「露光ステージ」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

レジストが塗布、露光されたウェハー１をステージ２上に保持する工程と、前記ウェハー１上に、現像液３を所定幅で所定方向にスキャンパドルする工程と、前記現像液のスキャン方向側端面の位置を制御する工程を備える。例文帳に追加

The developing method includes a step to hold a wafer 1 on a stage 2 that is applied by a resist and is exposed, a step to scan-paddle a developer 3 at a specified width in the specified direction on the wafer 1, and a step to control the position of the end face on scanning direction side of the developer. - 特許庁

これにより、例えばデバイス形成プロセスの露光時、ステッパのウェーハステージ上で、自重のみが作用するようにシリコンウェーハ１０を水平状態で単純支持したとき、従来のシリコンウェーハに比べて、ウェーハが撓みにくくなる。例文帳に追加

Thereby, for example, the silicon wafer 10 is simply supported in a horizontal state so that only its own weight acts on a wafer stage of a stepper at a time of exposure in a device formation process, the wafer is prevented from being bent as compared with the conventional silicon wafer. - 特許庁

基板テーブルＷＴが測定ステーションにある場合に、横ミラー６６、６８の幾何形状を測定するように露光ステーションでのみ使用される横ミラー６６、６８の幾何形状を規定するアライメントマークを備えたデュアルステージリソグラフィ装置。例文帳に追加

A dual stage lithographic apparatus is so provided with an alignment mark for specifying geometric shape of the lateral mirrors 66 and 68 used only by an exposure station, as to measure the geometric shape of the lateral mirrors 66 and 68 in the case where the substrate table WT is at a measurement station. - 特許庁

先送りする焦点ずれとは、投影像面とＸＹステージの駆動面が平行でないことに起因してＸＹ移動距離に比例して発生する、露光領域面の投影像面からの光軸方向への位置ずれのことである。例文帳に追加

The advanced focus deviation, which is caused from that a projected image plane and the driving plane of the XY stage are not parallel to each other and occurs proportional to the movement distance in the XY direction, is a position deviation from the projected image plane of the exposed region plane to an optical axis direction. - 特許庁

レチクルステージ上に載置されたレチクルの面形状を計測し、その計測結果に応じて最適な補正項目および補正方法を選択することにより、レチクルの面形状に起因する露光精度劣化要因を効果的に除去、打消しまたは補償する。例文帳に追加

Planar shape of a reticle mounted on a reticle stage is measured and optimal correction term and correction method are selected depending on the measurements thus removing, canceling or compensating for the impairment factor of exposure precision caused by the planar shape of the reticle effectively. - 特許庁

フォトマスクを走査するステージが、設定移動量に対して実移動量が誤差を保有していても、その誤差の影響を受けにくく、かつより少ない枚数のフォトマスクで対応可能なパターンニング手法およびそのための露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a patterning method hardly being influenced by an error even when the error exists in the real moving distance of a stage for scanning a photomask with respect to a set moving distance, and for performing patterning by using the smaller number of photomasks, and to provide an exposure device for the same. - 特許庁

本発明は、ステージに配置されるチャックからレチクル等の基板が脱落することを防止する基板脱落防止装置およびこの基板脱落防止装置を用いた露光装置に関し、チャックの下面に吸着される基板が落下することを確実に防止することを目的とする。例文帳に追加

To provide a substrate omission preventing device for preventing a substrate such as a reticle, etc. from dropping from a chuck disposed in a stage, wherein the substrate chucked on the lower face of the chuck is reliably prevented from dropping, and also to provide an exposure device using the substrate omission preventing device. - 特許庁

ブラインド機構３０は、レチクルステージ３に固定されており、露光領域ＣＰの走査方向（Ｙ方向）に可動な２枚のＹ方向ブラインド板３１と、走査方向と直交する方向（Ｘ方向）に可動な２枚のＸ方向ブラインド板３３とを備える。例文帳に追加

Blind mechanism 30 is fixed to a reticle stage 3 and is provided with two Y-direction blind boards 31 movable to scanning direction (Y direction) of exposure region CP, and two X-direction blind boards 33 movable to direction (X direction) which intersects perpendicularly the scanning direction. - 特許庁

周辺温度が変化しても構造物を構成する部材に歪みを生じない組立構造体、周辺温度が変化しても光学部材に歪みを生じず位置決め精度を高度に維持することができるステージ装置、位置決め精度を高度に維持し高い位置合わせ精度を有する露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an assembly structure in which each member constituting any structure is prevented from being deformed even when ambient temperature changes, to provide a stage apparatus capable of keeping positioning accuracy high without causing any deformation on an optical member even when ambient temperature changes, and to provide an aligner having high aligning accuracy while keeping positioning accuracy high. - 特許庁

このウエハ周辺露光装置は、ウエハ１を載置するステージ１３と、ウエハ１のエッジを検出することにより、ウエハ１の形状から遮光マスク１５に対するアライメント位置を決定するアライメント部１６と、を具備するものである。例文帳に追加

This apparatus comprises a stage 13 for mounting a wafer 1 and an alignment part 16 for detecting the edge of the wafer 1, so as to determine an alignment position for the shade mask 15 according to the shape of the wafer 1. - 特許庁

演算された順次の偏差を、現在から過去に向けて大きくなるようにそれぞれ設定された許容値とそれぞれ比較し、すべての偏差が許容値以内であればレベリングステージ１５の位置決めが収束したと判定し、露光を行なう。例文帳に追加

The successively calculated deviations are so compared with allowance values as to be ordered to increase from the present to the past and if all deviations are within the allowance values, the alignment of the leveling stage 15 is decided as being converged and exposure is made. - 特許庁

本発明のスキャン型露光装置１００では、マスク１０２におけるレーザ光照射領域１０３内のパターンは、縮小投影光学系１０４によって、１／６又は１／８に縮小されてウエハステージ１０６に載せられたウエハ１０５上に投影される。例文帳に追加

The scanning exposure apparatus 100 uses a down scaling projection optical system 104 for projecting a pattern scaled down to 1/6 or 1/8 in a laser beam irradiating area 103 of a mask 102 on a wafer 105 mounted on a wafer stage 106. - 特許庁

ファインアライメントの前に露光光の波長と異なる波長の光を用いてプリアライメントを行って、ファインアライメントマークＡＭ２がファインアライメント時に検出しやすい位置となるように、レチクルステージをＸＹθの３自由度に対して位置決めする。例文帳に追加

Before fine alignment, pre-alignment is carried out using the light having a wavelength different from that of exposure light to position the reticle stage with respect to three degree of freedom (XYθ), so that the fine alignment mark AM2 may be so positioned as to be easily detected at the time of fine alignment. - 特許庁

コイルを覆う筐体(冷却ジャケット)における渦電流の発生量を低減できると共に、高エネルギーの光線に晒されても劣化し難い安価な電機子ユニット、モータ、ステージ装置、露光装置、および、デバイスの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide an inexpensive armature unit, a motor, a stage apparatus, an exposure apparatus, and the method of manufacturing a device wherein the amount of an eddy current in a housing (cooling jacket) for covering the coil of the armature unit can be reduced, and the housing is hard to be deteriorated even when exposing it to a high-energy light beam. - 特許庁

前記制御部は、前記第１検出器により前記基準マークの位置を検出する場合には、前記混合ガスを供給せず、混合ガス雰囲気で、前記アライメントマークの位置を検出し、かつ、前記基準マークの位置の検出結果及び前記アライメントマークの位置の検出結果に基づいて前記基板ステージを駆動しながら前記レジストを露光する。例文帳に追加

The controller does not supply the mixed gas when the position of the reference mark is detected by the first detector, but it detects the position of the alignment mark in the mixed gas atmosphere, and exposes a resist while driving the substrate stage based on the detected results of the reference mark position and alignment mark position. - 特許庁

液体ＬＱを用いた液浸露光が実施される基板ステージ２であって、接触した液体ＬＱを回収して液体ＬＱを保持する多孔体から形成された多孔体流路５０を備え、多孔体流路５０は、鉛直成分を含む方向に延在する延在部Ｌを有するという構成を採用する。例文帳に追加

A substrate stage 2 is configured to carry out immersion exposure using a liquid LQ, and includes a porous body flow passage 50 made of a porous body which recovers a contacting liquid LQ and holds the liquid LQ, the porous body flow passage 50 including an extension part L extending in a direction including a perpendicular component. - 特許庁

複数の電子ビームを発生する電子銃１０と、複数の電子ビームを独立して収束する多軸電子レンズ６２と、複数の電子ビームを独立して偏向する偏向部６０と、差動排気型のエアベアリング構造を有するウェハステージ４６を備えた電子ビーム露光装置１００を提供する。例文帳に追加

To provide the electron beam exposure system 100 comprising an electron gun 10 for generating a plurality of electron beams, a multiple axis electron lens 62 for independently converging a plurality of electron beams, a deflecting section 60 for independently deflecting a plurality of electron beams, and a wafer stage 46 provided with a differential pumping type bearing structure. - 特許庁

露光装置に設けられる種々の光センサ、例えば光源１６内のビームモニタ、インテグレータセンサ４６、反射光モニタ４７、ステージ５８上の照度計５９等の少なくとも１つを、光感応部で発生するフォトルミネセンス光をＧａＮ系結晶から成る受光層で検出する光センサによって構成した。例文帳に追加

At least one of various optical sensors provided in an aligner, for example, a beam monitor in a light source 16, integrator sensor 46, a reflected light monitor 47, an illuminometer 59 on a state 58 and so forth is constituted by an optical sensor for detecting photoluminescent light generated in a photosensitive unit by a light receiving layer composed of a GaN crystal. - 特許庁

電子ビーム露光装置は、ウェハを載置するウェハステージ１５２と、電子ビームを発生する電子銃と、電子を検出する電子検出部２１０と、電子ビームが照射される経路に設けられ、電子ビームを通過する通過部２２２を有するマスク部材２２０と、電子ビームを偏向し、マスク部材２２０又は電子検出部２１０に電子を照射させる偏向部１４６とを備える。例文帳に追加

This electron beam aligner has a wafer stage 152 on which a wafer is placed, an electron gun for generating electron beams, an electron detection unit 210 for detecting electrons, a mask member 220 which is disposed in a path of electron beam irradiation and has a passage unit 222 of electron beams, and a deflection unit 146 for deflecting electron beams and irradiating the mask member 220 or the electron detection unit 210 with electrons. - 特許庁

基板ステージＳＴに並べて保持された一方の基板Ｗ１（Ｗ２）にマスクパターンを露光するときに、他方の基板Ｗ２（Ｗ１）のアライメント情報の検出を並行して行なうように、光学系ＰＬと第１および第２のアライメント光学系ＡＡ１ａ，ＡＡ１ｂ、ＡＡ２ａ，ＡＡ２ｂを配置する。例文帳に追加

An optical system PL and first and second alignment optical systems AA1a, AA1b, AA2a, and AA2b are arranged so that the detection of the alignment information on the other substrate W2 (W1) can be performed in parallel when exposing a mask pattern on one substrate W1 (W2) out of substrates retained side by side on a substrate stage ST. - 特許庁

給気管１５及び局所送風機構１４を介して投影光学系１２とウエハステージ２２との間の空間３１に供給される露光光を透過するパージガスの一部を、空間像センサ２３内の導風路５９ｃを介して遮光性マスク５２とフォトマル６１との間の空間５８にも供給する。例文帳に追加

A part of a purge gas passing through the exposure light supplied to a space 31 between the projection optical system 12 and the wafer stage 22 through an air supply pipe 15 and a local blower mechanism 14 is also supplied to the space 58 between the light-shielding mask 52 and the photomultiplier 61 through an air guide path 59c in the space image sensor 23. - 特許庁

この露光装置１００は、基板１が載置されたステージ８と、それぞれ半導体レーザチップを有する複数のレーザモジュール６０１が列をなして搭載されたアレイユニット１０とを互いに平行に対向させた状態で、上記複数のレーザモジュール６０１の半導体レーザチップが出射したレーザ光をそれぞれ基板面に対して垂直に照射しながら基板１上を走査する。例文帳に追加

In a state where a stage 8 on which the substrate 1 is placed and an array unit 10 on which plural laser modules 601 respectively having a semiconductor laser chip are mounted in rows are opposed in parallel with each other, the substrate 1 is scanned while radiating laser beams emitted by the semiconductor laser chips of plural laser modules 601 perpendicularly to a substrate surface in this aligner 100. - 特許庁

電子銃２から放出された電子ビーム３をレンズ４，５を介して、試料室１０内のステージ９上に保持された基板６に照射する電子線露光装置であって、基板６と対向する試料室１０の内壁面に、電子ビーム３が通過する貫通穴を有する導電性遮蔽膜１２を着脱可能に設けた。例文帳に追加

In an electron beam projection aligner for irradiating a substrate 6 retained on a stage 9 in the sample chamber 10 with electron beams 3 discharged from an electron gun 2 via lenses 4, 5, a conductive shielding film 12, having a through hole through which the electron beams 3 pass, is removably provided on the inner surface of the sample chamber 10 opposite to the substrate 6. - 特許庁

この装置は、１０００より多い空間モードを有し、かつ１ナノセカンドと１マイクロセカンドの間の時間パルス長を伴う１つ以上の放射パルスを放出し得る、パルス化した半導体光源、ワークピースを支持するためのワークピースステージ、および露光領域を有する照明光学系を備える。例文帳に追加

The apparatus includes a pulsed, semiconductor laser light source having more than 1000 spatial modes and capable of emitting one or more pulses of radiation with a temporal pulse length between 1 nanosecond and 1 microsecond, a workpiece stage for supporting the workpiece, and an illumination optical system having an exposure field. - 特許庁

レーザコントローラ４の指示によりレーザ装置１がステージ上の９つの所定位置に半導体位置検出素子３を配置し、半導体位置検出素子３上の所定の位置にレーザを照射し、各半導体位置検出素子３は実際に露光された照射位置を検出して、その検出位置のデータをレーザコントローラ４へ送信する。例文帳に追加

According to the indication from a laser controller 4, a laser device 1 arranges semiconductor position detection elements 3 at nine prescribed positions on a stage, the prescribed positions on the semiconductor position detection elements 3 is irradiated with laser beams, and each semiconductor position detection element 3 detects the actually exposed irradiation position and transmits the data on the detection position to the laser controller 4. - 特許庁

基板Ｇ上に塗布されたレジストを、その後の加熱処理、露光処理および現像処理に先立って乾燥処理する基板処理装置であって、内部を減圧雰囲気に保持可能なチャンバーと、チャンバー内に設けられ、レジストが塗布された後の基板Ｇが載置されるステージ６３と、チャンバー内を排気して減圧状態に保持する排気機構とを具備する。例文帳に追加

A resist coated on a substrate G is dried before heating exposure, and development here, a chamber wherein the inside is kept at depressurized atmosphere, a stage 63 where, provided in the chamber, the substrate G after coated with resist is placed, and an exhaust mechanism where the chamber is vacuumized to keep a depressurized condition, are provided. - 特許庁

動吸振器の共振周波数を広い範囲において再現性よく、かつ細かく設定できるように、動吸振器の共振周波数設定手段を工夫することにより、また、直動ステージ上に回転スピンドルが設置される露光装置においても振動抑制効果が十分得られるように、動吸振器の設置場所を工夫することによって、従来技術の問題を解決すること。例文帳に追加

To solve the problems of a conventional technique by contriving the resonance frequency setting means of a dynamic vibration reducer so as to finely set the resonance frequency of the dynamic vibration reducer with excellent reproducibility in a wide range and contriving the installation place of the dynamic vibration reducer so as to sufficiently obtain a vibration suppression effect in an exposure device for which a rotary spindle is installed on a straight motion stage. - 特許庁

露光装置は、マスクＭの面を境界とする空間Ｓを定義する撓み制御ユニット（空間定義部材）１とともにマスクＭを移動させるマスクステージＭＳＴと、空間Ｓの圧力を検知する圧力センサ１１と、圧力センサ１１の出力に基づいて空間Ｓの圧力を制御する圧力制御器ＰＲＣとを備える。例文帳に追加

An aligner comprises a mask stage MST for moving the mask M with a deflection control unit (the space definition member) 1 for defining space S with the surface of the mask M as a boundary; a pressure sensor 11 for detecting the pressure in the space S; and a pressure controller PRC for controlling the pressure in the space S, based on the output of the pressure sensor 11. - 特許庁

このようにして加工したワークを、例えば露光装置のワークステージとして用いる場合には、加工したときの固定式支持体１の配置と同じ位置関係になるように支持体を配置して、加工したときと同じ支持状態を再現させることにより、ワークの表面が平坦になるように設置する。例文帳に追加

When the workpiece processed like this is used as a work stage of an exposure device, for example, the support body is disposed so as to be the same positional relationship as the disposition of the fixed type support body 1 when it is processed, and the workpiece is installed so that the surface of the workpiece becomes flat by recreating the same support state when it is processed. - 特許庁

マスク（１２）と基板（１６）とを同期して相対移動させることにより、マスク（１２）に形成されたパターンを基板（１６）に転写する走査型露光装置であって、マスク（１２）が載置されるマスク保持部材（１８）と、マスク保持部材（１８）を移動させるマスクステージ（２０）と、マスク保持部材（１８）に対してマスク（１２）を押し付ける押付け手段（７２、８８ａ、８８ｂ）とを設けた。例文帳に追加

This scanning exposure device which transfers a pattern formed on a mask 12 to a substrate 16 by relatively moving the mask 12 and the substrate 16 in synchronization comprises a mask hold member 18 for placing the mask 12 thereon, a mask stage 20 for moving the mask hold member 18, and pressing means 72, 88a and 88b for pressing the mask 12 against the mask hold member 18. - 特許庁

レジスト塗布現像装置６１とＥＢ露光装置６２との間で被処理体であるウエハＷを搬送する過程でウエハＷと接触することになる受渡用搬送アーム４，ウエハ受渡しステージ２のウエハ支持ピン８及びバッファ用ウエハカセット６の取出用ピン１７を接地導線１６によって接地しておくことで、ウエハＷに蓄積された電荷を導出させる。例文帳に追加

Electric charges stored in a wafer W to be treated are led out by grounding a transport arm 4 for delivery which comes into contact with the wafer W when the wafer W is transported between the resist coater/ developer 61 and EB aligner 62, the wafer supporting pins 8 of a wafer delivery stage 2, and the leading-out pin 17 of a wafer cassette 6 for buffer through grounding conductors 16. - 特許庁

露光動作（図８（Ａ））及びアライメント計測動作（図８（Ｂ））の少なくとも一方と並行して、エンコーダシステムを用いてウエハステージＷＳＴの位置情報を計測し、エンコーダシステムの個々のヘッド６４〜６８の計測情報のこれに対応する基準情報からのずれを、較正データとして収集する。例文帳に追加

The position information of a wafer stage WST is measured by an encoder system in parallel with at least one of exposure operation (Fig. 8(A)) and alignment measurement operation (Fig. 8(B)), and deviation of measurement information of individual heads 64-68 of the encoder system from reference information corresponding to the measurement information is collected as calibration data. - 特許庁

基板ステージＳＴに並べて保持された一方の基板Ｗ１（Ｗ２）にマスクパターンを露光するときに、他方の基板Ｗ２（Ｗ１）のアライメント情報の検出を並行して行なうように、光学系ＰＬと第１および第２のアライメント光学系ＡＡ１ａ，ＡＡ１ｂ、ＡＡ２ａ，ＡＡ２ｂを配置する。例文帳に追加

An optical system PL and first and second alignment optical systems AA1a, AA1b, AA2a, and AA2b are so provided that detection of alignment information for one wafer W2 (W1) is performed in parallel, when the other wafer W1 (W2) which is held side by side on a wafer stage ST is exposed with a mask pattern. - 特許庁

露光部のレチクルステージにレチクル７を装着する前に、レチクル乾燥装置３において、保持部３５を用いて乾燥源３２に接触しないようにレチクル７を保持し、排気機構３３を用いてチャンバ３１内を減圧にし、パージ機構３４によりチャンバ３１内をパージしながら、乾燥源３２を用いてレチクル７を加熱乾燥する。例文帳に追加

Before the reticle 7 is mounted on a reticle stage in an exposure unit, the reticle 7 is held by using a holding part 35 while avoiding contact with a drying source 32 in the reticle drying apparatus 3, the chamber 31 is evacuated by an evacuating mechanism 33, and the reticle 7 is heated and dried by using a drying source 32 while purging the chamber 31 with a purging mechanism 34. - 特許庁

描画機のステージ１０上に配置された場合のフォトマスクブランク１３の表面形状の変形を高さ測定手段１２で測定し、描画データ作成手段１５により、その表面形状の変形要因の中でフォトマスクが露光装置で使用される際には無くなる変形要因に起因する描画のずれについて、設計描画データを補正して描画データを得ることを特徴とする。例文帳に追加

A height measuring means 12 measures a deformation of a surface shape of a photomask blank 13 when arranged on a stage 10 of a drawing machine, and a drawing data preparing means 15 corrects a design drawing data to obtain a drawing data, as to a shift of drawing caused by a deformation factor which is eliminated when the photomask is used in an exposure device, from among the deformation factors of the surface shape. - 特許庁

該蛍光板３の蛍光面３９上の基板マーク７の像をＣＣＤカメラ２によりホトマスク４上のマスクマーク５と重ね合わせて撮像し、基板マーク７とマスクマーク５の像の中心が一致するように露光ステージ８を駆動して基板６とホトマスク４の位置合わせを行う。例文帳に追加

The image of the substrate mark 7 on the fluorescent plane 39 of the fluorescent board 3 is picked up while overlapping a mask mark 5 on the photomask 4 by a CCD camera 2, and an exposure stage 8 is driven to bring the center of the substrate mark 7 and that of the mask mark 5 in accordance, thereby performing the alignment of the substrate 6 and the photomask 4. - 特許庁

基板１００とフォトマスク５とをプロキシミティギャップを介して対向させて露光を行う露光装置１において、基板１００の表面の高さを計測する計測装置８と、フォトマスクを上下動させる駆動装置７と、ステージ２をＸＹ方向へ移動させる駆動装置３と、フォトマスク５と基板１００との間の間隙量をプロキシミティギャップの適正範囲に維持するように駆動装置３及び駆動装置７を制御する制御装置１０とを備える。例文帳に追加

This exposing method exposing by facing a substrate 100 to a photomask 5 via the proximity gap P comprises processes of: specifying height of the surface of the substrate; and relatively moving the photomask and the substrate along the substrate, while relatively vertically moving the photomask and the substrate so that a gap between the photomask and the substrate is maintained within a proper range of the proximity gap, based on the specified height. - 特許庁

本発明の一実施の形態に係る露光装置は、フォトマスクを固定するマスクホルダと、基板の外周部を固定するチャック及び前記基板に対する圧力を調整する１つ以上の圧力調整部を有するワークステージと、前記フォトマスクのパターン及び前記基板の画像を取得する画像取得部と、前記画像取得部からの情報に基づき、前記圧力調整部の前記基板に対する圧力を調整する制御部と、を備える。例文帳に追加

The exposure device includes a mask holder which fixes a photomask; a chuck which fixes the periphery of the substrate; a work stage having one or more pressure adjustment portions which adjust the pressure to the substrate; an image acquisition portion which obtains the images of the photomask pattern and the substrate; and a control portion which adjusts the pressure of the pressure adjustment portion against the substrate, based on the information from the image acquisition portion. - 特許庁