載置し、次いで、吸気孔７２より空気を吸引させて基板Ｆを吸着する。例文帳に追加

In positioning and fixing a substrate F on an exposure stage 18, the substrate F is placed on a supporting plate 60 while a prescribed amount of air is ejected from exhaust holes 74 and then, the air is sucked from intake air holes 72 to absorb the substrate F. - 特許庁

コントローラ１１は、露光に使用すべき順番が１番目のマスク１がステージ９に搭載される場合において、順番が２番目のマスク１がプリアライメント装置７に提供され、順番が３番目のマスク１が保持部８ａ又は８ｂに保持されるように、搬送機構８を制御する。例文帳に追加

The controller 11 controls the mechanism 8 so that the device 1 is provided with the second mask 1 in the order, and a third mask 1 in the order is held to the holding section 8a or 8b, when the first mask 1 which should be used for exposure is loaded on the stage 9. - 特許庁

本発明の露光装置１は、荷電粒子ビーム及び光の両方に感度を有するレジストを塗布したウエハ３１を載置するステージ３５と、同ウエハ上にパターンを形成するための荷電粒子ビーム光学系３及び光光学系５を具備する。例文帳に追加

An aligner 1 includes a stage for mounting a wafer 31, coated with a resist sensitive for a charged particle beam and a light beam, and a charged particle beam optical system 3 and a light beam optical system 5 for forming a pattern on the wafer 31. - 特許庁

リニアモータ等のアクチュエータとそのアクチュエータ固有の特性データとを確実に対応付けるとともに、特性データをチューニング等に即座に使用することができるアクチュエータ、ステージ装置、露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide an actuator capable of reliably associating such an actuator as a linear motor or the like with data inherent to the actuator, and of being used immediately for tuning up the inherent data or the like, and to provide a stage device, an exposure system, and a device manufacturing method. - 特許庁

本発明のステージ制御においては、露光位置を中心とする座標において（Ｘ、Ｙ、Θｚ）誤差量を制御フィードバック量として捉え、この誤差を小さくするように各駆動モータＭｘｆ、Ｍｘｂ、Ｍｙｒ、Ｍｙｌを駆動させる。例文帳に追加

On the stage control, the amount of error is caught as the amount of control feedback on the coordinates (X, Y, Θz) with the exposure position as a center, each of drive motors Mxf, Mxb, Myr, and Myl is driven so as to reduce the error. - 特許庁

温度コントローラ３０は、マスクの温度変化に基づいてマスクのパターンをワークに露光転写する際の倍率誤差を算出し、この倍率誤差を補正することが可能なワークステージに加えるべき必要熱量を算出し、この必要熱量に応じた制御指令値を加熱制御装置に送る。例文帳に追加

The temperature controller 30 calculates a magnification error on transferring a mask pattern onto a work by exposure based on the temperature change of the mask, calculates necessary calorie to be added to the work stage to correct the magnification error, and sends a control command value in accordance with the necessary calorie to the heating controlling device. - 特許庁

開始位置４１にあるＣＣＤカメラの露光を開いて表示画面の表示画像の取り込みを開始するとともに、ＸＺステージを水平方向及び垂直方向へ同時に駆動してＣＣＤカメラを表示画面に沿って斜めに移動する。例文帳に追加

The exposure of the CCD camera at a start position 41 is opened to start capturing of a display image on a display screen and an XZ stage is driven in horizontal and vertical directions simultaneously to move the CCD camera obliquely along the display screen. - 特許庁

次に露光予定の別の基板Ｐ_２は、基板Ｐ_１の搬出動作が行われる際、基板ホルダ３０ａの上方に待機しており、基板Ｐ_１の搬出動作完了後に基板ステージ２０ａが有する数の基板リフト装置４６ａに受け渡される。例文帳に追加

Another substrate P_2 to be exposed next is waiting above the substrate holder 30a when the substrate P_1 is carried out, and delivered to substrate lift devices 46a of the substrate stage 20a upon finishing the carrying-out operation of the substrate P_1. - 特許庁

感光剤Ｐａが塗布されたガラス基板Ｗを基板ステージ２０に載置し、感光剤Ｐａが厚さの異なる３つのレジスト層Ｒ，Ｇ，Ｂを形成するように、ガラス基板Ｗに照射されるエネルギーを変えながらマスクＭを介してガラス基板Ｗを露光する。例文帳に追加

A glass substrate W coated with a photosensitive agent Pa is mounted on a substrate stage 20; and the glass substrate W is exposed through a mask M while varying energy irradiating the glass substrate W so that the photosensitive agent Pa forms three resist layers R, G, B in different thicknesses. - 特許庁

露光装置１００は、各種自己計測に用いられる複数種類の計測用マークが形成されたレチクルＦＭ板ＲＦＭと、レチクルＦＭ板ＲＦＭが載置された移動ステージＲＳＴと、スリット２２が形成されたスリット板９０を含む空間像計測器５９とを備えている。例文帳に追加

The aligner 100 is equipped with a reticle FM plate RFM whereupon a plurality of kinds of marks for various kinds of self-measurement are formed, a mobile stage RST on which the reticle FM plate RMF is placed, and a space image measuring instrument 59 including a slit plate 90 on which a slit 22 is formed. - 特許庁

真空環境下で原盤４の面に描かれたパターンを投影光学系を介してウエハに投影し、該投影光学系に対し該原盤と基板のうちの少なくとも基板をステージ装置により相対的に移動させることにより、原盤４のパターンを基板に繰り返し露光する。例文帳に追加

A pattern drawn on the surface of a master disk 4 in a vacuum environment is projected to a wafer by a projection optical system, and at least a substrate of the master disk and the substrate is relatively moved to the projection optical system by a stage device, thereby repeatedly exposing the pattern of the master disk 4 to the substrate. - 特許庁

計測ユニット２は、複数のセンサ３１を備えており、露光ユニット１のウェハステージＷＳＴに保持される前のウェハホルダＷＨに保持されたウェハＷ上の互いに異なる位置に形成されている複数のアライメントマークＡＭを複数同時に計測する。例文帳に追加

The measurement unit 2 is provided with a plurality of sensors 31, and simultaneously measures a plurality of alignment marks AM formed on different positions on the wafer W held on the wafer holder WH before being held by the wafer stage WST of the exposure unit 1. - 特許庁

光照射部１からの光が、マスク２、投影倍率変更機構１０、投影レンズ３を介してワークステージ４に載置された基板等のワーク５上に照射され、マスクのパターン像がワーク５上に投影され露光される。例文帳に追加

A work 5 such as a substrate mounted on a work stage 4 is irradiated with light from a light irradiating unit 1 through a mask 2, a projection magnification varying mechanism 10 and a projection lens 3 to project a pattern image on the mask onto the work 5 for exposure. - 特許庁

洗浄ステージ１１に設けられた酸化チタン膜１３に露光光を照射することによって光触媒作用が引き起こされ、当該光触媒作用によって光路空間Ｓの雰囲気が洗浄されるので、光路空間Ｓの雰囲気が汚染されるのを防ぐことができる。例文帳に追加

The atmosphere of the optical path space S is prevented from being contaminated, since photocatalysis is induced by irradiating a titanium oxide film 13 provided on a cleaning stage 11 with exposure light and the atmosphere of an optical path space S is cleaned by the photocatalysis. - 特許庁

レチクルＲ１のパターンを投影光学系ＰＬを介して露光する際には、ＴＴＬ方式のレチクルアライメント顕微鏡５Ａ，５Ｂによって基準マーク３４Ａ，３４Ｂの位置を検出し、この検出結果と先に求めた相対位置とに基づいてウエハステージ２３Ａを駆動する。例文帳に追加

When the pattern of a reticle R is exposed to light via a projection optical system PL, the position of the reference marks 34A and 34B is detected by TTL-system reticle alignment microscopes 5A and 5B, and a wafer stage 23A is driven based on the detection result and the relative position being obtained before. - 特許庁

従って、減圧空間内で用いられるウエハホルダ上のウエハを交換するウエハ交換動作と、ウエハを保持するウエハホルダＷＨ１が載置されたステージＷＳＴを用いて行われる所定の動作（露光装置本体動作）とを並行して行う。例文帳に追加

Accordingly, the apparatus executes a wafer replacing operation for the wafer on the wafer holder to be used in a decompression space, and a predetermined operation (operation in exposure apparatus body) to be executed using a stage WST on which a wafer holder WH1 for holding a wafer is placed. - 特許庁

ウェハ露光装置のマスクステージにマスク基板をチャックすることによりマスク基板の平坦度が悪化することに起因する、製品歩留まりの低下の問題を解決するために有効なマスク基板の製造方法を実現すること。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a mask substrate by which a degradation problem in the flatness of a mask substrate due to chucking the mask substrate to the mask stage of a wafer exposure apparatus is eliminated and decrease in the production yield can be prevented. - 特許庁

照明されたマスクからのパターンの像を、基板ステージ上に保持される基板上に投影光学系により投射するようにした露光装置の該投影光学系の結像面における照明光の照度を計測する照度計測装置である。例文帳に追加

This illuminance-measuring device measures the illuminance of illumination light on an image-forming surface of the projection optical system of an aligner for allowing the image of a pattern from a lighted mask to project on a substrate that is retained on a substrate stage by the projection optical system. - 特許庁

更に、露光対象のウエハＷを位置決めするために気体軸受方式で定盤２４上に載置されているＸＹステージ２３用の気体、及び定盤２４を支持する防振台２５Ａ，２５Ｂ用の気体としてもヘリウムガスを使用する。例文帳に追加

Helium gas is also used for a gas for an XY stage 23 placed on a surface plate 24 by a gas bearing method to position a wafer W which is an object to be exposed and a gas for damping stands 25A, 25B for supporting the surface plate 24. - 特許庁

ついで、ワーク吸着機構８，８’により帯状ワークＷｂを保持し、移動機構９，９’を駆動してワーク帯状ワークＷｂを搬送方向と直交する方向に移動させ、第２列目の第２の露光領域が、ワークステージ３上の投影位置に来るようにする。例文帳に追加

Then, the work Wb is held by work suction mechanisms 8 and 8' and moved in a direction orthogonal to a conveying direction by driving moving mechanisms 9 and 9' so that a 2nd exposure area in a 2nd may come to the projecting position on the stage 3. - 特許庁

基板テーブルが測定ステーションにある場合に、横ミラーの幾何形状を測定するように露光ステーションでのみ使用される横ミラーの幾何形状を規定するアライメントマークを備えたデュアルステージリソグラフィ装置。例文帳に追加

A dual stage lithographic apparatus is provided with alignment marks to definitely establish the geometric configuration of the lateral mirrors, which are used only in the exposure station, so that the geometric configuration of the lateral mirrors can be measured while the substrate table is in the measurement station. - 特許庁

制御部９は、複数の基板ホルダ６のうちの１つに基板Ｗを載置させ、基板ホルダ６と載置した基板Ｗとの温度差がほぼ無くなるまでの待ち時間の経過後、この基板Ｗに対して露光処理を行うよう基板ステージ７を制御する。例文帳に追加

The control unit 9 controls the substrate stage 7, so as to be expose the substrate W after the lapse of a waiting time, until the temperature difference between one of the substrate holder among the plurality of substrate holders 6 and the substrate W placed on the substrate holder becomes almost zero. - 特許庁