「ACTINIC RAY」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

The surface treatment process of the water-absorbing resin includes a step of mixing 0.01-20 pts.wt. of an antibacterial radically polymerizable compound with 100 pts.wt. of a water-absorbing resin and a step of subjecting the mixture obtained to heat treatment or actinic energy ray irradiation.例文帳に追加

吸水性樹脂の表面処理方法において、吸水性樹脂１００重量部に対し、抗菌性を有するラジカル重合性化合物０．０１〜２０重量部を混合する工程と、得られた混合物に対して加熱処理または活性エネルギー線照射処理を施す工程と、を行う。 - 特許庁

The positive type photosensitive composition contains (A) a resin, having at least two kinds of repetition units expressed by general formula (1), and increasing its solubility into an alkali developer by an action of an acid, and (B) a compound generating an acid, by irradiating the compound with an actinic ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位を少なくとも２種有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The tacky adhesive composition curable by actinic energy ray contains (A) a polyisocyanate-based derivative produced by reacting (a1) a polyol, (a2) a polyisocyanate, (a3) a polyalkylene glycol derivative expressed by a specific formula and (a4) a hydroxy-containing (meth)acrylate and (B) an ethylenic unsaturated monomer.例文帳に追加

ポリオール（ａ１）、ポリイソシアネート（ａ２）、特定式で示されるポリアルキレングリコール誘導体（ａ３）及び水酸基含有（メタ）アクリレート（ａ４）を反応させてなるポリイソシアネート系誘導体［Ａ］及びエチレン性不飽和モノマー［Ｂ］を含有してなる活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物。 - 特許庁

A chemically amplified resist composition contains (A) a high molecular compound having a structure in which hydrogen atom of a phenolic hydroxyl group is substituted for a group having a non-acid decomposable polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and (B) a compound generating acid by irradiation of an actinic ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）非酸分解性の多環脂環炭化水素構造を有する基で、フェノール性水酸基の水素原子が置換された構造を有する高分子化合物、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する、化学増幅型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition that excels in roughness property, exposure latitude, depth of focus and development defect performance and that allows to form a fine isolated space pattern of favorable shape, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状の微細な孤立スペースパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition allowing formation of a pattern in which pattern collapse is suppressed, which hardly induces development failure and exhibits excellent stability with lapse of time, and also to provide a method for forming a pattern, using the composition.例文帳に追加

パターン倒れが抑制され、かつ現像不良が発生しにくく、更に経時安定性に優れたパターンを形成することが可能である感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, satisfactory exposure latitude, good line width roughness and post-exposure delay stability (PED), and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

高感度、高解像性、十分な露光余裕度、良好なラインウィズスラフネス、真空引き置き安定性（ＰＥＤ）を同時に満足するパターンを形成することが可能な感活性光線または感放射線樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The positive resist composition contains a compound of a specific structure containing a group which produces an alkali-soluble group by the action of an acid in an amount of ≥50 mass% based on the solid content of the resist composition, and also contains a compound which generates an acid by the action of an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ可溶性基を生じる基を含有する特定構造の化合物をレジスト組成物の固形分中、５０質量％以上含有するとともに、活性光線または放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

A positive resist composition is provided which comprises (A) a specified compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, (B) a resin having a specified repeating unit and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、特定の化合物、（Ｂ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a negative pattern formation method that allows excellent roughness performance such as line width roughness, exposure latitude, and dry etching resistance, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and a resist film used for the same.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、露光ラチチュード及び耐ドライエッチング性能に優れたネガ型パターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

The negative photosensitive resin composition contains (a) a polyimide having phenolic hydroxyl groups in end groups and soluble in an organic solvent, (b) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray, and (c) a compound which can be crosslinked or polymerized by the action of an acid.例文帳に追加

（ａ）末端基にフェノール性水酸基を有する、有機溶剤に可溶のポリイミド、（ｂ）活性光線照射により酸を発生する化合物、及び、（ｃ）酸の作用により架橋または重合し得る化合物を含有してなるネガ型感光性樹脂組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive resin composition contains (A) a polyoxazole precursor having an organic group of an alicyclic structure in a backbone, (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray and (C) a compound having an organic group which is decomposed by acid catalyst action to be converted to a hydrogen atom.例文帳に追加

本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、（Ａ）脂肪族環式構造を持つ有機基を主鎖中に有するポリオキサゾール前駆体と、（Ｂ）活性光線照射により酸を発生する化合物と、（Ｃ）酸触媒作用で分解して水素原子に変換し得る有機基を有する化合物とを含有してなる。 - 特許庁

PROCESSED PIGMENT, PIGMENT DISPERSION COMPOSITION USING THE SAME, COLORED ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, COLOR FILTER, PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER FOR SOLID STATE IMAGING ELEMENT, COLOR FILTER FOR SOLID STATE IMAGING ELEMENT AND SOLID STATE IMAGING ELEMENT例文帳に追加

加工顔料、並びに、これを用いた顔料分散組成物、着色感活性光線性又は感放射線性組成物、カラーフィルタ、パターン形成方法、固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子用カラーフィルタ、固体撮像素子 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition satisfying demands for a wide exposure latitude, reduction of a skirt-like pattern profile, favorable pattern features and excellent dry etching durability, and allowing formation of a pattern having fewer defects after development, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

広い露光ラテテュード、パターン裾引き低減、良好なパターン形状、優れたドライエッチング耐性を満たし、更に現像後の欠陥が少ないパターンを形成することができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having an excellent in resolution such as a critical dimension with no bridge defects, LWR and DOF, and having favorable sensitivity and PED stability; and to provide a resist film using the composition, and a pattern forming method.例文帳に追加

ブリッジ前寸法等の解像力、ＬＷＲ及びＤＯＦに優れると共に、感度及びＰＥＤ安定性も良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a pattern forming method excellent in resolution such as a minimum dimension that does not allow a bridge defect to generate, roughness performance such as line edge roughness and dependence on developing time, to provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition used for the method, and to provide a resist film.例文帳に追加

ブリッジ前寸法等の解像力、ラインエッジラフネス等のラフネス性能、現像時間依存性に優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

The resin composition curable with heat or actinic energy ray contains one or more monomers selected from (a1) a monomer having an extensibility of 20-250% at 25°C in cured state and (a2) an oligomer having an extensibility of 20-250% at 25°C in cured state, and 0-30 wt.% filler.例文帳に追加

熱硬化性または活性エネルギー線硬化性の樹脂組成物であって、硬化後の伸長性が２５℃で２０〜２５０％のモノマー（ａ１）および硬化後の伸長性が２５℃で２０〜２５０％のオリゴマー（ａ２）からなる群から選ばれる１以上と、０〜３０重量％のフィラーとを含む樹脂組成物。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which has greatly excellent exposure latitude, can form an excellent rectangular pattern shape, and has less elution to an immersion liquid in liquid immersion exposure, and a resist film and a pattern formation method using the composition.例文帳に追加

露光ラチチュードが大きく優れ、良好な矩形のパターン形状を形成することができ、且つ液浸露光時には液浸液への溶出が少ない感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

(1) The photosensitive printing plate precursor comprises at least a support, a photosensitive resin layer, a coating layer and a cover film, wherein the coating layer contains a light absorbent having absorption in an actinic ray region of the photosensitive resin layer and having an average molecular weight of ≥1,000.例文帳に追加

少なくとも支持体、感光性樹脂層、被覆層およびカバーフィルムを有する感光性印刷原版であって、前記被覆層が、感光性樹脂層の活性光線領域に吸収をもつ平均分子量１，０００以上の光吸収剤を含有することを特徴とする感光性印刷原版。 - 特許庁

An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains a resin (B) which comprises at least one of a fluorine atom and a silicon atom and which contains a repeating unit represented by the following general formula (I-1) or (I-2).例文帳に追加

本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、フッ素原子及びケイ素原子の少なくとも一方を備えた樹脂（Ｂ）であって、下記一般式（Ｉ−１）又は（Ｉ−２）により表される繰り返し単位を含んだ樹脂（Ｂ）を含有している。 - 特許庁

To provide a method for producing a water-based ink composition for inkjet recording use, curable by actinic energy ray, free from a non-reactive volatile organic solvent for dissolving a photopolymerization initiator, giving no adverse effect of the residual solvent on the human body and the environment and having excellent curability.例文帳に追加

光重合開始剤を溶解するための非反応性で揮発性の有機溶剤を含有せず、残留溶剤が人体や環境に悪影響を与えないとともに、硬化性に優れたインクジェット記録用活性エネルギー線硬化型水性インク組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁

The actinic energy ray-reactive electrical insulation ink is characterized in that it comprises a copolymerized polyester (A) and/or a modified material (B) thereof and a monofunctional acrylate monomer (C) and that the formulation ratio {(A)+(B)}/(C) is 20/80-75/25 (ratio by weight).例文帳に追加

共重合ポリエステル（Ａ）及び／またはその変性物（Ｂ）と単官能アクリレートモノマー（Ｃ）を含む活性エネルギー線反応型電気絶縁インキであり、かつその配合比が｛（Ａ）＋（Ｂ）｝／（Ｃ）＝２０／８０〜７５／２５（重量比）であることを特徴とする活性エネルギー線反応型電気絶縁インキに関する。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) a resin which has a repeating unit represented by formula (I) and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkaline developer and (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有する。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, (B) an organic fluoropolymer which has at least one structure selected from formulae (I)-(III) and whose solubility in an alkali developer is increased by the action of an acid and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｂ）下記の一般式（Ｉ）及び（ＩＩ），（ＩＩＩ）から選ばれた少くとも１種の構造を有する酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する有機フッ素ポリマー及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition that excels in roughness property, exposure latitude, depth of focus and development defect performance and that allows to form a fine isolated line pattern of favorable shape, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状の微細な孤立ラインパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, an excellent pattern shape and excellent line edge roughness, and a resist film and pattern forming method using the resin composition.例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic energy ray-curing inkjet ink which is highly safe and stable as a compound and as ink, has good curability, yields a tough cured film, has excellent jetting stability at nozzles, adhesion to substrates, solvent resistance and water resistance and printed matter using the ink.例文帳に追加

化合物及びインクとしての安全性及び安定性が高く、硬化性が良好で、硬化膜の強度が強靭で、ノズルでの吐出安定性にも優れ、基材への密着性、耐溶剤性及び耐水性も良好な活性エネルギー線硬化型インクジェットインク及びそれからの印刷物を提供すること。 - 特許庁

This radiation-sensitive resin composition contains as a resin component only an acid generation group-containing resin which comprises a repeating unit containing an acid generation group capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and a non-acid-dissociative repeating unit.例文帳に追加

また、本感放射線性樹脂組成物は、樹脂成分として、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する酸発生基を含有する繰り返し単位と、非酸解離性繰り返し単位とからなる酸発生基含有樹脂のみを含有する。 - 特許庁

To provide a photosensitive printing plate precursor in which a flawed part or an unnecessary image part on a mask after IR ablation can be masked (corrected) with correcting ink or the like opaque to an actinic ray and which does not affect printing grade and is excellent in cost performance.例文帳に追加

ＩＲアブレーション後に生じたマスク上のキズや不要な画像部を修正する場合に、該箇所に活性光線に対し不透過である修正インキ等などでマスク(修正)することが可能で、かつ印刷品位に影響ない、コストパフォーマンス性の優れた感光性印刷用原版を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition for exposure by x-ray, electron beam or EUV light that is excellent in pattern collapse margin and bridge margin with no residue of a resist composition on a substrate and excellent in resistance to scattered (flare) light, and a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

パターン倒れマージンやブリッジマージンに優れ、かつ基板上にレジスト組成物の残渣が残らず、更には散乱（フレア）光に対する耐性に優れた、Ｘ線、電子線又はＥＵＶ光露光用の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition simultaneously satisfying sensibility, high resolution, a pattern profile, line edge roughness and dry etching resistance, particularly in lithography using an electron beam, an X-ray or EUV light as an exposure light source, as well as a resist film and a patterning method using the composition.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、高解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネス、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that satisfies, at a high level, all of high sensitivity, high resolution, good pattern profile and good line edge roughness in an ultrafine region, particularly in electron beam, X-ray or EUV photolithography, and satisfactorily reduces a problem of outgassing during exposure, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを高次元で同時に満足するとともに、露光時のアウトガスの問題が充分に低減された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, capable of forming a pattern which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, proper pattern profile and satisfactory line edge roughness, particularly in an electron beam, X-ray or EUV lithography in an ultrafine region, and to provide a pattern formation method that uses the composition.例文帳に追加

超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、および良好なラインエッジラフネスを同時に満足するパターンを形成可能な感活性光線または感放射線性樹脂組成物、それを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for forming a pattern with high sensitivity and wide exposure latitude in an ultrafine region, while suppressing changes in the resist performance due to an acid generated during resist storage, with respect to an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, particularly, a resist composition for electron beam, X-ray or EUV lithography.例文帳に追加

感活性光線または感放射線性樹脂組成物、特に、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光リソグラフィー用のレジスト組成物において、レジスト保存中に発生する酸によるレジスト性能の変化を抑制しつつ、超微細領域で高感度かつ露光ラチチュードの広いパターンを形成可能なポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The substrate coating method for lithography includes the steps of coating the top of a substrate with a film in a lithography process and disposing a topcoat layer on the film, wherein the film is formed using an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that contains a resin (P), having a repeating unit (A) which decomposes due to irradiation with actinic rays or radiation, and which generates an acid.例文帳に追加

リソグラフィプロセスにおいて基板上に膜を被覆する工程と、該膜上にトップコート層を設ける工程を含むリソグラフィ用基板被覆方法であって、前記膜が、活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）を有する樹脂（Ｐ）を含有する感活性光線または感放射線性樹脂組成物を用いて形成されることを特徴とする、リソグラフィ用基板被覆方法。 - 特許庁

The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains (A) a compound generating an acid by irradiation with actinic rays or radiation, (B) a resin showing an increase in dissolution rate with an alkali developing solution by an action of an acid, and (C) a hydrophobic resin.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂および、（Ｃ）疎水性樹脂を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物であって、（Ａ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物が、下記一般式（１）で表される酸を発生する化合物であることを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

To provide a (meth)acrylic acid ester useful as a reactive diluent exhibiting good diluting performance and curing performance in the case of adding to an actinic energy ray curable composition and giving a cured coating film having excellent mechanical properties and durability from the curable composition.例文帳に追加

活性エネルギー線硬化型組成物に加えた場合に希釈性能および硬化性能が良好で、その活性エネルギー線硬化型組成物から得られる硬化塗膜が機械的強度や耐久性に優れる反応性希釈剤として有用な（メタ）アクリル酸エステル類、およびその（メタ）アクリル酸エステル類を収率良く製造する方法を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin having a specified repeating unit having a ring hydrocarbon structure and a fluorine atom in a side chain and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）側鎖に環状炭化水素構造とフッ素原子とを有する特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition having high developability, exposure latitude and line edge roughness performance to solve a problem of an essential performance improvement technology of microphotofabrication using far-ultraviolet light, EUV, an electron beam, or the like, especially ArF excimer laser light.例文帳に追加

遠紫外光、ＥＵＶ、電子線等、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決すべく、現像性に優れ、且つ、露光ラチチュード及びラインエッジラフネス性能に優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains: resin (A) capable of increasing the solubility with an alkali developing solution by an action of an acid; and resin (C) having at least either a fluorine atom or a silicon atom and containing repeating unit (c) having at least two polarity conversion groups.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂（Ａ）、及び、少なくとも２つ以上の極性変換基を有する繰り返し単位（ｃ）を含有し、かつ、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂（Ｃ）を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition enabling a pattern to be formed, the pattern having improved line width roughness, remedied development defects and pattern collapse and exhibiting good conformability to an immersion liquid in immersion exposure, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス、現像欠陥並びにパターン倒れが改善され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that has high sensitivity, high dissolving contrast, sufficient pattern profile, and sufficient line edge roughness performance, reduces a standing wave, and does not generate a development defect, and also to provide a film formed using the composition and a pattern forming method using the film.例文帳に追加

高感度、高溶解コントラストであり、良好なパターンプロファイル、良好なラインエッジラフネス性能を有し、定在波の低減が可能であり、且つ現像欠陥を発生しない感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いて形成した膜及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness (LER) and good dependence on a density distribution particularly in lithography using electron beams, X-rays or EUV light as an exposure light source, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス（Line edge roughness: LER）、及び良好な疎密依存性を満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, capable of forming a resist pattern improved in the elution of a generated acid, line edge roughness, development defects and generation of scums, less liable to profile degradation, and having proper conformability with an immersion liquid in immersion exposure, and to provide a pattern forming method that uses the composition.例文帳に追加

発生酸の溶出、ラインエッジラフネス、現像欠陥、スカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation sensitive resin composition superior in line width roughness (LWR), depth of focus (DOP) and pattern profile, so as to more stably form a high-precision minute pattern for manufacturing a highly integrated high-precision electronic device, and to provide a method of forming a pattern using the same.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(ＬＷＲ)、フォーカス余裕度(ＤＯＦ)およびパターン形状に優れる感活性光線または感放射線性樹脂組成物組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁