「ACTINIC RAY」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM例文帳に追加

パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びレジスト膜 - 特許庁

ACTINIC RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMATION METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM例文帳に追加

パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜 - 特許庁

ACTINIC ENERGY RAY-CURABLE COMPOSITION FOR PRODUCING FLAME RETARDANT, AND FLAME RETARDANT RESIN FILM OR SHEET例文帳に追加

難燃材製造用活性エネルギー線硬化型組成物及び難燃性樹脂フィルム又はシート - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線または感放射線性樹脂組成物、および該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

RESIN COMPOSITION CURABLE WITH ACTINIC ENERGY RAY AND FILM COATED WITH THE COMPOSITION例文帳に追加

活性エネルギー線硬化性樹脂組成物および当該組成物が塗布されたフィルム - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN THEREWITH例文帳に追加

感活性光線または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ALKALI-SOLUBLE IMIDE RESIN CURABLE BY ACTINIC ENERGY RAY, ALKALI-SOLUBLE IMIDE RESIN COMPOSITION CURABLE BY ACTINIC ENERGY RAY, COMPOSITION FOR SOLDER RESIST, PRINTED CIRCUIT BOARD AND PHOTOSENSITIVE DRY FILM例文帳に追加

活性エネルギー線硬化型アルカリ可溶性イミド樹脂、活性エネルギー線硬化型アルカリ可溶性イミド樹脂組成物、ソルダーレジスト用組成物、プリント配線板および感光性ドライフィルム - 特許庁

To provide an ink-jet printing ink curable by actinic energy ray, having excellent hydrolysis resistance, curable with heat or actinic energy ray and giving a cured product having high water resistance and heat resistance.例文帳に追加

耐加水分解性に優れ、熱や活性エネルギー線の照射による硬化が可能で、硬化後の耐水性や耐熱性が良好な活性エネルギー線硬化性インクジェット印刷用インクを提供する。 - 特許庁

ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN FILM THEREFROM AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition, an actinic ray- or radiation-sensitive film, mask blanks, and a pattern formation method, which enable pattern formation with excellent shapes.例文帳に追加

良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、マスクブランクス、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AS WELL AS ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERNING METHOD USING THIS COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in depth of focus and dependency on density distribution, as well as an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and a patterning method using this composition.例文帳に追加

フォーカス余裕度及び疎密依存性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

POSITIVE ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN FILM AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法 - 特許庁

ACTINIC-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND ACTINIC-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide a composition curable with actinic energy ray and eliminating troubles such as scumming and piling by improving an ink curable with actinic energy ray in offset printing using dampening water.例文帳に追加

湿し水を用いたオフセット印刷において活性エネルギー線硬化性インキの改良により、地汚れ、パイリング等のトラブルを解消する活性エネルギー線硬化性組成物を提供する事にある。 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法 - 特許庁

ACTINIC RAY-CURABLE INKJET INK COMPOSITION, ACTINIC RAY-CURABLE INKJET INKSET AND METHOD OF IMAGING AND INKJET RECORDING DEVICE USING IT例文帳に追加

活性光線硬化型インクジェットインク組成物、活性光線硬化型インクジェットインクセット及びそれを用いた画像形成方法及びインクジェット記録装置 - 特許庁

The invention relates to: a photosensitive composition containing a compound capable of generating a specific sulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation; a compound capable of generating a specific sulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation; and a pattern forming method using a photosensitive composition containing a compound capable of generating a specific sulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により特定のスルホン酸を発生する化合物を含有する感光性組成物、活性光線又は放射線の照射により特定のスルホン酸を発生する化合物及び活性光線又は放射線の照射により特定のスルホン酸を発生する化合物を含有する感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide an actinic ray-curable liquid composition excellent in solubility with water, curing property with actinic rays and stability when used for the forming material of aqueous ink.例文帳に追加

水溶性、活性エネルギー線硬化性、水性インクの形成材料などに用いた場合の安定性に優れた活性エネルギー線硬化型液体組成物の提供。 - 特許庁

The actinic ray- or radiation-sensitive resin composition includes a resin having a structure represented by general formula (I), and a compound which generates an acid upon irradiation with actinic rays or radiation.例文帳に追加

本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、下記一般式（Ｉ）により表される構造を備えた樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含んでいる。 - 特許庁

OXETANE COMPOUND, ACTINIC ENERGY RAY CURABLE COMPOSITION CONTAINING THE SAME, INK COMPOSITION FOR INK-JET RECORDING AND INK-JET RECORDING METHOD例文帳に追加

オキセタン化合物、それを用いた活性エネルギー線硬化組成物、インクジェット用インク組成物及びインクジェット記録方法 - 特許庁

POLYCARBONATE DIOL, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, AND POLYURETHANE AND ACTINIC-ENERGY-RAY-CURABLE POLYMER COMPOSITION BOTH FORMED USING THE SAME例文帳に追加

ポリカーボネートジオール及びその製造法、並びにそれを用いたポリウレタン及び活性エネルギー線硬化性重合体組成物 - 特許庁

OXETANE COMPOUND, ACTINIC ENERGY RAY CURABLE COMPOSITION CONTAINING THE SAME, INK COMPOSITION FOR INK-JET RECORDING AND IMAGE-FORMING METHOD例文帳に追加

オキセタン化合物、これを用いた活性エネルギー線硬化組成物、インクジェット用インク組成物及び画像形成方法 - 特許庁

An actinic ray-curable ink composition is provided, comprising (A) a polymerization initiator and (B) a compound expressed by general formula (1).例文帳に追加

（Ａ）重合開始剤と、（Ｂ）一般式（１）で表される化合物と、を含有する活性エネルギー線硬化型インク組成物。 - 特許庁

To obtain an actinic energy ray-curing composition capable of forming hardened coated film excellent in etching resistance and alkali solubility, and having excellent storage stability.例文帳に追加

耐エッチング性およびアルカリ溶解性に優れた硬化被膜を形成可能な、貯蔵安定性に優れた活性エネルギー線硬化性組成物を得る。 - 特許庁

An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains a resin that is decomposed by an action of an acid to produce an amide group or a thioamide group.例文帳に追加

酸の作用により分解してアミド基又はチオアミド基を生じる樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

OXETANE COMPOUND, ACTINIC ENERGY RAY CURABLE COMPOSITION CONTAINING THE SAME, INK COMPOSITION FOR INK-JET RECORDING, IMAGE-FORMING METHOD, PRINTED MATERIAL AND RECORDING APPARATUS例文帳に追加

オキセタン化合物、これを用いた活性エネルギー線硬化組成物、インクジェット用インク組成物、画像形成方法、印刷物及び記録装置 - 特許庁

The actinic energy ray-curable composition for producing the flame retardant includes a (meth)acrylate (A) having a directly bonded aromatic ring.例文帳に追加

芳香環直結（メタ）アクリレート（Ａ）を含む難燃材製造用活性エネルギー線硬化型組成物。 - 特許庁

ACTINIC RAY-CURABLE INK COMPOSITION, AND INK SET, INKJET PRINTING APPARATUS AND INKJET RECORDING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

活性光線硬化型インク組成物、ならびにそれを用いたインクセット、インクジェット印刷装置およびインクジェット記録方法 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス - 特許庁

ACTINIC RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AS WELL AS RESIST FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST-FILM AND PATTERN FORMATION METHOD UTILIZING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法、 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises a resin containing a repeating unit expressed by general formula (1).例文帳に追加

本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、下記一般式（１）により表される繰り返し単位を含んだ樹脂を備えている。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in resolution of an isolated pattern and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

孤立パターンの解像性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁