「露光ステージ」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

プリント配線基板のたわみを抑制し、精度の高い露光を行える露光装置基板ステージを提供する。例文帳に追加

To provide a substrate stage for exposure device which suppresses the deflection of a printed circuit board and performs highly precise exposure. - 特許庁

出力電流制御装置、ステージ装置、露光装置、およびこの露光装置により製造したデバイスおよびデバイスの製造方法例文帳に追加

OUTPUT CURRENT-CONTROL DEVICE, STAGE DEVICE, PROJECTION ALIGNER, AND DEVICE MANUFACTURED BY THE PROJECTION ALIGNER AND MANUFACTURING METHOD THER DEVICE - 特許庁

本発明は、露光不良を抑制できるステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a stage apparatus and an exposure apparatus that suppress defective exposure, and a method for manufacturing a device. - 特許庁

基板のエッジ領域を液浸露光する場合に良好に液浸領域を形成した状態で露光できる基板ステージを提供する。例文帳に追加

To provide a substrate stage capable of exposing an edge region of a substrate with a liquid immersion region formed well when subjecting the edge region to liquid immersion exposure. - 特許庁

ＰＷＭ制御装置、モータ駆動装置、ステージ装置、露光装置、およびこの露光装置により製造したデバイスおよびデバイスの製造方法例文帳に追加

PWM CONTROL DEVICE, MOTOR DRIVING DEVICE, STAGE DEVICE, PROJECTION ALIGNER, AND DEVICE MANUFACTURED THEREBY AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE - 特許庁

周辺露光のために照射した光がステージで反射して有効領域の対象層をオーバー露光としてしまうことを防止する。例文帳に追加

To prevent an object layer in an effective region from being overexposed as irradiation light for periphery exposure is reflected by a stage. - 特許庁

被露光基板２を支持する被露光基板支持ステージ３の表面側および裏面側に上方投影機４および下方投影機５を設ける。例文帳に追加

An upper projector 4 and a lower projector 5 are provided on the surface side and backside of a substrate support stage 3 which supports the substrate 2 as an object of exposure. - 特許庁

ステージ移送が終了されると、光は更に第１露光対象物Ｗ１の表面に誘導され、第１露光工程が更に行われる。例文帳に追加

When the stage transfer is completed, the beam is further guided to the surface of the first exposure object W1 to further perform the first exposure process. - 特許庁

ステージ装置の位置制御をより精密に行うことが可能な露光装置及び露光方法を提供すること。例文帳に追加

To provide an exposure system and an exposure method which carries out positional control on a stage device more precisely. - 特許庁

テープ６の中央領域１７と側辺領域１９とを露光ステージ２に固定することができる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure device in which a center region 17 and a side region 19 of a tape 6 can be fixed to an exposure stage 2. - 特許庁

ＭＭ型のリニアモータをステージの移動に使用する場合であっても、正確な露光転写が行える荷電粒子線露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a charged particle beam aligner that can realize accurate exposure transfer even when an MM type linear motor is used to move a stage. - 特許庁

また、このステージ装置を備えた露光装置では、振動の影響を極力低減して、高精度な露光が可能となる。例文帳に追加

In addition, highly accurate exposure is possible by reducing the vibration effects, with the aligner which is provided with this stage device. - 特許庁

マスクおよび試料台のステージが水平で露光量の制御が容易な反射マスク型荷電粒子ビーム露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a reflection mask-type charged particle beam exposure system, where a mask and a sample table stage are kept horizontal in position, and exposure can be easily controlled. - 特許庁

ＭＭ型のリニアモータをステージの移動に使用する場合であっても、正確な露光転写が行える荷電粒子線露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a charged particle beam exposure system which can make accurate exposure and transfer even when an MM type linear motor is used for moving a stage. - 特許庁

出力制御装置、モータ駆動装置、ステージ装置、露光装置、この露光装置により製造したデバイスおよびデバイスの製造方法例文帳に追加

OUTPUT CONTROLLER, MOTOR DRIVE GEAR, STAGE SYSTEM, EXPOSURE SYSTEM, DEVICE MANUFACTURED BY MEANS OF THE EXPOSURE SYSTEM, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE - 特許庁

ステージの加速中にも基板を走査露光する方式において、基板の露光精度を向上させる。例文帳に追加

To improve the exposure accuracy of a substrate in a method wherein the scanning exposure of the substrate is carried out even when accelerating the stage. - 特許庁

基板ステージと同期して移動しながら、露光光Ｅを部分的に透光／遮光し基板５０上に照射させる露光装置。例文帳に追加

Exposure light E is partially transmitted, intercepted and emitted on a substrate 50 while moving synchronously with the substrate stage. - 特許庁

モータ駆動装置、ステージ装置、露光装置、およびこの露光装置により製造したデバイスおよびデバイスの製造方法例文帳に追加

MOTOR DRIVE, STAGE, ALIGNER, DEVICE MANUFACTURED BY THE ALIGNER, AND METHOD OF MANUFACTURING THE DEVICE - 特許庁

浸液１２を介して基板５を露光する露光装置は、基板５を保持し移動するステージ７を備える。例文帳に追加

This exposure system for exposing a substrate 5 via the immersion liquid 12 includes the stage 7 which holds the substrate 5 and moves. - 特許庁

この露光装置は、被露光材である基板を保持するワークステージと、マスクパターンを有するマスクＭを基板に対向させて保持するマスクステージ１と、マスクパターン露光用の光をマスクＭを介して基板に照射する照射手段（露光用照明光学系）とを備えている。例文帳に追加

The exposure apparatus includes a work stage holding a substrate as an exposure object, a mask stage 1 holding a mask M having a mask pattern as opposing to the substrate, and an irradiating means (exposure illumination optical system) irradiating the substrate with light for mask pattern exposure through the mask M. - 特許庁

ついで、ワーク搬送機構２３が、ワークＷを露光ステージＷＳに搬送し、マスクマークＭＡＭとワークマークＷＡＭの位置が一致するように位置合わせを行ない、露光ステージＷＳを移動させながら、ワークＷ上の各露光領域を順次露光する。例文帳に追加

Then a work conveying mechanism 23 conveys the work W to an exposure stage WS and performs alignment so that positions of mark marks MAM and work marks WAM are aligned with each other, and while the exposure stage WS is moved, each exposure region on the work W is exposed in sequence. - 特許庁

本発明における露光装置１は、フォトマスク５を保持するマスクステージ４と、マスクステージ４を回転運動させるマスク用駆動装置１４と、基板１１を保持する基板ステージ１０と、マスクステージ４と同期させて基板ステージ１０を回転運動させる基板用駆動装置８とを備えている。例文帳に追加

The aligner 1 is provided with a mask stage 4 for holding a photomask 5, a mask driver 14 for rotating the mask stage 4, a substrate stage 10 for holding the substrate 11, and a substrate driver 8 for rotating the substrate stage 10 in synchronization with the mask stage 4. - 特許庁

メンテナンス時に、ステージ本体が他の部材と衝突するのを回避しつつ、当該ステージ本体を容易に取り出すことができるステージ装置、このようなステージ装置を備えた露光装置及びステージ装置のメンテナンス方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a stage device in which a body of the stage device is easily taken out from the stage device while avoiding collision between the body and other members during maintenance, and to provide a method for maintaining an aligner with such the stage device and the stage device. - 特許庁

投影露光装置１０は、露光光を用いてフォトマスク１４に形成された透光パターンを露光ステージ３１上の基板３２に投影する露光光学系を有する。例文帳に追加

The project exposure device 10 has an exposure optical system that projects a projected pattern formed on a photomask 14 on a substrate 32 on exposure stage 31 with exposure light. - 特許庁

透明膜を露光する際に、下地となる電極配線や露光ステージの溝等の存在により露光の光が局所的に強度が変動する反射光となってレジストを露光するため、高精細なパターニングができない。例文帳に追加

To solve such a problem that when a transparent film is exposed, high-definition patterning cannot be performed since resist is exposed as exposure light becomes reflected light which locally varies in intensity owing to presence of electrode wiring, the groove of an exposure stage, etc., as a base. - 特許庁

露光対象基板を載せるステージのヨーイングに起因する露光パターンの位置ズレを発生しない、低コストかつ高精度の直接露光方法および直接露光装置を実現する。例文帳に追加

To provide a direct exposure method and a direct exposure device of low cost and high-precision which will not cause positional deviations of an exposure pattern, resulting from yawing of a stage on which a substrate to be exposed is placed. - 特許庁

露光時間を短縮できるとともに、振動等の不具合の発生を抑えつつ所望の露光精度で露光処理できるステージ装置及び露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a stage system and an aligner in which exposure time is shortened, and exposure processing is carried out with a desired exposure accuracy, while suppressing occurrence of troubles, e.g. vibration. - 特許庁

第１露光対象物Ｗ１に対するステージ移送時間の間、光を第２露光対象物Ｗ２に誘導して、第２露光対象物Ｗ２の表面に第２露光工程を行う。例文帳に追加

The beam is guided to a second exposure object W2 during the stage transfer time for the first exposure object W1, to perform the second exposure process on the surface of the second exposure object W2. - 特許庁

露光装置により露光する前に半導体ウエハー裏面の異物を検出し、露光装置のステージの半導体ウエハー支持部分を変形させ露光を行う。例文帳に追加

The apparatus for manufacturing the semiconductor comprises the steps of detecting the foreign matter on the rear surface of the semiconductor wafer before exposing by the exposure device, deforming a semiconductor wafer supporting part of a stage of the exposure device, and exposing the wafer. - 特許庁

第１露光工程のステージ移送時間の間に第２露光工程を行うことができる基板の露光方法、及びこれを用いる露光装置が開示される。例文帳に追加

To disclose a method of exposing a substrate by which a second exposure process can be performed during a stage transfer time in a first exposure process, and to provide an exposure apparatus using the same. - 特許庁

計測位置または計測ステーションと露光位置または露光ステーションでのステージ駆動特性差を計測及び補正することができる露光方法及び露光装置、デバイス製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure method and apparatus, and a device manufacturing method that can measure and correct a difference of a stage drive performance at a measuring position or at a measuring station and an exposure position or at an exposure station. - 特許庁

被媒体情報をもとに、１回のアライメントで設定した位置を基準として、遮光マスク又は基板ステージの機械動作によって露光位置へ移動し、設定した露光位置で停止し、露光位置に移動した後、露光条件算出機構で算出された露光条件をもとに露光を行う。例文帳に追加

The exposure apparatus includes: moving to an exposure position by mechanical operations of a light-shielding mask or a substrate stage on the basis of the information about a medium to be exposed by referring to a position set by a single alignment; stopping at the set exposure position; and carrying out exposure, after moving to the exposure position, under exposure conditions calculated by an exposure condition calculating mechanism. - 特許庁

この露光装置は、磁性体からなるステージ定盤と、基板を載置しステージ定盤に沿って真空内を移動するステージ１００２と、ステージ定盤からステージ１００２を加圧流体により浮上させる流体軸受け１０２７と、ステージ定盤とステージ１００２との間に吸引力を作用させる磁石ユニット１０２８と、磁界レンズとを備える。例文帳に追加

This exposure system comprises a stage pedestal composed of a magnetic material, a stage 1002 on which a wafer is loaded and which moves on the stage pedestal in a vacuum environment, fluid bearings 1027 that float the stage 1002 from the stage pedestal by pressurized fluid, magnet units 1028 that apply attractive forces between the stage pedestal and the stage 1002, and an electromagnetic lens. - 特許庁

液浸液を液浸露光装置の外周ステージから露光ステージに向かって移動させる際に、有機膜の外周端縁が基板から剥離することを防止する。例文帳に追加

To prevent the outer peripheral edge of an organic film from peeling from a substrate when an immersion liquid is moved from the outer peripheral stage to the exposure stage of a liquid immersion exposure apparatus. - 特許庁

本発明は、複数のステーションと複数の基板ステージとを有し、複数のステーションと複数の基板ステージとを用いてジョブを実行することにより、基板を露光する露光装置である。例文帳に追加

The present invention is an exposure apparatus that has a plurality of stations and a plurality of substrate stages, and exposes a substrate by performing a job using the plurality of stations and plurality of substrate stages. - 特許庁

その受光センサからの受光量信号に基づいて、露光光の露光領域内における照度分布及びレチクルステージとウエハステージとの同期移動の精度を計測する。例文帳に追加

Thus, illuminance distribution in the exposure area of the exposing lights and the precision of the synchronous movement of the reticule stage, and the wafer stage can be measured based on received light quantity signals from the light-receiving sensor. - 特許庁

用力ケーブルから露光動作中のステージに伝達される振動を低減し、ステージ位置決め精度の劣化および解像力の劣化を低減する露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure device reducing vibrations transmitted to a stage under an exposure operation from a power usage cable and reducing the deterioration in the stage-positioning accuracy and resolving power. - 特許庁

露光ユニットＥＸＰ内にて基板ステージの洗浄作業またはアライメント作業を行うときには、基板処理装置ＳＰから露光ユニットＥＸＰにステージ洗浄用基板ＣＷまたはダミー基板ＤＷを搬送する。例文帳に追加

When the substrate stage is to be cleaned or aligned in the exposure unit EXP, the stage cleaning substrate CW or the dummy substrate DW is carried from the substrate processor SP to the exposure unit EXP. - 特許庁

画像記録装置１は、基板９を保持するステージユニット２、複数の光照射部４０を有する露光ユニット４、並びに、ステージユニット２と露光ユニット４とを相対的に移動する機構を有する。例文帳に追加

The image recording apparatus 1 is provided with a stage unit 2 for holding a substrate 9, an exposure unit 4 having a plurality of irradiation parts 40 and a mechanism for relatively moving the stage unit 2 and the exposure unit 4. - 特許庁

ステップ＆スキャン式露光装置において、露光中のレチクルステージとウエハステージのスキャン同期誤差を悪化させることなく、ステップ駆動プロファイルを駆動毎に最適化することによって、スループットを向上させる。例文帳に追加

To improve throughput by optimizing a step drive profile for each drive, without deteriorating scan synchronization errors of a reticle stage and a wafer stage during alignment in a step-and-scan type aligner. - 特許庁

露光中の固定子の移動を抑えて同固定子の移動による磁場変動を防ぎ、高精度で移動・位置決めできるステージ装置及びそのようなステージ装置を搭載した露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a stage apparatus which allows suppressing the movement of stators during an exposure to prevent magnetic field variations caused by the movement of the stators, and which is capable of moving and positioning with high precision, and to provide an aligner equipped with such a stage apparatus. - 特許庁

リニアモータ装置、これを用いたステージ装置、露光装置、これを用いて製造されたデバイス、リニアモータの駆動方法、ステージ装置の駆動方法、露光方法、及び、デバイスの製造方法。例文帳に追加

LINEAR MOTOR APPARATUS AND STAGE APPARATUS THEREWITH, ALIGNER AND DEVICE MANUFACTURED THEREWITH, DRIVE METHOD FOR THE LINEAR MOTOR AND STAGE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND MANUFACTURING METHOD FOR DEVICE - 特許庁

リニアモータ装置、これを用いたステージ装置、露光装置、リニアモータの駆動方法、ステージ装置の駆動方法、露光方法、及び、デバイスの製造方法。例文帳に追加

LINEAR-MOTOR APPARATUS, STAGE AND ALIGNER USING THE SAME DRIVING METHODS OF LINEAR-MOTOR AND STAGE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE - 特許庁

液体ＬＱの蒸発に伴う気化熱の発生を低減した基板ステージと、基板ステージを用いた露光装置、及び液浸露光方法、並びにデバイスの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a substrate stage in which evaporation heat associated with the evaporation of liquid LQ is reduced; exposure equipment and an immersion exposure method using the substrate stage; and a device manufacturing method using the immersion exposure method. - 特許庁

ウェハ保持部１１５と露光装置４との間には２次搬送体１１６が配置され、これを介して露光装置４におけるインステージ４０１及びアウトステージ４０２との間でウェハＷの搬入出を行うようになっている。例文帳に追加

A secondary transfer body 116 is arranged between the wafer holding part 115 and an exposure device 4, and a wafer W is carried in/out between an in-stage 401 and an out-stage 402 in the exposure device 4 through the body 116. - 特許庁