「ACTINIC RAY」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

The positive resist composition comprises (A) a resin having at least one repeating unit having a group -SO_2-O-, further having at least one repeating unit having a fluorine atom and an acid-decomposable group, and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）−ＳＯ_2−Ｏ−基を有する繰り返し単位を少なくとも１種有し、更にフッ素原子と酸分解性基とを有する繰り返し単位を少なくとも１種有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The negative resist composition comprises (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, (B) a crosslinker which crosslinks under an acid, (C) an alkali-soluble resin having a specified repeating unit and (D) an alkali-soluble resin having a structural unit derived from vinyl phenol.例文帳に追加

（Ａ）活性光線または放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｂ）酸により架橋する架橋剤、（Ｃ）特定の繰り返し単位を有するアルカリ可溶性樹脂、および（Ｄ）ビニルフェノール由来の構造単位を有するアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

The photosensitive resin composition comprises (A) a polyimide precursor having a repeating unit of formula (1), (B) a polyfunctional polyene compound represented by the following formula, (C) a polyfunctional thiol compound represented by the following formula, (D) a dehydration condensing agent used in production of the polyimide precursor, (E) a photosensitive agent used for enhancing sensitivity to an actinic ray and (F) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）次の繰返し単位をもつポリイミド前躯体、 （Ｂ）次の一般式で示される多官能性ポリエン化合物、（Ｃ）次の一般式に示される多官能性チオール化合物、（Ｄ）上記ポリイミド前躯体を製造するにあたり用いる脱水縮合剤、（Ｅ）活性光線に対する感度を向上させるために用いる感光剤および（Ｆ）溶剤からなる感光性樹脂組成物とその製造方法である。 - 特許庁

To provide a pattern forming method which is excellent in roughness performance such as line width roughness, local pattern dimension uniformity, and exposure latitude and capable of suppressing reduction in film thickness (so-called film reduction) at a pattern portion formed by development, and to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition used in the method, and a resist film.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び、露光ラチチュードに優れ、かつ現像により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制できるパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜の提供。 - 特許庁

The bonding method of parts relates to an adhesive bonding in which the curing shrinkage force generated between adherend 1 and adherend 2 at more than one bonding position during the course of curing of actinic ray-curing adhesive 4 is controlled so that the relative position shift between adherend 1 and adherend 2 caused by the force is controlled.例文帳に追加

エネルギー線硬化特性をもつ接着剤４の硬化中に複数の接着箇所で被着物１と接着物２との間に発生する硬化収縮力を制御することで、この収縮力により発生する被着物１に対する接着物２の相対的な位置変動を制御して接着硬化を行う部品接合方法に関する。 - 特許庁

The positive resist composition comprises a resin containing a repeating unit having a dihydroxy- or trihydroxyadamantyl group and a repeating unit having an acid-decomposable alicyclic group at a specified composition molar ratio and capable of increasing the velocity of dissolution in an alkali developer by the action of an acid and a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

ジヒドロキシまたはトリヒドロキシアダマンチル基を有する繰り返し単位、及び酸分解脂環基を有する繰り返し単位を各々特定の組成モル比率において含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The negative resist composition contains (A) an alkali-soluble resin, (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, and (C) a crosslinker which reacts under the action of an acid to form crosslink in the alkali-soluble resin with release of a ≥3C alcohol or a ≥7C carboxylic acid.例文帳に追加

(Ａ) アルカリ可溶性樹脂、(Ｂ)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）酸の作用により反応して、炭素数３以上のアルコール又は炭素数７以上のカルボン酸の脱離を伴ってアルカリ可溶性樹脂に架橋を形成する架橋剤を含有するネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin including a repeating unit having a ring structure represented by formula (A1) in a backbone, and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）下記一般式（Ａ１）で表される環構造を主鎖に有する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern of a good shape by having an excellent resolution, sensitivity and LER, and an excellent scum suppressing property by containing a specific guanidine compound while suppressing a PEB temperature dependence, and provide a resist film formed using the composition and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

特定のグアニジン化合物を含有することにより、スカム低減性に優れ、解像性が優れることにより良好な形状のパターンを形成することができ、感度、ＬＥＲにも優れ、更にＰＥＢ温度依存性の抑制された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、この組成物を用いて形成されたレジスト膜、並びに、この組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A photosensitive composition contains (A) hollow or porous particles, (B) an alkali soluble particle dispersant having a group capable of chemically binding to the particles (A), (C) a compound which generates an active species upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (D) a binder of which solubility in an alkali developer is reduced by an action of the active species.例文帳に追加

（Ａ）中空又は多孔質粒子、（Ｂ）前記粒子（Ａ）に化学的に結合可能な基を有するアルカリ可溶性粒子分散剤、（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により活性種を発生する化合物、及び（Ｄ）前記活性種の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が減少するバインダーを含有する感光性組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) resin containing a repeating unit derived from isosorbide (meth)acrylate and having a solubility rate in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) an aromatic-group-free sulfonium salt compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a solvent.例文帳に追加

（１）（Ａ）イソソルバイド（メタ）アクリレートに由来する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、芳香族基を有さないスルホニウム塩化合物、及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition having good conformability to a liquid for liquid immersion during liquid immersion exposure and having good coverage dependence, from which a pattern reduced in the occurrence of watermark defects, bubble defects and development scum defects can be formed, and to provide a method for forming a pattern using the composition.例文帳に追加

本発明の目的は、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であり、ウォーターマーク欠陥、バブル欠陥、現像残渣欠陥の各々が少ないパターンを形成することが可能、且つ、被覆率依存性が良好な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

The curable resin composition is one comprising an alicyclic epoxy resin (A) having a cycloaliphatic skeleton and one or more epoxy groups in the molecule, a polyol (B) having a molecular weight of not less than 400, and an actinic energy ray-sensitive catalyst (C), wherein the polyol (B) is a compound having a main chain comprising carbon-to-carbon bonds or a liquid polycarbonate polyol.例文帳に追加

本発明の硬化性樹脂組成物は、分子内に環状脂肪族骨格と１個以上のエポキシ基を有する脂環式エポキシ樹脂（Ａ）、分子量が４００以上のポリオール（Ｂ）、および活性エネルギー線感応触媒（Ｃ）からなる樹脂組成物であって、ポリオール（Ｂ）が炭素−炭素結合からなる主鎖を有する化合物若しくは液状のポリカーボネートポリオールであることを特徴とする。 - 特許庁

The positive resist composition is characterized in that it contains (a) a polymer which has a silicon atom in a side chain, is insoluble or slightly soluble in an aqueous alkali solution and is made soluble in the aqueous alkali solution by the action of an acid and (b) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation and has a specified phenacylsulfonium structure.例文帳に追加

(ａ) 側鎖にシリコン原子を有し、かつアルカリ水溶液に不溶性又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となるポリマー、及び（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定のフェナシルスルホニウム構造を有する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin containing a repeating unit having a fluorine atom in the principal chain and a group having -NH- in a side chain and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）主鎖にフッ素原子、側鎖に−ＮＨ−を有する基を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The negative resist composition comprises (A) an alkali-soluble polymer having a specified repeating unit, (B) a crosslinking agent which crosslinks with the alkali-soluble polymer (A) by the action of an acid, (C) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and (D) a specified quaternary ammonium salt.例文帳に追加

（Ａ）特定の繰り返し単位を有するアルカリ可溶性ポリマー、（Ｂ）酸の作用により（Ａ）のアルカリ可溶性ポリマーと架橋する架橋剤、（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｄ）特定の４級アンモニウム塩、を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

(1) The photosensitive printing plate precursor comprises at least a support, a photosensitive resin layer, an IR ablation layer and a cover film in order, wherein the IR ablation layer includes an IR absorbing metallic layer and a polymer resin layer capable of receiving a corrector opaque to an actinic ray is disposed on the surface of the metallic layer.例文帳に追加

少なくとも順に、支持体、感光性樹脂層、ＩＲアブレーション層およびカバーフィルムを有する感光性印刷原版であって、ＩＲアブレーション層が、ＩＲ吸収性金属層を含み、かつ当該金属層の表面に、活性光線に対し不透過である修正剤を受理可能な高分子樹脂層が配置されていることを特徴とする感光性印刷用原版。 - 特許庁

To provide an actinic energy ray-reactive electrical insulation ink that has strong adhesion to a substrate such as a flexible printed circuit board, a polyethylene terephthalate film, a polyimide film, an ITO (indium tin oxide) vapor deposition film or an ITO vapor deposition glass and that is excellent in applicability and printability as well as electrical insulating properties, and to provide a laminate using the same.例文帳に追加

フレキシブルプリント配線板、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリイミドフィルムや、ＩＴＯ（インジウムチンオキシド）蒸着フィルム、ＩＴＯ蒸着ガラスなどの基材に対する高度な接着力を有し、かつ塗布、印刷性に優れる電気絶縁性に優れた活性エネルギー線反応型電気絶縁インキ及びそれを用いた積層体を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for top-coating curable by an actinic energy ray and a member coated with the composition, wherein moving of goods contained in a drawer, etc., by impact upon their store and take-out can be suppressed, fouling attached can easily be removed and also low gloss coating required in bottom plates in a drawer of kitchen, etc., can be performed.例文帳に追加

引き出し等の中の収容物を出し入れする際に、その衝撃によって中の収容物が移動することを低減するとともに、汚れが付着した場合でも簡単に拭き取ることができ、更に、キッチンの引き出し用底板等に要求される艶なしにも適用できるトップコート用活性エネルギー線硬化性組成物と、これを塗布した部材を提供するものである。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a compound that generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation; and (B) a resin that has an acid-decomposable repeating unit represented by general formula (I'), has a dispersity of ≤1.5 and increases its solubility in an alkali developer by action of an acid, wherein each symbol represents a predetermined group or the like.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、および、（Ｂ）下記一般式（Ｉ'）で表される酸分解性繰り返し単位を有し、分散度が１．５以下である、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin which contains a repeating unit with a specified structure having a fluorine atom and a benzene ring having a -CONH- or -SONH- group and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developer and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）−ＣＯＮＨ−基又は−ＳＯＮＨ−基を有するベンゼン環及びフッ素原子を有する特定の構造の繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a solvent-free adhesive agent usable as a one-pack type adhesive, having excellent storage stability, exhibiting excellent curability by the irradiation with actinic energy ray without using or using a small amount of a photopolymerization initiator, giving a cured product having little odor, exhibiting excellent performance as an adhesive, especially heat-resistance and enabling easy handling in e.g. coating work.例文帳に追加

１液型での使用が可能で且つ保存安定性に優れ、光重合開始剤を配合しないか、又はその配合割合が少なくとも、活性エネルギー線の照射により優れた硬化性を有し、その硬化物がほとんど臭気がなく、且つ、粘着剤としての性能、特に耐熱性に優れるうえ、塗工作業等の取り扱いが容易な無溶剤型の粘着剤の提供。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (a) a resin in which a group which is released by decomposition by the action of an acid contains at least one fluorine atom and a cyclic structure and which is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an aqueous alkali solution, (b) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation and (c) a solvent.例文帳に追加

（ａ）酸の作用による分解で離脱する基が、少なくとも１つのフッ素原子と環状構造とを含有する、酸の作用により分解してアルカリ水溶液に対する溶解性が向上する樹脂、（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of suppressing occurrence of standing waves, having high sensitivity, having a large depth of focus (DOF) and having excellent in-plane uniformity (CDU) of a linewidth when a highly reflective substrate is directly used without using an antireflection film, and a resist film using the composition, and a pattern formation method.例文帳に追加

反射防止膜を用いず高反射基板をそのまま用いた場合において、定在波の発生が抑制され、感度が高く、焦点深度（ＤＯＦ）が広く、線幅の面内均一性（ＣＤＵ）にも優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin whose solubility in an alkaline developer is increased by the action of an acid, (B) a compound capable of generating a 2 or 3C alkylsulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, and (C) a low molecular compound containing an amino group with a nitrogen atom protected by a degradable group.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により炭素数２又は３のアルキルスルホン酸を発生する化合物、及び（Ｃ）窒素原子が分解性基で保護されたアミノ基を含む低分子化合物、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A); a resin that increases its solubility in an alkaline developer by the action of an acid having a repeating unit including a specific norbornane lactone structure and a repeating unit including a specific alicyclic hydrocarbon structure; and (B) a compound that generates an acid by irradiation with an actinic ray or radiation, and a pattern forming method using it is provided.例文帳に追加

特定構造のノルボルナンラクトン構造をもつ繰り返し単位と特定の脂環炭化水素構造をもつ繰り返し単位とを有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、および、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The radiation sensitive resin composition comprises (A) an alkali-insoluble or hardly alkali-soluble acid-dissociating group-containing resin which becomes alkali-soluble by dissociation of the acid-dissociating group, (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation of ≤220 nm wavelength and (C) a phenolic compound represented by formula (C-1).例文帳に追加

本発明の感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）酸解離性基の解離によりアルカリ可溶性となるアルカリ不溶性又はアルカリ難溶性の酸解離性基含有樹脂と、（Ｂ）２２０ｎｍ以下の波長の活性光線又は放射線の照射により酸を発生させる化合物と、以下に示す（Ｃ）フェノール性化合物と、を含有する。 - 特許庁

The photosensitive resin composition comprises a resin which is decomposed by the action of an acid having a specified structure to increase solubility in an alkali developer, a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation and a solvent prepared by blending one or more solvents having one or more fluorine atoms per molecule.例文帳に追加

特定の構造を有する酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により、酸を発生する化合物及び分子内にフッ素原子を１つ以上有する溶剤を少なくとも１種以上配合してなる溶剤を含有する感光性樹脂組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) a compound having a phenacylsulfonium salt structure and an alkylsulfonium salt compound which generate acids upon irradiation with an actinic ray or a radiation and (B) resin which contains a repeating unit having a lactone structure as well as a norbornane structure and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developer.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、フェナシルスルホニウム塩構造を有する化合物及びアルキルスルホニウム塩化合物、及び、（Ｂ）ノルボルナン構造とともにラクトン構造を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁

To provide a new oxetane compound having excellent stability, an actinic energy ray curable composition having good ink stability and ink ejection stability, giving a recorded image having excellent curability, scratch resistance and adhesiveness and produced by using the new oxetane compound and provide an ink composition for ink-jet recording and an ink-jet recording method.例文帳に追加

本発明の目的は、安定性に優れた新規のオキセタン化合物、及び新規オキセタン化合物を用いて、インク安定性、インク吐出安定性が良好で、かつ形成した画像の硬化性、耐擦過性及び接着性に優れた活性エネルギー線硬化組成物、インクジェット用インク組成物及びインクジェット記録方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which provides a pattern showing good exposure latitude (EL) and pattern profile in a pattern forming process with excimer laser light not only by normal exposure (dry exposure) but by immersion exposure, and to provide a method for forming a pattern using the composition.例文帳に追加

エキシマレーザー光によるパターン形成において、通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、露光ラティチュード（EL：Exposure Latitude）、パターンプロファイルが良好なパターンを得ることができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and (B) a resin comprising a repeating unit having a partial structure represented by formula (X) on a side chain and a repeating unit having a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び（Ｂ）下記の一般式（Ｘ）で表される部分構造を側鎖に有する繰り返し単位及び特定構造の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a fluororesin which has a specified repeating unit and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developer, (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, (C) a solvent and (D) a compound having at least one carboxyl group.例文帳に追加

（Ａ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解度が増大するフッ素含有樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｃ）溶剤、及び（Ｄ）少なくともひとつのカルボキシル基を有する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

In this pattern forming method, a resist pattern is formed by generating an acid from a radiation-sensitive acid generation group-containing resin contained as a resin component in a radiation-sensitive resin composition by irradiation with an actinic ray or radiation to increase the solubility of the radiation-sensitive acid generation group-containing resin in a developer.例文帳に追加

本パターン形成方法は、感放射線性樹脂組成物の樹脂成分として含有されている感放射線性酸発生基含有樹脂から、活性光線又は放射線の照射によって酸を発生させ、該感放射線性酸発生基含有樹脂の現像液に対する溶解性を増大させることにより、レジストパターンを形成する。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin including a cyclic sulfonamide partial structure represented by formula (S1), and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）一般式（Ｓ１）で表される環状スルホンアミド部分構造を含む、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物、及び、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The composition curable with actinic energy ray, having extremely small change of viscoelasticity by emulsification and increased takability of dampening water to the ink by emulsification and free from troubles such as piling, scumming and density fluctuation in offset printing using dampening water is produced by properly adding hydrophobic ultrafine silica particles to a (meth)acrylate having a diglycerol skeleton.例文帳に追加

本発明はジグリセリン骨格を有する（メタ）アクリレートおよび疎水性超微粒子シリカを適宜添加する事により、湿し水を用いたオフセット印刷において、乳化による粘弾性変化が極めて小さく、更に乳化に伴う湿し水のインキへの取り込み能力を高め、パイリング地汚れ、濃度変動等のトラブルを解消する。 - 特許庁

To solve the problems on a technique for improving the original performance of microphotofabrication using far ultraviolet light, EUV, electron beam or the like, particularly ArF excimer laser light; to provide an excellent actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which in patterning by liquid immersion exposure as well as by normal exposure, suppresses development defects, can reduce line edge roughness, and ensures a wide exposure latitude; and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

遠紫外光、ＥＵＶ、電子線等、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、ラインエッジラフネスを抑制でき、さらには露光ラチチュードが広く、優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The antireflection layered film comprises a hard coat layer and an antistatic low refractive index layer, layered in this order on a transparent support, wherein the antistatic low refractive index layer comprises an actinic ray-curing resin containing a compound having at least a (meth)acryloyloxy group in the molecule and porous conductive fine particles having ≤100 nm particle size and ≤1.40 refractive index n.例文帳に追加

透明支持体上に、ハードコート層、帯電防止性低屈折率層がこの順に積層されてなる反射防止積層フィルムにおいて、前記帯電防止性低屈折率層が、少なくとも（メタ）アクリロイルオキシ基を分子内に有する化合物を含む活性エネルギー線硬化型樹脂と、粒径１００ｎｍ以下で屈折率ｎが１．４０以下の多孔質導電性微粒子からなることを特徴とする反射防止積層フィルムである。 - 特許庁

The actinic ray-curable ink composition includes at least a color material, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, wherein a dendritic polymer is included as the polymerizable compound, a thioxanthone type photopolymerization initiator having a plurality of functional groups is included as the photopolymerization initiator, and the thioxanthone type photopolymerization initiator is included in an amount of 3-27 mass% based on the total mass of the dendritic polymer.例文帳に追加

色材、重合性化合物および光重合開始剤を少なくとも含有する活性光線硬化型インク組成物であって、 前記重合性化合物として樹枝状ポリマーを含み、 前記光重合開始剤として複数の官能基を有するチオキサントン系光重合開始剤を含み、且つ、前記樹枝状ポリマー全質量に対して、前記チオキサントン系光重合開始剤を３〜２７質量％含有することを特徴とする、活性光線硬化型インク組成物。 - 特許庁

The positive resist composition for an ion implantation process contains (A) a resin having a rate of dissolution in an alkaline developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray, wherein a resist film formed from the positive resist composition has a transmittance at 193 nm of 30-60%.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線の照射により酸を発生する化合物を含有するイオン注入工程用ポジ型レジスト組成物であって、該ポジ型レジスト組成物より形成したレジスト膜の１９３ｎｍに対する透過率が３０〜６０％であることを特徴とするイオン注入工程用ポジ型レジスト組成物及び該組成物を用いたイオン注入方法。 - 特許庁