「ACTINIC RAY」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME, AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

ACTINIC-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AS WELL AS RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

SUBSTRATE COATING METHOD FOR LITHOGRAPHY AND ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION USED IN THE METHOD例文帳に追加

リソグラフィ用基板被覆方法、及び該方法に用いられる感活性光線または感放射線性樹脂組成物 - 特許庁

To provide an actinic ray-curable ink composition excellent in image curability and abrasion resistance and excellent also in light resistance.例文帳に追加

画像硬化性、耐擦性に優れるとともに、耐光性にも優れた活性光線硬化型インク組成物を提供する。 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, roughness characteristics, the resolution and dry etching resistance of an isolated pattern and enables a pattern of good configuration to be formed, and to provide a pattern forming method using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition.例文帳に追加

感度、ラフネス特性、孤立パターンの解像性及びドライエッチング耐性に優れ、且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a good pattern shape excellent in roughness characteristics without film reduction or trailing, and an actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ラフネス特性に優れ、且つ、膜減りや裾引きのない良好なパターン形状を形成可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that can attain high sensitivity, a favorable pattern shape, favorable roughness characteristics and reduction of residue defects, and to provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin film therefrom and a method of forming a pattern using the composition.例文帳に追加

高感度、良好なパターン形状、良好なラフネス特性、及び残渣欠陥の低減を達成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

An actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains (A) a compound represented by the following formula (I) which generates an acid upon irradiation of an actinic ray or a radiation and (B) a resin which decomposes by an action of an acid to increase the solubility of the resin in an alkaline developer.例文帳に追加

（Ａ）活性光線または放射線の照射により下記一般式（Ｉ）で表される酸を発生する化合物、及び（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

To provide a positive actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which achieves high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness and suppression of outgassing, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin film and a pattern formation method using the same.例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及びアウトガスの低減を同時に達成可能とするポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains (A) a compound represented by general formula (I) which generates an acid by irradiation of an actinic ray or radiation and (B) a resin which increases solubility in an alkali developer by action of an acid.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する下記一般式（Ｉ）で表される化合物、及び（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

A positive actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains a resin (P) including a repeating unit (A) having, in a side chain, nitrogen-containing heterocyclic cationic structure that is decomposed by irradiation of actinic ray or radiation for generating free acid.例文帳に追加

本発明に係るポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して遊離酸を発生する含窒素複素環カチオン構造を側鎖に備えた繰り返し単位（Ａ）を含んだ樹脂（Ｐ）を含有している。 - 特許庁

An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition relating to the invention contains a resin(P) comprising a repeating unit(A) that is decomposed upon irradiation with an actinic ray or radiation to generate an acid and a repeating unit(C) that has a primary or secondary hydroxy group.例文帳に追加

本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）と、１級又は２級の水酸基を備えた繰り返し単位（Ｃ）とを含んだ樹脂（Ｐ）を含有している。 - 特許庁

The actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes an arylsulfonium salt that when exposed to actinic rays or radiation, generates an acid, the arylsulfonium salt containing at least one aryl ring on which there are a total of one or more electron donating groups, the acid generated upon exposure to actinic rays or radiation having a volume of ≥240 Å^3.例文帳に追加

活性光線または放射線の照射により酸を発生するアリールスルホニウム塩であり、少なくとも１つのアリール環上に電子供与性基を合計１つ以上有し、且つ活性光線または放射線の照射により発生する酸の体積が２４０Å^３以上であるアリールスルホニウム塩を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes a resin having a repeating unit (A) represented by general formula (I) and a repeating unit (B) which generates an acid upon irradiation with actinic rays or radiation.例文帳に追加

本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、下記一般式（Ｉ）により表される繰り返し単位（Ａ）と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する繰り返し単位（Ｂ）とを備えた樹脂を含んでいる。 - 特許庁

The actinic ray- or radiation-sensitive resin composition includes a sulfonic acid generating compound which is decomposed by the action of an acid and generates a sulfonic acid having a volume of ≥240 Å^3, and a compound which generates an acid upon irradiation with actinic rays or radiation.例文帳に追加

本発明に係る感活性光線性または感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解し、体積が２４０Å^３以上であるスルホン酸を発生するスルホン酸発生化合物と、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物とを含んでいる。 - 特許庁

The actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes a resin that is decomposed by an action of an acid to thereby increase its solubility in an alkali developer, a compound that generates an acid when exposed to actinic rays or radiation, and any of basic compounds represented by general formula (1).例文帳に追加

本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂と、活性光線又は放射線の照射によって酸を発生する化合物と、下記一般式（１）により表される塩基性化合物とを含んでいる。 - 特許庁

The actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition contains: a resin containing a repeating unit containing a group that is decomposed when acted on by an acid to thereby produce an alcoholic hydroxyl group; and a compound that generates an acid of pKa≥-1.5 when exposed to actinic rays or radiation.例文帳に追加

本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位を含んだ樹脂と、活性光線又は放射線の照射によりｐＫａ≧−１．５の酸を発生する化合物とを含有している。 - 特許庁

An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains resin (P) including a repeating unit (A) which is decomposed upon irradiation with actinic rays or radiation to generate an acid and a repeating unit (C) which has an aromatic ring and a lactone structure.例文帳に追加

活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）と、芳香環およびラクトン構造を有する繰り返し単位（Ｃ）を含む樹脂（Ｐ）を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains: (A) a resin containing repeating units expressed by formulae (I), (II) and (III) and changing into soluble with an alkali developer by an action of an acid; and (B) two or more kinds of compounds generating an acid by irradiation with actinic rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）式（Ｉ）、(II)及び(III)により表される繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂、及び（Ｂ）２種類以上の、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition is disclosed, comprising: (A) a resin containing repeating units of formulae (I), (II) and (III) that when acted on by an acid, becomes soluble in an alkali developer, and (B) a compound that when irradiated with actinic rays or radiation, generates a fluorine-containing acid.例文帳に追加

（Ａ）式（Ｉ）、(II)及び(III)により表される繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂、および（Ｂ）活性光線または放射線の照射によりフッ素を含有する酸を発生する化合物を含有する感活性光線または感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

To provide an actinic energy ray curable overcoating varnish curable by the irradiation of ultraviolet light or electron ray and having especially excellent deinking property and provide its printed material and a method for regenerating the printed material.例文帳に追加

本発明は紫外線もしくは電子線等の照射により硬化し、特に脱墨性に対し優れた活性エネルギー線硬化性オーバーコートニス、その印刷物、その印刷物の再生方法に関する発明に関する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition having high sensitivity and high resolving power and reduced in development defects in pattern formation with an actinic radiation (electron beam, X-ray or EUV (extreme-ultraviolet ray)).例文帳に追加

活性放射線（電子線、Ｘ線又はＥＵＶ）によるパターン形成において、高感度、高解像力で、現像欠陥が低減されたネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using the composition and a pattern formation method which simultaneously satisfy sensitivity, resolution, pattern shape, line edge roughness and dry etching resistance in lithography adopting, as an exposure light source, especially an electron beam, x-rays or EUV light.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、ラインエッジラフネス、及びドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

A positive actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises a repeating unit (A) which decomposes with radiation of an actinic ray or radiation so as to generate acid and the repeating unit (A) includes a resin (P) which has a cation structure including monocyclic or polycyclic nitrogen-containing heterocycle.例文帳に追加

本発明に係るポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）を含み、前記繰り返し単位（Ａ）は、単環式又は多環式の含窒素複素環を含んだカチオン構造を備えている樹脂（Ｐ）を含有している。 - 特許庁

To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition which is high in sensitivity and excellent in LER, exposure latitude and pattern shape, and to provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive film and a method for forming a pattern using the same.例文帳に追加

高感度であること、ＬＥＲが良好であること、露光ラチチュードが良好であること、及びパターン形状が良好であることを同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

An actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains (A) a resin that has a repeating unit having a specific lactone structure and a repeating unit having a specific monoalicyclic structure and whose solubility in an alkaline developer is increased by the action of an acid and (B) a compound having a specific structure which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定のラクトン構造を有する繰り返し単位と、特定の単環脂環構造を有する繰り返し単位とを有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定構造を有する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

To provide a coated metal substrate having a coated film which is excellent in various properties such as adhesion to metal substrates, forming processability and solvent resistance and in particular realizes a combination of excellent forming processability and wear resistance, an actinic ray-curable coating composition suitable for manufacture of the composition, a coated metal substrate obtained by using the actinic ray-curable coating composition and its manufacturing process.例文帳に追加

金属基材への密着性、成形加工性、耐溶剤性等の種々の特性に優れ、特に、優れた成形加工性と耐摩耗性とが両立した被覆膜を有する被覆金属基材、その製造用として好適な活性エネルギー線硬化型塗料組成物、該活性エネルギー線硬化型塗料組成物を用いて得られる被覆金属基材及びその製造方法の提供。 - 特許庁

A pattern forming method comprises the steps of: (a) forming a film from an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition containing a compound(A) that generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and is decomposed by an action of an acid to reduce solubility in an organic solvent; (b) exposing the film; and (c) developing using a developer containing an organic solvent.例文帳に追加

（ア）活性光線又は放射線の照射により酸を発生し、かつ酸の作用により分解し有機溶剤に対する溶解度が減少する化合物（Ａ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程 を含む、パターン形成方法。 - 特許庁

A positive photoresist composition is provided which comprises (a) a resin which is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution and (b) a compound which has a specified oxime sulfonate structure and generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation and a compound which has a specified onium salt structure and generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（ａ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、（ｂ）特定のオキシムスルホネート構造を有する活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び特定のオニウム塩構造を有する活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which may suppress the elution of a photoacid generator to an immersion liquid and have an excellent immersion liquid follow-up property and further is excellent in roughness characteristics, and an actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

光酸発生剤の液浸水への溶出の抑制と優れた液浸液追随性との両立を可能とし、さらにラフネス特性にも優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The photosensitive composition contains a compound which has a proton accepting functional group and generates a sulfonic acid group upon irradiation with an actinic ray or a radiation, whereby its accepting property is degraded or lost or the proton accepting functional group turns acidic, or contains a compound which generates a specific organic acid represented by formula (I) upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

プロトンアクセプター性官能基を有し、活性光線又は放射線の照射によりスルホン酸基を生成し、そのアクセプター性が低下若しくは消失、又はプロトンアクセプター性官能基が酸性に変化する化合物、或いは活性光線又は放射線の照射により、一般式（Ｉ）で示される特定の有機酸を発生する化合物を含有する。 - 特許庁

The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains a resin (P) having a repeating unit (A) having an ionic structure moiety capable of producing an acid anion on the side chain upon irradiation with an actinic ray or radiation, wherein a cation moiety of the ionic structure moiety has an acid-decomposable group or an alkali decomposable group.例文帳に追加

活性光線又は放射線照射により側鎖に酸アニオンを生じるイオン性構造部位を有する繰り返し単位（Ａ）を有する樹脂（Ｐ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、前記イオン性構造部位のカチオン部位が、酸分解性基又はアルカリ分解性基を有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which reduces generation of development defects and scum and can form a pattern excellent in followability to immersion liquid during liquid immersion exposure, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film formed from the composition, and a pattern formation method using the composition.例文帳に追加

現像欠陥、並びにスカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いて形成された感活性光線性または感放射線性膜、および該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The actinic energy ray-curing inkjet ink includes a non-acrylic cationic polymerizable compound having an oxirane ring and an oxetane ring in the molecule.例文帳に追加

同一分子内にオキシラン環及びオキセタン環を有する非アクリル系カチオン重合性化合物を含むことを特徴とする活性エネルギー線硬化型インクジェットインク。 - 特許庁

The ink-jet printing ink curable by actinic energy ray contains (A) a compound having ≥2 (meth)acrylamide groups in one molecule (B) water and (C) a photopolymerization initiator.例文帳に追加

１分子中に２つ以上の（メタ）アクリルアミド基を有する化合物（Ａ）、水（Ｂ）及び光重合開始剤（Ｃ）を含有してなる活性エネルギー線硬化性インクジェット印刷用インク。 - 特許庁

The composition contains a copolymer of isobutylene-type monomers, diisobutylene-type monomers and other various monomers and a copolymer polymerizable upon exposure to an actinic ray or ionizing radiation.例文帳に追加

イソブチレン型モノマーおよびジイソブチレン型モノマーならびに種々の他のビニルモノマーのコポリマー；化学線または電離放射線に曝露されたときに重合反応を起こし得る基を有するコポリマーを含む組成物。 - 特許庁

The alkali-soluble imide resin curable by actinic energy ray has a carboxylic acid group and an unsaturated group and is produced by reacting an imide resin containing the structure of formula (1) with an alcohol containing an unsaturated group.例文帳に追加

式（１）の構造を含むイミド樹脂を不飽和基含有アルコールと反応させて得たカルボン酸基と不飽和基を有す活性エネルギー線硬化型アルカリ可溶性イミド樹脂。 - 特許庁

The actinic ray-curable powder coating composition containing a compound having functionalized polyhedral oligomer silicon-oxygen cluster units is produced.例文帳に追加

官能化された多面体のオリゴマーのケイ素−酸素クラスター単位を有する化合物を含有する化学線で硬化可能な粉末塗料組成物を製造する。 - 特許庁

The actinic energy ray-curing resin composition is obtained by adding 0.1-15 pts.mass photopolymerization initiator to 100 pts.wt. above unsaturated group-containing urethane resin.例文帳に追加

また、この不飽和基含有ウレタン樹脂１００質量部に対して、光重合開始剤を０．１〜１５質量部配合することにより、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物が得られる。 - 特許庁

The curing resin composition is composed of (A) a resin gelling agent, (B) an actinic ray-polymerizable ethylenic unsaturated compound, (C) a polymerization initiator, and (D) a diluent.例文帳に追加

硬化型の樹脂組成物を以下の成分（Ａ）〜（Ｄ）： （Ａ）樹脂ゲル化剤； （Ｂ）活性エネルギー線照射により重合可能なエチレン性不飽和化合物； （Ｃ）重合開始剤； 及び （Ｄ）希釈剤 から構成する。 - 特許庁

The photosensitive composition contains an acid generator capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray, a compound having a group polymerizable by the acid, an alkali-soluble polymer binder and a siloxane-glycol copolymer.例文帳に追加

活性光線の照射により酸を発生し得る酸発生剤、該酸により重合可能な基を有する化合物、アルカリ可溶性高分子結合剤及びシロキサングリコール共重合体を含有することを特徴とする感光性組成物。 - 特許庁