EF1を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 10件
The power supply unit 50 includes a first power supply Ef1 which heats the electron source 16 and a second power supply Ef2 which heats the electron source 16 independently from the first power supply Ef1.例文帳に追加
電源ユニット５０は、電子源１６を加熱する第１電源Ｅｆ１と、第１電源Ｅｆ１とは独立して電子源１６を加熱する第２電源Ｅｆ２と、を備えている。 - 特許庁
Mixing process parts MX1 and MX2 selectively put the waveform data EF1 to EF8 together to obtain waveform data DOL and DOR.例文帳に追加
ミキシング処理部ＭＸ１，ＭＸ２は、波形データＥＦ１〜ＥＦ８を選択的に合成して波形データＤＯＬ，ＤＯＲを得る。 - 特許庁
Equalizing process parts EQ1 and EQ2, delay processing parts DL1 to DL4, and effect processing parts EF1 to EF8 reflect control data for controlling sound effects on the waveform data DTG and generate waveform data EF1 to EF8 corresponding to combinations of output channels and the control data.例文帳に追加
イコライズ処理部ＥＱ１，ＥＱ２、ディレイ処理部ＤＬ１〜ＤＬ４、エフェクト処理部ＥＦ１〜ＥＦ８は、音響効果を制御するための制御データを波形データＤＴＧに反映させ、出力チャンネルと制御データとの組み合わせに応じた波形データＥＦ１〜ＥＦ８を生成する。 - 特許庁
This enhances a field intensity EF2 at the slit center of a field intensity EF1 generating from the center part of the striped pixel electrode PE.例文帳に追加
ストライプ状の画素電極ＰＥ自体の中央部における電界強度ＥＦ１、のスリット部中央における電界強度ＥＦ２を強める。 - 特許庁
Vectors V1-V4 are calculated for respective elements of resin flow analysis elements 1-Ef4, and matching is made between four resin flow analysis elements Ef1-Ef4 and one structural analysis element Es.例文帳に追加
樹脂流動解析要素１〜Ｅf４の各要素ごとにベクトルＶ１〜Ｖ４を求め、４個の樹脂流動解析要素Ｅf１〜Ｅf４と１個の構造解析要素Ｅｓとのマッチングを行う。 - 特許庁
A voltage (-Ef1) is given to the integrator and integrated, until the end of the 2nd reference voltage integration processing for a time Δt0' which the same interval as a time Δt0, when only the output voltage Ex is given to the integrator.例文帳に追加
出力電圧Exのみを積分器に入力した時間Δt0と同じ時間Δt0’だけ、電圧（−Efl）を第２基準電圧積分処理の終了時までに積分器に入力して積分する。 - 特許庁
If a fixed potential is given to the gate electrode 130, the second electric charge holding portion is not influenced by an electric field EF1 induced by the electric charges CH1 so that the trapping of the electric charges CH2 is not inhibited.例文帳に追加
ゲート電極１３０に固定電位を与えておけば、電荷ＣＨ１の誘起する電界ＥＦ１の影響が第２の電荷保持部に及ばず、電荷ＣＨ２のトラップが妨げられることがないからである。 - 特許庁
In the musical sound generation system, the third musical sound signal generation group RP3-EP3, RF3-EF3 are provided in addition to the first musical sound signal generation group RP1-EP1, RF1-EF1 and the second musical sound signal generation group RP2-EP2, RF2-EF2.例文帳に追加
この楽音生成システムでは、第１楽音信号生成系列ＲＰ１−ＥＰ１，ＲＦ１−ＥＦ１及び第２楽音信号生成系列ＲＰ２−ＥＰ２，ＲＦ２−ＥＦ２に加えて、第３楽音信号生成系列ＲＰ３−ＥＰ３，ＲＦ３−ＥＦ３が設けられる。 - 特許庁
Then the average value Nn of each vector V1-V4 for each element Ef1-Ef4 is calculated, and corresponding vector V0 is allocated to each node N1-N4 of structural analysis element E0, when the element E0 subject to process has an abutting element, composite vector on a shared node Ncom is calculated and put to each shared node Ncom.例文帳に追加
次に、各要素Ｅf１〜Ｅf４における各ベクトルＶ１〜Ｖ４の平均値Ｎｎを求め、そのベクトルＶ０を構造解析要素Ｅ０の各節点節点Ｎ１〜Ｎ４のそれぞれに分配し、処理対象要素Ｅ０に隣接する要素が存在する場合は、共有する節点Ｎｃｏｍ上の合成ベクトルを求め、それを各共有節点Ｎｃｏｍに付与する。 - 特許庁
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