意味 | 例文 (194件) |
ELECTRON BEAM PROCESSINGの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 194件
ELECTRON BEAM AMOUNT DETECTOR AND ELECTRON BEAM IRRADIATION PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
電子線量検出器および電子線照射処理装置 - 特許庁
ALIGNER USING ELECTRON BEAM AND PROCESSING DEVICE USING THE ELECTRON BEAM例文帳に追加
電子ビーム露光装置及び電子ビーム処理装置 - 特許庁
ELECTRON BEAM IRRADIATION PROCESSING DEVICE例文帳に追加
電子線照射処理装置 - 特許庁
IRRADIATION PROCESSING METHOD OF ELECTRON BEAM例文帳に追加
電子線照射処理方法 - 特許庁
ELECTRON GUN AND ELECTRON BEAM IRRADIATION PROCESSING DEVICE例文帳に追加
電子銃および電子ビーム照射処理装置 - 特許庁
ELECTRON GUN, ELECTRON BEAM DRAWING DEVICE, AND DEGASSING PROCESSING METHOD FOR ELECTRON GUN例文帳に追加
電子銃、電子ビーム描画装置および電子銃の脱ガス処理方法 - 特許庁
ELECTRON BEAM APPARATUS, ELECTRON BEAM SHAPE MEASURING METHOD AND IMAGE PROCESSING METHOD例文帳に追加
電子線装置、電子線形状測定方法及び画像処理方法 - 特許庁
DATA PROCESSING DEVICE FOR ELECTRON BEAM DEVICE AND METHOD OF STEREOSCOPIC MEASUREMENT OF ELECTRON BEAM DEVICE例文帳に追加
電子線装置用データ処理装置、電子線装置のステレオ測定方法 - 特許庁
ALIGNER USING ELECTRON BEAM AND PROCESSING DEVICE USING THE ELECTRONIC BEAM例文帳に追加
電子ビーム露光装置及び電子ビーム処理装置 - 特許庁
DATA PROCESSING METHOD FOR PATTERN ONE-SHOT ELECTRON- BEAM EXPOSURE AND PATTERN ONE-SHOT ELECTRON-BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加
図形一括電子線露光用データ処理方法および図形一括型電子ビーム露光装置 - 特許庁
METHOD FOR PROCESSING DATA FOR PATTERN IN-BATCH CELL PROJECTION TO ELECTRON BEAM AND METHOD FOR ELECTRON BEAM EXPOSURE例文帳に追加
図形一括電子線露光用データ処理方法及び電子線露光方法 - 特許庁
DRAWING DATA PROCESSING SYSTEM FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加
電子ビーム描画装置における描画データ処理方式 - 特許庁
ELECTRON BEAM PROCESSING DEVICE, CONTROL METHOD, AND PROGRAM例文帳に追加
電子ビーム加工装置、制御方法及びプログラム - 特許庁
POSITION COMPENSATION DEVICE AND ELECTRON BEAM PROCESSING DEVICE例文帳に追加
位置補正装置及び電子ビーム加工装置 - 特許庁
ELECTRON BEAM TESTER AND IMAGE-PROCESSING DEVICE例文帳に追加
電子ビームテスタ及び画像処理装置 - 特許庁
GRAPHIC DATA PROCESSING METHOD FOR FORMING BEAM-TYPE ELECTRON BEAM IRRADIATION APPARATUS例文帳に追加
成形ビーム型電子ビーム照射装置用の図形データ処理方法 - 特許庁
The electron beam irradiation device processing the material 5 to be processed by irradiating the electron beam thereto is characterized by a means shifting an electron beam irradiation device body 1 having the electron beam tube 2, relative to the material 5 to be processed in processing the material 5 to be processed by irradiating the electron beam thereto.例文帳に追加
被処理物5に電子ビームを照射して処理する電子ビーム照射装置において、被処理物5の電子ビーム照射処理時、被処理物5に対して電子ビーム管2を備える電子ビーム照射装置本体1を移動させる手段を有していることを特徴とする。 - 特許庁
Before the electron-beam irradiation processing, a hydrophilic compound is added to the film surface to be irradiated with electron beams.例文帳に追加
電子線照射処理の前に、電子線照射処理するフィルム面に親水性化合物を添加する。 - 特許庁
PROCESSING OF DATA FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY, ELECTRON EXPOSURE MASK AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加
電子線描画用デ—タの処理方法、電子線露光用マスク及び記録媒体 - 特許庁
ELECTRON BEAM LITHOGRAPHIC DATA PROCESSING METHOD, STORAGE MEDIUM STORING LITHOGRAPHIC DATA PROCESSING PROGRAM, AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加
電子線描画データ加工方法および描画データ加工プログラムを記録した記録媒体、ならびに電子線描画装置 - 特許庁
After the electron-beam irradiation processing, the protecting film is dipped in an alkali bath to carry out saponification.例文帳に追加
電子線照射処理後、アルカリ浴に浸漬させて鹸化処理を行う。 - 特許庁
It is also desirable that the sterilization processing is done by electron beam irradiation.例文帳に追加
また、滅菌処理を電子線照射によって行なうと好ましい。 - 特許庁
METHOD FOR PROCESSING GRAPHIC DATA WITH HIGHER ACCURACY FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加
電子ビーム描画装置用の図形データの高精度化処理方法 - 特許庁
ELECTRON BEAM STERILIZATION METHOD AND APPARATUS AND STERILIZATION PROCESSING SYSTEM例文帳に追加
電子線滅菌方法、電子線滅菌装置及び滅菌処理システム - 特許庁
ELECTRON BEAM PROCESSING MATERIAL AND METHOD OF MANUFACTURING RUGGED STRUCTURE USING THE SAME例文帳に追加
電子線加工材料およびそれを用いた凹凸構造体の製造方法 - 特許庁
ELECTRON BEAM APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
電子線装置および該装置を用いたデバイス製造方法 - 特許庁
To provide an electron gun, an electron beam drawing device, and a degassing processing method for an electron gun that can shorten a downtime when the device operates.例文帳に追加
装置の動作時においてダウンタイムを短縮できる電子銃、電子ビーム描画装置および電子銃の脱ガス処理方法を提供する。 - 特許庁
ELECTRON BEAM IRRADIATION DEVICE, ELECTRON BEAM IRRADIATION PROCESSING APPARATUS USING THE SAME, AND COLLECTOR ELECTRODE FOR USE IN THE SAME例文帳に追加
電子ビーム照射装置、これを用いる電子ビーム照射処理装置、及びこれらに用いるコレクター電極 - 特許庁
The electron beam irradiation surface reforming device 1 is provided with an electron beam generation chamber 25, an electron beam housing 10 which forms the electron beam generation chamber 25 and has an emitting mouth 13a, and a processing housing 30 which forms a processing chamber 31 and has an incident mouth 30a.例文帳に追加
電子ビーム照射表面改質装置1が、電子ビーム発生室25と、電子ビーム発生室25を形成し出射口13aを有する電子ビームハウジング10と、加工室31を形成し入射口30aを有する加工ハウジング30とを備える。 - 特許庁
The inside of the processing vessel 8 is irradiated with an electron beam through the bulkhead 10 from the electron beam generation part 9 while the inside of the processing vessel 8 connected to the electron beam generation part 9 through the bulkhead 10 is made an oxidation gas atmosphere, and the production adhered to the bulkhead 10 and the inside of the processing vessel 8 is effectively oxidized and removed.例文帳に追加
隔壁10を介して電子線発生部9に接続された処理容器8内を酸化性ガス雰囲気にしつつ、電子線発生部9から隔壁10を介して処理容器8内に電子線を照射し、隔壁10及び処理容器8内に付着する生成物を効果的に酸化・除去する。 - 特許庁
PROCESSING METHOD USING FOCUSED ION BEAM, NANOTUBE PROBE, MICROSCOPE DEVICE, AND ELECTRON GUN例文帳に追加
集束イオンビームを用いた加工方法、ナノチューブプローブ、顕微鏡装置、及び電子銃 - 特許庁
FOCUSED ION BEAM PROCESSING METHOD, AND PREPARATION METHOD OF TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPE SAMPLE USING IT例文帳に追加
集束イオンビーム加工方法およびそれを用いた透過型電子顕微鏡試料の作製方法 - 特許庁
Reading/writing processing is executed by an electron beam emitted from the carbon nanotube 16.例文帳に追加
カーボン・ナノチューブ16から放出された電子線により読出し/書込み処理が実行される。 - 特許庁
METHOD AND SYSTEM FOR CONTROLLING UNIFORMITY IN BALLISTIC ELECTRON BEAM ACCELERATING PLASMA PROCESSING SYSTEM例文帳に追加
弾道電子ビーム促進プラズマ処理システムにおける均一性制御方法及びシステム - 特許庁
The electron-beam processing is previously performed on the polyimide film surface so as to be activated.例文帳に追加
ポリイミドフィルム表面にはあらかじめ電子線処理を施して活性化しておく。 - 特許庁
FOCUSED ION BEAM DEVICE FOR TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPE SAMPLE PROCESSING EQUIPPED WITH WRITING FUNCTION BY CODING RELEVANT INFORMATION例文帳に追加
関連情報をコード化して書き込む機能を備えたTEM試料加工用集束イオンビーム装置 - 特許庁
To provide an electron beam exposure system capable of processing exposure at a high speed.例文帳に追加
高速に露光処理を行うことができる電子ビーム露光装置を提供する - 特許庁
The electron beam irradiation processing is performed while the core wire is electrically connected to the shaft 92.例文帳に追加
電子線照射処理は、当該芯線をシャフト92に電気的に接続した状態のまま行われる。 - 特許庁
METHOD FOR EXPOSING TO ELECTRON BEAM, SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR PROCESSING EXPOSURE PATTERN DATA, AND PROGRAM例文帳に追加
電子ビーム露光方法、半導体装置、露光パターンデータ処理方法およびプログラム - 特許庁
The structure analysis processing for the small angle electron beam scattering portion may be combined for use.例文帳に追加
また、小角電子線散乱部分の構造解析処理を併用することができる。 - 特許庁
HIGH-SPEED PROCESSING METHOD USING ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY AND OPTICAL CIRCUIT MANUFACTURED THEREBY例文帳に追加
電子線描画を利用したパターンの高速加工方法及びそれを用いて作製した光回路 - 特許庁
To accelerate the exposure processing of exposure control data, in an electron beam exposure system.例文帳に追加
電子ビーム露光装置における露光制御データの展開処理を高速化する。 - 特許庁
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