「INDUCTIVELY- COUPLED PLASMA」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

CONTROL METHOD OF INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA AND INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

誘導結合型プラズマの制御方法及び誘導結合型プラズマ処理装置 - 特許庁

Inductively coupled plasma mass spectrometry.例文帳に追加

何? 誘導結合プラズマ質量分析装置 - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

PLASMA CONE FOR INDUCTIVELY COUPLED PLASMA MASS SPECTROMETER, AND INDUCTIVELY COUPLED PLASMA MASS SPECTROMETER例文帳に追加

誘導結合プラズマ質量分析装置用プラズマコーン及び誘導結合プラズマ質量分析装置 - 特許庁

INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA PROCESSING DEVICE, AND PLASMA PROCESSING METHOD例文帳に追加

誘導結合プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 - 特許庁

INDUCTIVELY COUPLED PLASMA ALIGNMENT APPARATUS AND METHOD例文帳に追加

誘導結合プラズマ整列装置及び方法 - 特許庁

INDUCTIVELY COUPLED PLASMA REACTOR COUPLED WITH MULTIPLEX MAGNETIC CORE例文帳に追加

多重マグネチックコアが結合された誘導結合プラズマ反応器 - 特許庁

INDUCTIVELY COUPLED PLASMA PRODUCTION DEVICE AND PLASMA PRODUCTION METHOD例文帳に追加

誘導結合型プラズマ生成装置及びプラズマ生成方法 - 特許庁

CHAMBER STRUCTURE OF INDUCTIVELY COUPLED PLASMA ETCHING DEVICE例文帳に追加

誘導結合プラズマ食刻装置のチャンバ構造 - 特許庁

INDUCTIVELY COUPLED ANTENNA UNIT AND PLASMA PROCESSING DEVICE例文帳に追加

誘導結合型アンテナユニット及びプラズマ処理装置 - 特許庁

INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA PROCESSING APPARATUS, PLASMA PROCESSING METHOD, AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加

誘導結合プラズマ処理装置、プラズマ処理方法及び記憶媒体 - 特許庁

To uniform the plasma density of a high-frequency inductively coupled plasma apparatus.例文帳に追加

高周波誘導結合プラズマ装置のプラズマ密度の均一化を図る。 - 特許庁

INDUCTIVELY COUPLED PLASMA MASS SPECTROMETRY AND EMISSION ANALYZER例文帳に追加

誘導結合プラズマ質量分析及び発光分析装置 - 特許庁

HIGH-FREQUENCY INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA ION TRAP MASS SPECTROMETRY DEVICE例文帳に追加

高周波誘導結合プラズマイオントラップ質量分析装置 - 特許庁

INDUCTIVELY COUPLED PLASMA SPECTROSCOPE AND ITS MEASURING METHOD例文帳に追加

誘導結合型プラズマ分光装置、およびその測定方法 - 特許庁

To provide a plasma cone for an inductively coupled plasma mass spectrometer, and the inductively coupled plasma mass spectrometer provided with the plasma cone having a long life cycle.例文帳に追加

長いライフサイクルを有する誘導結合プラズマ質量分析装置用プラズマコーン及びこれを具備した誘導結合プラズマ質量分析装置を提供する。 - 特許庁

CENTER RING AND INDUCTIVELY COUPLED PLASMA DECOMPOSITION DEVICE PROVIDED WITH THIS例文帳に追加

センターリングおよびこれを備えた誘導結合プラズマ分解装置 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR HIGH FREQUENCY INDUCTIVELY COUPLED PLASMA MASS SPECTROMETRY例文帳に追加

高周波誘導結合プラズマ質量分析方法及び装置 - 特許庁

To provide an inductively-coupled plasma processing apparatus having improved uniformity.例文帳に追加

均一性の向上した誘導結合型プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

An inductively-coupled micro plasma source has a floating electrode inside a gas flow passage.例文帳に追加

誘導結合型マイクロプラズマ源のガス流路内部に、浮遊電極を用意する。 - 特許庁

ANALYZER HAVING GAS CHROMATOGRAPH BONDED WITH INDUCTIVELY COUPLED PLASMA MASS SPECTROMETER例文帳に追加

ガスクロマトグラフに誘導結合プラズマ質量分析装置を結合させた分析装置 - 特許庁

In some aspects, the method uses an inductively coupled plasma (ICP) source.例文帳に追加

いくつかの局面では、前記方法は、誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）源を用いる。 - 特許庁

INDUCTIVELY-COUPLED DOUBLE-TUBE ELECTRODE AND ARRAY ANTENNA TYPE CVD PLASMA DEVICE例文帳に追加

誘導結合型の二重管電極及びアレイアンテナ式のＣＶＤプラズマ装置 - 特許庁

To provide a high frequency inductively coupled plasma generating device allowing the formation of plasma in a larger and uniform plasma region.例文帳に追加

プラズマ領域の拡大および均一なプラズマの形成が可能な高周波誘導結合プラズマ生成装置の提供。 - 特許庁

METHOD FOR HIGH-PRECISION ANALYSIS OF METAL ELEMENTS BY INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA EMISSION SPECTRAL ANALYSIS METHOD例文帳に追加

誘導結合プラズマ発光分光分析法による金属元素の高精度分析方法 - 特許庁

To provide an inductively coupled high frequency plasma reactor and method of processing a semiconductor wafer.例文帳に追加

誘導結合高周波プラズマ・リアクタと半導体ウェハの処理方法とを提供する。 - 特許庁

To provide an inductively coupled high frequency plasma reactor and a method for processing a semiconductor wafer.例文帳に追加

誘導結合高周波プラズマ・リアクタと半導体ウェハの処理方法とを提供する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR MAGNETOOPTIC DISK BY INDUCTIVELY COUPLED RF PLASMA SUPPORTED MAGNETRON SPUTTERING METHOD例文帳に追加

誘導結合ＲＦプラズマ支援マグネトロンスパッタ法における光磁気ディスクの製造方法 - 特許庁

INDUCTIVELY-COUPLED RADIO-FREQUENCY PLASMA CVD APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING GLASS FILM USING THE SAME例文帳に追加

誘導結合高周波プラズマＣＶＤ装置及びそれを用いたガラス膜の製造方法 - 特許庁

METHOD OF DETERMINING QUANTITY OF TRACE ELEMENT USING INDUCTIVELY COUPLED PLASMA MASS SPECTROMETER例文帳に追加

誘導結合プラズマ質量分析装置を用いた微量不純物元素の定量方法 - 特許庁

To provide an apparatus for producing inductively coupled plasma wherein a plasma density distribution in the vicinity of a substrate can be controlled uniformly.例文帳に追加

基板付近でのプラズマ密度分布を均一に制御できる誘導結合プラズマ発生装置を提供する。 - 特許庁

METHOD OF ELIMINATING M-SHAPE ETCHING RATE DISTRIBUTION IN INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA REACTOR例文帳に追加

誘導結合型プラズマリアクタにおけるエッチング速度の「Ｍ形状」の分布特性を排除する方法 - 特許庁

To provide an inductively coupled plasma processing apparatus capable of dealing with a target substrate to be processed of a larger size.例文帳に追加

被処理基板の大型化に対応できる誘導結合プラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

SIGHTING DEVICE, AND EMISSION SPECTROMETER WITH INDUCTIVELY COUPLED PLASMA SOURCE COMPRISING SUCH A DEVICE例文帳に追加

照準装置及びそのような装置を含み誘導結合プラズマ源を有する発光分光計 - 特許庁

CONTAINER FOR PRETREATMENT OF ELEMENTAL ANALYSIS, METHOD FOR ELEMENTAL ANALYSIS, INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA TORCH AND ELEMENTAL ANALYSIS SYSTEM例文帳に追加

元素分析前処理用容器、元素分析方法、誘導結合プラズマトーチ、及び元素分析装置 - 特許庁

QUANTITATIVE ANALYSIS OF ALUMINUM IN STEEL BY INDUCTIVELY COUPLED PLASMA EMISSION SPECTROSCOPIC ANALYSIS METHOD例文帳に追加

誘導結合プラズマ発光分光分析法による鋼中のアルミニウムの定量分析方法 - 特許庁

To provide an inductively-coupled plasma processing apparatus capable of enhancing uniformity of plasma density distribution in a longitudinal direction of an antenna.例文帳に追加

誘導結合型のプラズマ処理装置において、アンテナの長手方向におけるプラズマ密度分布の均一性を高める。 - 特許庁

METHOD OF CONTROLLING SPATIAL DISTRIBUTION OF INDUCTIVELY- COUPLED PLASMA, AND PLASMA GENERATOR FOR EXECUTING THE METHOD AND ETCHING APPARATUS例文帳に追加

誘導結合プラズマの空間分布制御方法及びこの方法を実施するためのプラズマ発生装置及びエッチング装置 - 特許庁

The inductively coupled plasma processing apparatus 1 includes a process chamber 2, a lower electrode 6 arranged in the process chamber 2, and an inductively coupled coil 4 for generating plasma in the process chamber 2.例文帳に追加

本発明の誘導結合プラズマ処理装置１は、処理室２、この処理室２内に配置された下部電極６、処理室２内にプラズマを発生させるための誘導結合コイル４を備えている。 - 特許庁

To provide a plasma condition monitoring and/or controlling method in a plasma spectrometer, for example, an inductively coupled plasma optical- emission spectrometer or an inductively coupled plasma atomic-spectrometer (ICP-OES or ICP-MS), and a spectrometer for executing the method.例文帳に追加

プラズマ・スペクトロメーター、例えば、プラズマ光学放射スペクトロメーター又は原子スペクトロメーター（ＩＣＰ−ＯＥＳ又はＩＣＰ−ＭＳ）におけるプラズマの状態を監視及び／又は制御する方法、及びそのような方法を実行するスペクトロメーターに関する。 - 特許庁

To efficiently and optionally control a plasma density profile in doughnut-shaped plasma formed in a chamber in inductively coupled plasma processing.例文帳に追加

誘導結合型のプラズマ処理においてチャンバ内に形成されるドーナツ状プラズマ内のプラズマ密度分布を効率よく任意に制御すること。 - 特許庁

To freely and minutely control the plasma density distribution by using a simple correction coil in an inductively coupled plasma process.例文帳に追加

誘導結合型のプラズマプロセスにおいて簡易な補正コイルを用いてプラズマ密度分布を自在かつ精細に制御すること。 - 特許庁

To provide a high-frequency inductively-coupled plasma source capable of forming plasma having a large outer diameter while restraining a coil diameter.例文帳に追加

コイル径を抑えつつより大きな外径を有するプラズマを形成することができる高周波誘導結合プラズマ源の提供。 - 特許庁

To provide an inductively coupled plasma generator capable of surely performing plasma ignition even in the case of an inexpensive igniter having a low output voltage.例文帳に追加

安価で出力電圧が低いイグナイタでも確実にプラズマ点火が可能な誘導結合プラズマ発生装置を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING GLASS-LIKE SILICA LAYER WITH INDUCTIVELY COUPLED PLASMA TORCH AND PRODUCTION DEVICE TO BE USED例文帳に追加

誘導結合プラズマ・トーチを用いたガラス状シリカ層の製造方法及び使用される製造装置 - 特許庁

To provide a quantification method in which a minimum limit of quantification for chlorine or bromine is reduced in an inductively coupled plasma emission spectrophotometer.例文帳に追加

誘導結合プラズマ発光分光分析装置による塩素又は臭素を定量下限を下げる。 - 特許庁