「露光ステージ」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

ステージ装置、露光装置、多点位置検出系の調整方法、及びデバイス製造方法例文帳に追加

STAGE SYSTEM, EXPOSURE SYSTEM, METHOD OF ADJUSTING MULTIPOINT POSITION DETECTING SYSTEM, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE - 特許庁

ウエハステージが、真空容器内の基準ベースに取り付けられ、露光すべきウエハを保持する。例文帳に追加

A wafer stage holds a wafer attached on a reference base in a vacuum container and to be exposed. - 特許庁

露光装置、及び当該装置を用いたデバイス製造方法、位置合わせ方法、並びにステージ装置例文帳に追加

EXPOSURE DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE BY USING THE SAME, POSITIONING METHOD, AND STAGE DEVICE - 特許庁

レチクルステージのガイド面を含む空間が露光光の光束を妨げない様にする。例文帳に追加

To prevent hindrance of the luminous flux of exposure light by a space, containing the guide surface of a reticle stage. - 特許庁

ウエハを載置する露光ステージを複数有する露光機から、加熱対象ウエハの露光時に用いられた前記露光ステージを特定する情報を、ステージ情報として取得するステージ情報取得部と、前記加熱対象ウエハの加熱を行う加熱装置の加熱温度を設定する温度設定部とを具備する。例文帳に追加

The device for manufacturing a semiconductor device includes: a stage information acquisition part for acquiring, as stage information, information for specifying an exposure stage used in exposing a object wafer to be heated from an exposure unit including a plurality of exposure stages each used for mounting a wafer thereon; and a temperature setting part for setting the heating temperature of a heating device for heating the object wafer. - 特許庁

計測方法、ステージ移動特性の調整方法、露光方法及びデバイス製造方法例文帳に追加

MEASURING METHOD, METHOD OF ADJUSTING STAGE MOVE BEHAVIOR, EXPOSURE METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE - 特許庁

リニアモータ、及びこれを備えるステージ装置、露光装置並びにデバイス製造方法例文帳に追加

LINEAR MOTOR, STAGE EQUIPMENT COMPRISING IT, EXPOSURE SYSTEM AND PROCESS FOR FABRICATING DEVICE - 特許庁

ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびに移動案内方法例文帳に追加

STAGE DEVICE, ALIGNER, DEVICE MANUFACTURING METHOD AND MOVEMENT GUIDE METHOD - 特許庁

電流制御装置、モータ駆動装置、ステージ装置、およびそれを備えた露光装置例文帳に追加

CURRENT CONTROLLER, MOTOR DRIVER, STAGE DEVICE, AND EXPOSURE SYSTEM EQUIPPED WITH THEM - 特許庁

露光装置内のステージ等の機構の汚染を低減することができる基板処理技術を提供する。例文帳に追加

To provide a technique capable of reducing contamination in a mechanism such as a stage in an exposure device. - 特許庁

ウエハの真空吸着を簡便にしたステージ装置及び露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a stage device for easily performing the vacuum suction of a wafer, and to provide an aligner. - 特許庁

駆動方法及びその装置、ステージ装置、露光装置、デバイス及びデバイス製造方法例文帳に追加

DRIVING METHOD, DRIVER, STAGE DEVICE, EXPOSURE, DEVICE AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

ステージ制御装置及び方法、露光装置及び方法、並びにデバイス製造方法例文帳に追加

STAGE CONTROLLING APPARATUS AND METHOD THEREFOR, EXPOSURE APPARATUS AND METHOD THEREFOR, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

循環路中で循環する複数のステージの露光準備に要する時間を短縮する。例文帳に追加

To reduce a time required for the exposure preparation of a plurality of stages circulating in a circuit. - 特許庁

露光ステージ６上にワーク２を配置し、真空吸着によりワーク２を固定する。例文帳に追加

A work 2 is arranged on an exposure stage 6, and the work 2 is fixed by vacuum suction. - 特許庁

高速駆動と高精度の駆動とを同時に満たす基板ステージおよび露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a substrate stage and an exposure device equipped with it which suffice high-speed drive and high-accuracy drive simultaneously. - 特許庁

ステージ装置およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法例文帳に追加

STAGE APPARATUS AND LIGHT EXPOSURE EQUIPMENT USING THE SAME AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE - 特許庁

露光ステージの減速時の速度変化の傾きを４００ｍｍ／ｓｅｃ^2 以下にすること。例文帳に追加

A gradient of speed variation during speed reduction of the exposure stage is set to ≤400 mm/sec^2. - 特許庁

ステージ装置、静圧軸受装置、位置決め方法、露光装置及びデバイス製造方法例文帳に追加

STAGE SYSTEM, STATIC-PRESSURE BEARING DEVICE, METHOD FOR POSITIONING, EXPOSURE SYSTEM, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE - 特許庁

ステージが、表面に感光膜が形成された露光対象物を保持する。例文帳に追加

An object to be exposed, having a photosensitive film formed on the surface thereof, is held on a stage. - 特許庁

ステージの駆動時の反力に起因する悪影響を防止して高精度な露光を実現する。例文帳に追加

To allow exposure at high precision by preventing an adverse effect from the reaction at driving a stage. - 特許庁

断熱構造、断熱装置、ヒートシンク、駆動装置、ステージ装置、露光装置及びデバイスの製造方法。例文帳に追加

HEAT INSULATING STRUCTURE, HEAT INSULATING DEVICE, HEAT SINK, DRIVER, STAGE DEVICE, EXPOSURE EQUIPMENT, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE - 特許庁

リニアモータ、およびこれを用いたステージ装置、露光装置ならびにデバイス製造方法例文帳に追加

LINEAR MOTOR, STAGE APPARATUS USING THE SAME ALIGNER, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

リニアモータ、これを用いたステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法例文帳に追加

LINEAR MOTOR, STAGE ARRANGEMENT USING THIS, EXPOSURE DEVICE, AND MANUFACTURING METHDO OF DEVICE - 特許庁

２つのステージを異なる経路に沿って露光位置と交換位置との間で移動する。例文帳に追加

To move two stages between an exposure position and an exchange position along different passages. - 特許庁

帯状ワークの露光装置およびマスクとワークステージの平行設定方法例文帳に追加

EXPOSING DEVICE OF STRIP-SHAPED WORK, AND METHOD FOR SETTING MASK AND WORK STAGE IN PARALLEL - 特許庁

リニアモータ装置、ステージ装置及び露光装置並びにリニアモータ装置の冷却方法例文帳に追加

LINEAR MOTOR, STAGE, ALIGNER, AND COOLING METHOD OF LINEAR MOTOR - 特許庁

リニアモータおよびそれを用いたステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法例文帳に追加

LINEAR MOTOR AND STAGE APPARATUS USING THE SAME, EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

走査型投影露光装置、マスクステージの走り補正方法及びマイクロデバイスの製造方法例文帳に追加

SCANNING PROJECTION ALIGNER, METHOD OF CORRECTING RUNNING OF MASK STAGE, AND METHOD OF MANUFACTURING MICRO DEVICE - 特許庁

次に、照明系，レンズ系，ステージ系の各機構を固定した状態で、第２回目の露光を行なう。例文帳に追加

Thereafter, second exposure is carried out with each structure of an illumination system, a lens system and a stage system fixed. - 特許庁

防振性に優れ、より高精度なステージの位置決めができる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an aligner excellent in vibration resistance and capable of high-precision stage positioning. - 特許庁

マスクステージに取り付けられた第１の距離センサが、ウエハの被露光面までの距離を測定する。例文帳に追加

A first distance sensor mounted on the mask stage measures the distance to the exposed surface of the wafer. - 特許庁

ステージ制御装置及び方法、露光装置及び方法、並びにデバイス製造方法例文帳に追加

DEVICE AND METHOD FOR CONTROLLING STAGE, EXPOSURE DEVICE AND METHOD AND MANUFACTURING METHOD FOR DEVICE - 特許庁

モータ装置、ステージ装置、及び露光装置、並びにモータ装置の駆動制御方法例文帳に追加

MOTOR, STAGE, EXPOSING APPARATUS, AND DRIVE CONTROL METHOD FOR MOTOR - 特許庁

精密微動位置決め装置およびそれを備えた微動位置決めステージ、露光装置、検査装置例文帳に追加

PRECISE FINE POSITIONING DEVICE AND FINE POSITIONING STAGE HAVING THE SAME, ALIGNER, AND INSPECTION APPARATUS - 特許庁

リニアモータ及びリニアモータ製造方法及びステージ装置並びに露光装置例文帳に追加

LINEAR MOTOR AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND STAGE DEVICE AND ALIGNER - 特許庁

静圧流体軸受装置、およびこれを用いたステージ装置、露光装置ならびにデバイス製造方法例文帳に追加

STATIC PRESSURE FLUID BEARING DEVICE, STAGE DEVICE USING THE SAME, EXPOSURE DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD FOR DEVICE - 特許庁

複数の移動ステージを用いるプロキシミティ方式の露光において、レーザー測長系を用いて、露光時の基板の位置決めを精度良く行う。例文帳に追加

To position a substrate during exposure with high accuracy by using a laser length measuring system in proximity exposure using a plurality of moving stages. - 特許庁

フォトリソグラフィー用の露光装置は、蛍石からなるレンズを有する光学系と、露光される基板を保持するステージとを備えている。例文帳に追加

The aligner for photolithography includes the optical system having at least one lens made of the fluorite and a stage for holding a substrate being exposed. - 特許庁

２つのウエハステージ上のウエハに対する露光処理を交互に行う露光処理工程のスループットを向上する。例文帳に追加

To improve the throughput of the exposure processing step of alternately performing exposure operation on wafers on two wafer stages. - 特許庁

本発明は、基板ステージの走査速度が変動した場合にも露光むらが生じることがない走査型露光装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a scanning exposure apparatus causing no variations in exposure even when the scanning speed of a substrate stage changes. - 特許庁

ステージ装置、露光装置、半導体デバイス製造方法、半導体製造工場、および露光装置の保守方法例文帳に追加

STAGE DEVICE, ALIGNER, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PLANT, AND MAINTENANCE METHOD FOR THE ALIGNER - 特許庁

被露光基板支持ステージに支持させた被露光基板に対してマスクパターンが形成されたフォトマスクを間隔をあけて配設する。例文帳に追加

The photomask where a mask pattern is formed is provided as it is kept separate from the substrate as an object of exposure by a certain space. - 特許庁

ステージの加減速運転中も露光を可能とした荷電粒子線露光装置及び方法を提供する。例文帳に追加

To provide a device and method for charged particle beam exposure by which exposure can be performed while a stage is operated for acceleration and deceleration. - 特許庁

基板ステージは、リソグラフィシステムの露光部分からの露光ビームを受け取るために基板を位置決めするように構成される。例文帳に追加

The substrate stage is structured so that a substrate is positioned in order to receive the exposure beam from the exposure portion of a lithography system. - 特許庁