「ACTINIC RAY」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition comprises: a low molecular weight compound (1) having a molecular weight of 500 to 5,000 containing an acid-decomposable group (G) that is decomposed by an action of an acid to accelerate the dissolution in an alkali developing solution; and a compound (2) capable of generating an acid of 305 Å^3 or more in volume upon irradiation with actinic rays or radiation.例文帳に追加

酸の作用により分解してアルカリ現像液への溶解性を促進させる酸分解性基（Ｇ）を有する分子量５００〜５０００の低分子化合物（１）および、活性光線又は放射線の照射により体積３０５Å^３以上の酸を発生する化合物（２）を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性組成物。 - 特許庁

An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (A) a compound which generates an acid upon exposure to actinic rays or radiation, (B) a resin of which solution rate in an alkali developer increases by an action of acid, and (C) a hydrophobic resin which contains a repeating unit derived from a monomer represented by the following general formula (1).例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、（Ｃ）疎水性樹脂を含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、疎水性樹脂（Ｃ）が、下記一般式（１）で表される単量体に由来する繰り返し単位を含むことを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises (A) a resin which decomposes under the action of an acid and exhibits an increased dissolution rate in an aqueous alkali solution; (B) a compound which generates an acid upon irradiation with actinic rays or radiation; and (C) a compound which is unevenly distributed unevenly in a film surface, upon formation of film.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用により分解してアルカリ水溶液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）製膜により膜表面に偏在する化合物、を含有することを特徴とする感活性光線または感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The composition curable with actinic energy ray is composed of an actinic energy-curable oligomer (A) (excluding silicone (meth)acrylate) and/or monomer (B), a silicone (meth)acrylate (C) and a surface untreated silica (D) wherein a specific monomer is used as the monomer (B) and a dispersing agent (E) is added to the composition.例文帳に追加

活性エネルギー線硬化性オリゴマー（Ａ）（但し、シリコーン（メタ）アクリレートを除く）およびまたはモノマー（Ｂ）、シリコーン（メタ）アクリレート（Ｃ）、表面未処理シリカ（Ｄ）からなる活性エネルギー線硬化型組成物において、更に特定のモノマー（Ｂ）を用い、分散剤（Ｅ）を添加した活性エネルギー線硬化型組成物。 - 特許庁

The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises (A) a resin which contains a unit represented by general formula (AI) and a unit represented by general formula (AII) and exhibits increased solubility in an alkali developer under the action of an acid, and (B) a compound which generates a sulfonic acid upon irradiation with actinic rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）一般式（ＡＩ）で表される単位と一般式（ＡＩＩ)で表される単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線または放射線の照射によりスルホン酸を発生する化合物、を含有することを特徴とする感活性光線または感放射線樹脂組成物。 - 特許庁

To provide an aqueous composition curable with actinic energy rays such as ultraviolet rays and electron beams and suitably applicable to various uses, more particularly, provide an actinic energy ray curable aqueous composition giving decreased load on the environment and having low viscosity and sufficiently quick curability suitable for the formation of a cured product and accordingly applicable to various uses.例文帳に追加

紫外線、電子線等の活性エネルギー線によって硬化し、各種の用途に好適に適用することができる活性エネルギー線硬化性水系組成物、詳しくは、環境に対する負荷を低減し、硬化物の形成に適した低粘度と充分な速硬化性とを発現することができるため各種の用途に好適に適用することができる活性エネルギー線硬化性水系組成物を提供する。 - 特許庁

This antimicrobial antifogging resin composition is composed of a hydrophilic resin composition curable by actinic energy rays and containing (A) a water-soluble antimicrobial component derived from extract of the pip of citric fruit and (B) a water-soluble resin curable by actinic energy ray irradiation and produced by adding (meth)acryloyl group to citric acid ester of polyethylene glycol.例文帳に追加

柑橘類種子の抽出物由来の水溶性抗微生物性成分(A) およびポリエチレングリコールのクエン酸エステルに（メタ）アクリロイル基を付加した水溶性活性エネルギー線硬化型樹脂(B) を含有する親水性活性エネルギー線硬化型樹脂組成物からなる抗微生物性防曇性樹脂組成物である。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which simultaneously satisfies sensitivity, resolution, pattern shape, line edge roughness and dry etching resistance, in lithography especially using an electron beam, an X-ray or an EUV ray, and to provide a resist-film and pattern formation method utilizing the same.例文帳に追加

特に電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、及びラインエッジラフネス、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which simultaneously satisfies sensitivity, resolution, pattern shape, line edge roughness and development defect performance, in lithography especially using an electron beam, an X-ray or an EUV ray as an exposure light source, and to provide a resist-film and pattern formation method utilizing the same.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、及びラインエッジラフネス、現像欠陥性能を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition contains a resin containing a specified repeating unit having a cyano group in a backbone and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of an acid and a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation.例文帳に追加

主鎖にシアノ基を有する特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive composition contains a resin, having a monocyclic or a polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and having solubility in an alkali developing solution increased, by the action of an acid and a sulfonium salt compound of a specified structure which generates acid upon being irradiated with an actinic ray.例文帳に追加

単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、および活性光線の照射により酸を発生する特定構造のスルホニウム塩化合物を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The photosensitive resin composition for forming a polyimide pattern on a substrate comprises (a) a polyamic acid, (b) a photobase generator which generates a secondary amine having at least one substituent in the α position upon irradiation with an actinic ray, and (c) a solvent.例文帳に追加

本発明の一態様における感光性樹脂組成物は、基体上にポリイミドのパターンを形成するための感光性樹脂組成物であって、（ａ）ポリアミド酸、（ｂ）活性光線の照射によりα位に少なくとも一つの置換基を有する２級アミンを発生する光塩基発生剤、（ｃ）溶媒を含有する。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin having a fluorine-containing specified repeating unit and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）フッ素原子を有する特例の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The negative resist composition comprises (A) a compound which generates a sulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, (B) an alkali-soluble resin having a repeating unit having a partial structure represented by a specified formula and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射によりスルホン酸を発生する化合物、（Ｂ）特定の一般式で表される部分構造を有する繰り返し単位を有するアルカリ可溶性樹脂及び（Ｃ）溶剤を含有するネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

The dry film resist contains a polymer having α,β-unsaturated nature and a group which generates a free radical upon exposure to an actinic ray or radiation, wherein the polymer has an average molecular weight of at least 1,000 Dalton and contains a plurality of ester bonds.例文帳に追加

α，β−不飽和性と、化学線放射線に露光した際にフリーラジカルを発生する基とを有するポリマーを含むドライフィルムレジストであって、該ポリマーが少くとも１，０００ドルトンの平均分子量を有し、複数のエステル結合を含むドライフィルムレジスト。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing spherical resin particles having an average particle diameter controlled in a wide range of sub-μm order to μm order, and mainly composed of an actinic energy ray-crosslinked polymer.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、サブμｍオーダーからμｍオーダーの幅広い範囲の制御された平均粒子径を有する、主として活性エネルギー線架橋重合体からなる球状樹脂の製造方法を提供することである。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin containing a specified group having -NH- and a fluorine atom and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）フッ素原子及び−ＮＨ−を有する特定の基を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The negative resist composition comprises (A) an alkali-soluble polymer, (B) a crosslinking agent which crosslinks with the alkali-soluble polymer (A) under the action of an acid and (C) a specified acid generator which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）アルカリ可溶性ポリマー、（Ｂ）酸の作用により（Ａ）のアルカリ可溶性ポリマーと架橋する架橋剤及び（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、特定の酸発生剤を含有するネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin including a specified repeating unit having a fluorine atom and a polycyclic structure and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound that generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）フッ素原子を有し多環構造をもつ特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

A method for producing the molded object includes at least a step of patternwise irradiating a photosensitive composition containing inorganic particles and a photosensitive organic component with an actinic ray, and a step of performing frequency-modulated ultrasonic treatment in a developer during development after the irradiation.例文帳に追加

無機粒子と感光性有機成分を含む感光性組成物に活性光線をパターン状に照射する工程、照射後、現像時に現像液中で周波数変調型超音波処理を行う工程の少なくとも２つの工程を有することを特徴とする成形体の製造方法。 - 特許庁

The positive photosensitive resin composition contains (A) a polybenzoxazole precursor represented by formula (1), (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray, (C) a divalent organo-transition-metal compound represented by formula (2) and (D) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）一般式（１）で表わされるポリベンゾオキサゾール前駆体、（Ｂ）活性化学線照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）一般式（２）で表わされる二価の有機遷移金属化合物、及び（Ｄ）溶剤を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a specified compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, (B) a resin having a specified repeating unit and solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、特定の化合物、（Ｂ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

This positive resist composition contains (A) a resin having at least a repeating unit represented by formula (A1) and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）少なくとも下記一般式（Ａ１）で表される繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin containing a repeating unit having an adamantane structure in a side chain and having a velocity of dissolution in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）側鎖にアダマンタン構造を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, (B) an organic fluoropolymer whose solubility in an alkali developer is increased by the action of an acid having a specified structure and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｂ）特定の構造を有する酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する有機フッ素ポリマー及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The actinic ray- or radiation-sensitive resin composition comprises a hydrophobic resin (HR) containing a fluorine atom, wherein the hydrophobic resin (HR) has any of repeating units (a) of formula (I) or (II).例文帳に追加

フッ素原子を含有する疎水性樹脂（ＨＲ）を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物であって、疎水性樹脂（ＨＲ）が下記一般式（Ｉ）又は（II）で表される繰り返し単位（ａ）を有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The positive resist composition (A) comprises a resin having a repeating unit in which a sulfonium salt structure capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation is linked to a principal chain by a linking group which degrades under the action of an acid.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生するスルホニウム塩構造が、酸の作用により分解する連結基によって主鎖に連結されている繰り返し単位を有する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The actinic ray- or radiation-sensitive resin composition includes a resin (A) which has at least two polar conversion groups, includes a repeating unit (a) having at least either a fluorine atom or a silicon atom, and exhibits increased solubility in an alkali developer by the action of an acid.例文帳に追加

極性変換基を少なくとも２つ以上有し、かつ、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する繰り返し単位（ａ）を含有し、かつ、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂（Ａ）、を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition useful to form a fine pattern in semiconductor manufacturing and remarkably reducing pattern collapse, development defects, liquid immersion defects (residual water defects, bubble defects) and scum, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

半導体製造における微細なパターン形成に有用な、パターン倒れ、現像欠陥、液浸欠陥（水残り欠陥、バブル欠陥）、スカムを著しく低減できる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is improved in developability and enables to form a pattern having good conformability to an immersion liquid in liquid immersion exposure, and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

現像性が改善され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好なパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is improved in developability and enables to form a pattern having good conformability to an immersion liquid in liquid immersion exposure, and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

現像性が改善され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好なパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an excellent actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition suppressing development defect even in patterning by ordinary light exposure and immersion exposure, having a wide exposure latitude and suppressing line edge roughness, and a pattern-forming method to use the composition.例文帳に追加

通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、露光ラチチュードが広く、ラインエッジラフネスを抑制できる、優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, good pattern profile and good line edge roughness, to provide a pattern forming method using the composition and a resin purifying method used for the composition.例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状及び良好なラインエッジラフネスを同時に満足させる、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いたパターン形成方法及び該組成物に用いられる樹脂の精製方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in development defect performance, liquid immersion defect performance and limit resolution and enables to form a pattern having a good shape, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

現像欠陥性能、液浸欠陥性能、及び限界解像力に優れ、且つ良好な形状を有したパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern simultaneously satisfying high sensitivity, high resolution and good dry etching resistance even in the formation of an isolated pattern, to provide a resist film using the composition, and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

孤立パターンの形成においても、高感度、高解像性、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition which can provide a pattern having improved uniformity of coating film thickness and excellent size uniformity in the wafer surface on which the pattern has been formed by liquid immersion exposure, and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

塗布膜厚の均一性が改善され、且つ、液浸露光により形成されたパターンのウエハー面内における寸法均一性に優れるパターンを提供可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition and a pattern forming method that uses identical satisfying high sensitivity, high resolution, proper pattern shape, proper line edge roughness and dry etching resistance, at the same time.例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状及び良好なラインエッジラフネス、さらには耐ドライエッチング性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性低分子化合物含有組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which resolves on a vertical sidewall in forming a contact hole pattern, ensures enhanced EDW, improves side lobe resistance, and reduced the number of Blob defects, as well as a resist film and a pattern formation method using the composition.例文帳に追加

コンタクトホールパターン形成時に垂直な側壁にて解像し、広いＥＤＷを確保でき、サイドローブ耐性が良化し、かつＢｌｏｂ欠陥数が低減した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that has improved performance of Line Width Roughness and Depth of Focus and also adapted to a liquid immersion process with a line width of ≤45 nm, and to provide a pattern forming method employing the same.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス、デプスオブフォーカスの性能が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that excels in the roughness characteristics, exposure latitude, depth of focus, and development defect performance and that allows to form a pattern of favorable configuration, and to provide a method of forming a pattern using the composition.例文帳に追加

ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition suitable not only to a normal dry process but also to an immersion process for a line width of 45 nm or less and improved in the DOF, pattern collapse and iso/dense bias, and to provide a resist film and a pattern forming method each using the composition.例文帳に追加

通常のドライプロセスに加え、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した、ＤＯＦ、パターン倒れ、及び疎密依存性が改良された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that is satisfactory with respect to high sensitivity, high resolution of a dense pattern and an isolated line, sufficient exposure latitude, proper line width roughness, proper bridge margin and high resolution of isolated space, and to provide a method for forming a pattern using the composition.例文帳に追加

高感度、密集パターンおよび孤立ラインの高解像性、十分な露光余裕度、良好なラインウィズスラフネス、良好なブリッジマージン、孤立スペースの高解像性を同時に満足する感活性光線または感放射線樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The negative photosensitive resin composition comprises (a) an alkaline aqueous solution-soluble polymer having phenolic hydroxyl groups at terminals, (b) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray, and (c) a compound which is crosslinked or polymerized by the action of an acid.例文帳に追加

前記ネガ型感光性樹脂組成物は、（ａ）末端にフェノール性水酸基を有するアルカリ水溶液可溶性のポリマー、（ｂ）活性光線照射により酸を発生する化合物、及び、（ｃ）酸の作用により架橋あるいは重合し得る化合物を含有する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method excellent in resolution power such as a minimum dimension free from a bridge defect, roughness performance such as line edge roughness, and dependency on developing time, and to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and a resist film to be used for the method.例文帳に追加

ブリッジ前寸法等の解像力、ラインエッジラフネス等のラフネス性能、現像時間依存性に優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition for optical goods curable with actinic energy ray, having excellent shape-retaining property and restoring property of an optical resin layer, high adhesivity to a plastic substrate and releasability from a mold, satisfying various other requirements and exhibiting excellent transparency and curability.例文帳に追加

光学樹脂層の形状保持力や復元力及びプラスチック基材に対する密着性および型との版離れ性に優れ、屈折率が高く、その他要求特性とを満足させ、且つ透明性や硬化性に優れる光学物品用活性エネルギー線硬化樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁