「露光ステージ」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

基板上の複数の露光領域に走査露光する際にもステージ精度を容易に補正する。例文帳に追加

To easily correct the stage accuracy when plural exposure areas on a substrate are scanned and exposed. - 特許庁

露光装置、露光装置のステージ温度制御方法、及び表示用パネル基板の製造方法例文帳に追加

EXPOSURE DEVICE, STAGE TEMPERATURE CONTROL METHOD FOR EXPOSURE DEVICE, AND DISPLAY PANEL SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

基板保持装置、基板ステージ、露光装置、露光方法、デバイス製造方法、並びに撥液プレート例文帳に追加

SUBSTRATE HOLDING APPARATUS, SUBSTRATE STAGE, EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE METHOD, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND LIQUID-REPELLENT PLATE - 特許庁

荷電粒子線露光装置用ステージ、荷電粒子線露光装置、及び半導体デバイスの製造方法例文帳に追加

CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM AND STAGE THEREFOR, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

例えばスリットスキャン露光方式の走査型露光装置におけるステージの制御を正確に行う。例文帳に追加

To control a stage accurately in a scanning aligner of slit scan aligning system. - 特許庁

液体ＬＷを介して基板４０を露光する露光装置は、ステージを備える。例文帳に追加

The exposure apparatus for exposing a substrate 40 through liquid LW includes a stage. - 特許庁

制御方法、露光方法、デバイスの製造方法、ステージ装置及び露光装置例文帳に追加

CONTROL METHOD, EXPOSURE METHOD, METHOD OF MANUFACTURING DEVICE, STAGE AND EXPOSURE DEVICE - 特許庁

ステージ位置計測方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法例文帳に追加

STAGE POSITION MEASUREMENT METHOD, EXPOSURE METHOD, EXPOSURE SYSTEM, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

マスクの露光パターンが転写された露光済みの基板ＷＳを、再度、基板ステージで保持する。例文帳に追加

An exposed substrate WS on which the exposure pattern of a mask is transferred is held again on a substrate stage. - 特許庁

露光方法及び装置、ステージモジュール、露光装置の製造方法、並びにデバイス製造方法例文帳に追加

EXPOSURE METHOD AND ALIGNER, STAGE MODULE, METHOD OF MANUFACTURING THE ALIGNER, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE - 特許庁

計測装置及び計測方法、ステージ装置、並びに露光装置及び露光方法例文帳に追加

MEASURING DEVICE AND METHOD THEREFOR, STAGE DEVICE, AND EXPOSURE DEVICE AND METHOD THEREFOR - 特許庁

露光位置におけるステージ制御誤差を小さくすることができる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus capable of reducing a stage-control error at exposure position. - 特許庁

デュアル基板ステージ型ダブル露光リソグラフィシステムにおける方法およびデュアルウェハステージ型ダブル露光システム例文帳に追加

DUAL WAFER STAGE DOUBLE EXPOSURE LITHOGRAPHY SYSTEM AND METHOD FOR DUAL SUBSTRATE STAGE DOUBLE EXPOSURE LITHOGRAPHY SYSTEM - 特許庁

複数ステージ多重露光リソグラフィシステム、及び複数ステージ多重露光リソグラフィシステムの処理量を増加させる方法例文帳に追加

MULTIPLE STAGE MULTIPLE-EXPOSURE LITHOGRAPHIC SYSTEM, AND METHOD FOR INCREASING THROUGHPUT IN MULTIPLE STAGE MULTIPLE-EXPOSURE LITHOGRAPHIC SYSTEM - 特許庁

液浸露光装置１００は、露光ステージ１０、外周ステージ２０、投影レンズ３０および駆動部４０を備えている。例文帳に追加

The immersion exposure apparatus 100 includes the exposure stage 10, the outer peripheral stage 20, a projection lens 30, and a driving unit 40. - 特許庁

ステージの制御性能を向上させ、露光装置の露光精度を向上させることができるステージ装置を提供する。例文帳に追加

To provide a stage device capable of improving control performance of a stage and improving exposure precision of an exposure device. - 特許庁

デュアル基板ステージ型ダブル露光リソグラフィシステムにおける方法およびデュアルウェハステージ型ダブル露光システム例文帳に追加

METHOD FOR INCREASING THROUGHPUT IN DUAL-SUBSTRATE-STAGE-TYPE DOUBLE EXPOSURE LITHOGRAPHIC SYSTEM AND DUAL-WAFER-STAGE TYPE DOUBLE EXPOSURE SYSTEM - 特許庁

ステージ装置及びステージの駆動方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス及びその製造方法例文帳に追加

STAGE SYSTEM AND ITS DRIVING METHOD, EXPOSING SYSTEM AND EXPOSING METHOD, AND DEVICE AND ITS FABRICATING METHOD - 特許庁

露光ステージ装置１００はＸ軸とＹ軸とＺ軸とを移動できるように設けた構成の露光ステージ装置である。例文帳に追加

The exposure stage device 100 is an exposure stage device configured to move along the X axis, the Y axis, and a Z axis. - 特許庁

ステージ装置の駆動方法及びステージ装置並びに露光装置及び露光方法並びにデバイス及びデバイスの製造方法例文帳に追加

STAGE AND ITS DRIVING METHOD, ALIGNER AND EXPOSURE METHOD, AND DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

モータ装置、ステージ装置、露光装置、デバイス、モータの駆動方法、ステージ装置の駆動方法、露光方法、および、デバイスの製造方法例文帳に追加

MOTOR, STAGE, ALIGNER, DEVICE, DRIVING METHOD OF MOTOR AND STAGE, EXPOSURE METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE - 特許庁

例えば複数のステージを有する露光装置において、移動するステージの位置計測を高精度に行いうる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure system which highly accurately measures the positions of stages to be moved concerning the exposure system having a plurality of stages, for example. - 特許庁

駆動装置の設計方法、ステージ装置の設計方法、ステージ装置の製造方法、露光装置の製造方法、およびステージ装置例文帳に追加

METHOD OF DESIGNING DRIVER, METHOD OF DESIGNING STAGE DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING STAGE DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING EXPOSURE APPARATUS AND STAGE DEVICE - 特許庁

また、露光装置は、粗動ステージＷＣＳ１との間で、微動ステージＷＦＳ１の受け渡しが可能なリレーステージＤＲＳＴを備えている。例文帳に追加

Further, the exposure apparatus includes a relay stage DRST that can deliver the fine movement stage WFS1 to/from the coarse movement stage WCS1. - 特許庁

粗動ステージの駆動に伴う発熱を低減し、微動ステージの交換を可能とするステージ装置及び露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a stage device capable of reducing the heat produced when driving a coarse motion stage and of replacing a fine motion stage, and to provide an exposure apparatus. - 特許庁

ステージ装置の大型化を抑えることができるステージ装置およびこのステージ装置を用いた露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a stage device capable of suppressing the enlargement of size of the stage device, and an exposure device employing the stage device. - 特許庁

干渉計システム、ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法例文帳に追加

INTERFEROMETER SYSTEM, STAGE DEVICE, EXPOSURE DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

ＸＹステージ装置、半導体検査装置、及び半導体露光装置例文帳に追加

XY STAGE DEVICE, SEMICONDUCTOR INSPECTION APPARATUS, AND SEMICONDUCTOR ALIGNER - 特許庁

電機子ユニット、電磁アクチュエータ、ステージ装置、及び露光装置例文帳に追加

ARMATURE UNIT, ELECTROMAGNETIC ACTUATOR, STAGE DEVICE AND EXPOSING DEVICE - 特許庁

磁石ユニット、リニアモータおよびステージ装置並びに露光装置例文帳に追加

MAGNET UNIT, LINEAR MOTOR, STAGE DEVICE, AND ALIGNER - 特許庁

電磁アクチュエータ冷却装置、ステージ装置、並びに露光装置例文帳に追加

ELECTROMAGNETIC ACTUATOR COOLING DEVICE, STAGE DEVICE, AND EXPOSURE SYSTEM - 特許庁

電磁アクチュエータ装置、ステージ装置、露光装置及びデバイス例文帳に追加

ELECTROMAGNETIC ACTUATOR APPARATUS, STAGE APPARATUS, ALIGNER AND DEVICE - 特許庁

半導体リレー回路、リニアモータ装置、ステージ装置、及び露光装置例文帳に追加

SEMICONDUCTOR RELAY CIRCUIT, LINEAR MOTOR, STAGE AND ALIGNER - 特許庁

ターゲットマーク部材、ウェハステージおよび電子ビーム露光装置例文帳に追加

TARGET MARK MEMBER, WAFER STAGE, AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM - 特許庁

基板保持装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法例文帳に追加

SUBSTRATE HOLDING APPARATUS, STAGE APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

保持装置、ステージ装置、および露光装置ならびに半導体デバイス例文帳に追加

RETAINER, STAGE APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS AND SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

コイルモジュール、コイルユニット、リニアモータ、ステージ装置及び露光装置例文帳に追加

COIL MODULE, COIL UNIT, LINEAR MOTOR, STAGE DEVICE, AND EXPOSER - 特許庁

平面モータ装置、ステージ装置、露光装置及びデバイスの製造方法例文帳に追加

PLANAR MOTOR APPARATUS, STAGE APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

駆動装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法例文帳に追加

DRIVE APPARATUS, STAGE APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

モータ装置、ステージ装置、露光装置及びデバイスの製造方法例文帳に追加

MOTOR APPARATUS, STAGE APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE - 特許庁

基板ステージ装置、露光装置および半導体デバイス製造方法例文帳に追加

SUBSTRATE STAGE DEVICE, EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

位置決めステージ装置、半導体露光装置およびデバイス製造方法例文帳に追加

POSITIONING STAGE DEVICE, SEMICONDUCTOR ALIGNER AND MANUFACTURE OF DEVICE - 特許庁

リニアモータ、ステージ装置および露光装置ならびにデバイス製造方法例文帳に追加

LINEAR MOTOR, STAGE APPARATUS, EXPOSING APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

ステージ装置、露光装置、制御方法、及びデバイス製造方法例文帳に追加

STAGE APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, CONTROL METHOD AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

ステージ装置および露光装置ならびにデバイス製造方法例文帳に追加

STAGE APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁