「露光ステージ」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

リニアモータ、並びにこれを用いたステージ装置及び露光装置例文帳に追加

LINEAR MOTOR, STAGE SYSTEM, AND ALIGNER - 特許庁

位置計測装置の反射部材構造及びステージ装置並びに露光装置例文帳に追加

REFLECTIVE MEMBER STRUCTURE OF POSITION MEASURING DEVICE, STAGE DEVICE AND EXPOSURE DEVICE - 特許庁

駆動機構、微動ステージ、露光装置及びデバイスの製造方法例文帳に追加

DRIVING MECHANISM, FINE MOVING STAGE, EXPOSURE SYSTEM, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

マスクホルダ、ステージ装置、露光装置、並びにデバイスの製造方法例文帳に追加

MASK HOLDER, STAGE DEVICE, ALIGNER, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE - 特許庁

露光装置とその製造方法、及びステージ装置とその搬送方法例文帳に追加

EXPOSURE APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND STAGE DEVICE AND CONVEYING METHOD THEREOF - 特許庁

ワークステージ及びその位置測定方法、並びにこれを備えた露光装置例文帳に追加

WORK STAGE AND METHOD FOR MEASURING ITS POSITION, AND EXPOSURE DEVICE EQUIPPED WITH THIS - 特許庁

ステージ装置および露光装置ならびにデバイス製造方法例文帳に追加

STAGE EQUIPMENT, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

ステージは、保持した露光対象物をＸ軸方向に移動させる。例文帳に追加

The stage moves the exposure object held by the stage in the X axis direction. - 特許庁

リニアモータ、ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法例文帳に追加

LINEAR MOTOR, STAGE APPARATUS, ALIGNER AND MANUFACTURE OF DEVICE - 特許庁

ステージ装置の制御方法、露光装置及びデバイスの製造方法例文帳に追加

CONTROL METHOD FOR STAGE DEVICE, EXPOSURE SYSTEM AND MANUFACTURING METHOD FOR DEVICE - 特許庁

露光装置とこれを用いたデバイス製造方法、ならびにステージ装置例文帳に追加

EXPOSURE APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD USING IT, AND STAGE APPARATUS - 特許庁

モータ駆動装置、ステージ装置、露光装置、および、モータ駆動方法例文帳に追加

MOTOR DRIVER, STAGE APPARATUS, EXPOSURE SYSTEM, AND METHOD OF DRIVING MOTOR - 特許庁

リニアモータおよびステージ装置ならびに露光装置とデバイス製造方法例文帳に追加

LINEAR MOTOR, STAGE, ALIGNER, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE - 特許庁

位置決めステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法例文帳に追加

POSITIONING STAGE UNIT, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

ステージ装置及びその制御方法、露光装置及びデバイス製造方法例文帳に追加

STAGE EQUIPMENT AND METHOD OF CONTROLLING THE SAME, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

ステージ制御装置及び露光装置並びにデバイスの製造方法例文帳に追加

STAGE CONTROL DEVICE, ALIGNER AND METHOD FOR MANUFACTURING THE DEVICE - 特許庁

ステージ装置およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法例文帳に追加

STAGE APPARATUS AND ALIGNER, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD USING THE APPARATUS - 特許庁

荷電粒子線露光装置におけるステージ用部品の磁性検査装置例文帳に追加

APPARATUS FOR INSPECTING MAGNETISM OF STAGE COMPONENT IN CHARGED PARTICLE RAY EXPOSURE SYSTEM - 特許庁

ステージ装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法例文帳に追加

STAGE DEVICE, EXPOSURE METHOD AND DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

荷電粒子線露光装置及び方法並びにステージ装置例文帳に追加

SYSTEM AND METHOD FOR CHARGED-PARTICLE-BEAM EXPOSURE, AND STAGE DEVICE - 特許庁

流体軸受、流体ベアリング及びステージ装置並びに露光装置例文帳に追加

FLUID BEARING, FLUID BEARING, STAGE SYSTEM AND ALIGNER - 特許庁

アクチュエータ、ステージ、露光装置、デバイスの製造方法、及び免震装置例文帳に追加

ACTUATOR, STAGE, EXPOSURE DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING FOR DEVICE AND BASE-ISOLATING DEVICE - 特許庁

二つの基板ステージ２２，２４と一つのマスクステージ３４とを有し、かつ基板ステージ２２，２４がマスクステージ３４の前後方向または左右方向に移動可能な露光装置１０を用いて基板に露光パターンを転写する。例文帳に追加

An exposure pattern is transferred onto a substrate using an exposure apparatus 10 having two substrate stages 22, 24 and one mask stage 34, in which the substrate stages 22, 24 can be moved in a cross direction or a longitudinal direction of the mask stage 34. - 特許庁

フォトマスクを露光する露光装置のＳｉ基板を保持するステージの回転角に対応して、フォトマスクを交換して露光する。例文帳に追加

The photomask is replaced and exposed corresponding to the rotating angle of the stage holding the Si substrate of the exposure device for exposing the photomask. - 特許庁

露光装置のステージ移動軸の直交度を露光処理中に正確に検出することが可能な露光方法を低コストに提供する。例文帳に追加

To provide an exposure method at lost cost which is capable of accurately detecting the orthogonality of a stage-moving shaft of an exposure apparatus during exposure processing. - 特許庁

露光不良を抑制できるマスク、ステージ装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a mask capable of suppressing an exposure defect, a stage device, an aligner, an exposure method, and a device manufacturing method. - 特許庁

露光装置は、露光ヘッドと、この露光ヘッドを感光材料１５０に対して相対移動させるステージ１５２を備える。例文帳に追加

The exposure apparatus is equipped with the exposure head and a stage 152 to relatively move the exposure head with respect to the photosensitive material 150. - 特許庁

露光装置は、所定幅を有するロールフィルム状の被露光体Ｔを露光ステージ５０上に送り込んで、マスクの回路パターンを被露光体に露光する露光装置である。例文帳に追加

The exposure apparatus feeds a body T to be exposed in a roll film shape having a prescribed width onto an exposure stage 50 and exposes the circuit pattern of a mask to the body to be exposed. - 特許庁

露光基板を搭載したステージを移動させる構造の露光方法であって、露光すべきパターンの粗細の程度に見合った時間で露光を行うことで、露光時間の短縮することのできる露光方法及び装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure method using a structure of moving a stage that mounts an exposure substrate, by which exposure time can be reduced by exposure in a time period matching the degree of pattern roughness to be exposed and to provide an exposure apparatus. - 特許庁

ステージ制御部は、露光領域に位置するステージ４５に保持された基板４０の露光後に、基板４０上の液体の少なくとも一部がステージ４５の突出部４２の上を経由して他のステージ４５に保持された基板４０の上に移動するように、複数のステージ４５を制御する。例文帳に追加

A stage control section controls the stages 45 so that after exposure of a substrate 40 held on a stage 45 positioned in the exposure region, at least a part of a liquid on the substrate 40 can move to a substrate 40 held in another stage 45 through the upper part of a protruding portion 42 of the stage 45. - 特許庁

走査露光方式により縮小投影露光を行う場合は、レチクルステージＲＳＴに大きな加速度が要求されるので、走査露光時のレチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴの高加速度化、高速化が可能となり、走査露光時間の短縮によりスループットの向上が可能である。例文帳に追加

When reduction projecting exposure is conducted by a scanning exposure system, large acceleration is required for the stage RST, and hence the stage RST at a scanning exposure time and a wafer stage WST can be highly accelerated at its speed, and the throughput can be improved by shortening the scanning exposure time. - 特許庁

偏光露光装置は、被露光基板を載置するステージと、平面視でステージ上の被露光基板に重なる位置に配置されたマスク５と、光源と、光源からの光を、マスク５を経てステージ上の被露光基板に至る光路に沿って導く光学系と、を備える。例文帳に追加

The polarized light exposure device includes: a stage for loading a substrate to be exposed; a mask 5 arranged on a position overlapped with the substrate to be exposed on the stage as a plain view; a light source; and an optical system of guiding light from the light source along an optical path to the substrate to be exposed on the stage through the mask 5. - 特許庁

ステージの走査中に、ステージと基板との間の相対位置ずれを防ぐステージ装置、これを用いる露光装置、及びその露光装置を用いるデバイス製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a stage device which prevents a relative positional shift between a stage and a board during the scanning of the stage, an exposure apparatus that uses the stage device, and a device manufacturing method that uses the exposure apparatus. - 特許庁

液体を介して露光光を投射することにより、ウエハステージ（粗動ステージ）上の微動ステージＷＦＳ１に保持されたウエハＷが露光される。例文帳に追加

By projecting exposure light via liquid, a wafer W held by the slight movement stage WFS1 on a wafer stage (rough movement stage) is exposed to light. - 特許庁

露光装置１００は、ステージＷＦＳ２が計測ステーション３００から露光ステーション２００へ搬送される際、このステージＷＦＳ２の位置情報を計測可能な第３の微動ステージ計測系を有する。例文帳に追加

An exposure apparatus 100 has a third fine movement stage position measurement system which can measure positional information of the stage WFS2 when the stage WFS2 is carried from the measurement station 300 to the exposure station 200. - 特許庁

ステージ可動部がステップ移動した時に発生するギャップ変動量を低減できるステージ装置、および該ステージ装置を備えてスループットおよび露光精度の向上が可能な露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a stage system which can reduce the fluctuating amount of a gap that occurs when a mobile stage section moves in steps, and to provide an exposure apparatus which is provided with the stage system and can be improved in throughput and exposure accuracy. - 特許庁

液浸露光装置において、一つのステージに保持された基板上の液体を他のステージに保持される基板に移動させることに伴うステージの移動パターンの制約を低減する露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a liquid-immersion exposure apparatus which reduces restriction on movement patterns of a stage due to movement of a liquid on a substrate held with a certain stage to a substrate to be held with another stage. - 特許庁

基板Ｗ上の複数の所定位置で露光する際、ワークステージ送り機構２は、基板ＷとマスクＭとの間の露光ギャップを保持したまま、ワークステージ２をマスクステージ１に対して相対移動する。例文帳に追加

When a plurality of predetermined positions on the substrate W are to be exposed, the work stage feeding mechanism 2 relatively moves the work stage 2 with respect to the mask stage 1 while keeping the exposure gap between the substrate W and the mask M. - 特許庁

気体軸受によって作用される気体に起因するステージの変形を抑えることができるステージ装置、及びこのステージ装置を備えて精度良い露光処理を行うことができる露光装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a stage system in which deformation of a stage caused by gas acting through gas bearings can be suppressed, and an aligner in which highly accurate alignment can be effected using that stage system. - 特許庁

各種の露光装置に使用できる露光ステージ装置であって、露光装置に使用した該露光ステージは、露光基板である凹型ウェハ又は凸型ウェハの変形した変形ウェハ６０をＸ軸、Ｙ軸とも上下に傾斜できる微調整部１３０を基板ホルダー１５０裏面に設けた。例文帳に追加

The exposure stage device is usable for various exposure devices, and an exposure stage used for an exposure device is constituted by providing a fine adjustment section 130, capable of tilting the deformed wafer 60 deformed into the concave wafer or convex wafer as a substrate to be exposed, vertically along both an X axis and a Y axis on a reverse surface of a substrate holder 150. - 特許庁

これを各測定ポイントで繰り返す事により、実際の露光動作のように、レチクルステージとウェーハステージのスキャンニングを行いながら、露光フィールド内の露光量分布をマップとして把握する。例文帳に追加

Exposure value distribution in the exposure field is comprehended as a map, while a reticle stage and the wafer stage 34 are scanned as in actual exposure operation by repeating measurements at the respective measuring points 23. - 特許庁

露光装置ＰＥは、露光位置ＥＰと第１待機位置ＷＰ１間で移動可能な第１基板ステージ１１と、露光位置ＥＰと第２待機位置ＷＰ２間で移動可能な第２基板ステージ１２と、を備える。例文帳に追加

An exposure device PE comprises a first substrate stage 11 movable between an exposure position EP and a first standby position WP1, and a second substrate stage 12 movable between the exposure position EP and a second standby position WP2. - 特許庁

露光装置ＥＸは、６自由度を有するよう支持されたウェハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴからなるステージ装置ＳＴ、及びステージ装置ＳＴを制御する主制御系ＭＣを備える。例文帳に追加

The exposure apparatus EX includes a stage apparatus ST composed of a wafer stage WST and a measurement stage MST supported so as to have a six degree of freedom and a main control system MC for controlling the stage apparatus ST. - 特許庁

ステージの駆動反力処理を改良し、ステージを高精度で移動・位置決めできるステージ装置及びそのようなステージ装置を備えた露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a stage apparatus which has improved drive reaction force for a stage and is capable of accurately moving and positioning the stage, and to provide an aligner equipped with such a stage apparatus. - 特許庁

かかる露光中には、ステージの移動に応じて、カウンタステージ（２２等）がステージとは反対方向に移動するため、ステージ駆動による反力がほぼ完全に吸収される。例文帳に追加

During the exposure, a counter stage (22, etc.), moves in the opposite direction from the stage according to the movement of the stage, so reaction force caused by the driving of the stage is almost completely absorbed. - 特許庁