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Plating Methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5154件
SUBSTRATE WITH PLATING BUMP AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
めっきバンプ付き基板およびその製造方法 - 特許庁
PLATING DEVICE AND ITS SUBSTITUTION DEPOSITION PREVENTION METHOD例文帳に追加
めっき装置とその置換析出防止方法 - 特許庁
NICKEL-GOLD PLATING METHOD AND PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加
ニッケル−金メッキ方法及び印刷回路基板 - 特許庁
ELECTROLESS PLATING SOLUTION, ELECTROLESS PLATING METHOD USING THE SAME, AND METHOD FOR PRODUCTION OF WIRING BOARD例文帳に追加
無電解めっき液及びそれを用いた無電解めっき方法、並びに配線基板の製造方法 - 特許庁
ELECTROLESS PLATING METHOD, ELECTROLESS PLATING DEVICE, METHOD OF FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND FABRICATION DEVICE THEREFOR例文帳に追加
無電解メッキ方法、無電解メッキ装置、半導体装置の製造方法及びその製造装置 - 特許庁
METHOD FOR FORMING WIRE ADOPTING ELECTROLYTIC PLATING例文帳に追加
電解めっきを用いた配線の形成方法 - 特許庁
METHOD FOR ELECTROLESS PLATING ONTO SILVER CONDUCTIVE FILM例文帳に追加
銀導電膜上への無電解めっき方法 - 特許庁
CHEMICAL NICKEL PLATING METHOD FOR THERMOELECTRIC SEMICONDUCTOR例文帳に追加
熱電半導体への化学ニッケルめっき方法 - 特許庁
METHOD FOR PLATING TRIVALENT CHROMIUM ON NEEDLES AND NEEDLES例文帳に追加
針類への3価クロムメッキ方法及び針類 - 特許庁
GOLD PLATING LIQUID, GOLD PLATING METHOD, METHOD FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
金めっき液および金めっき方法および半導体装置の製造方法および半導体装置 - 特許庁
COPPER PLATING HARDNESS MAINTAINING AGENT AND COPPER PLATING METHOD, AND GRAVURE PLATE AND LENS DIE USING THE METHOD例文帳に追加
銅めっき硬度維持剤及び銅めっき方法並びにそれを用いたグラビア版、レンズ金型 - 特許庁
PRETREATMENT METHOD TO ELECTROLESS TIN BASED PLATING, AND METHOD FOR PREVENTING ABNORMAL PRECIPITATION OF TIN BASED PLATING FILM例文帳に追加
無電解スズ系メッキの前処理方法、及びスズ系メッキ皮膜の異常析出防止方法 - 特許庁
ELECTROLESS PLATING METHOD AND WIRING CIRCUIT BOARD例文帳に追加
無電解めっき方法および配線回路基板 - 特許庁
To provide a metal plating method and an equipment which are superior in plating-position accuracy in a consecutive pattern-plating process on metal strip.例文帳に追加
金属条の連続部分メッキにおいて、メッキ位置精度に優れたメッキ方法及ぶ装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a porous body surface plating method for plating a surface of a porous body while suppressing formation of a plating film inside the porous body.例文帳に追加
多孔質体内部におけるめっき皮膜の形成を抑制しつつ、多孔質体の表面をめっきする。 - 特許庁
In the plating step, plating metal is formed on a surface of the wiring pattern 104 by an electrolytic plating method.例文帳に追加
めっき工程では、電解めっき法によって配線パターン104の表面にめっき金属を形成する。 - 特許庁
REFLOW TREATMENT METHOD FOR METAL PLATING MATERIAL, METAL PLATING MATERIAL, AND REFLOW TREATMENT DEVICE FOR METAL PLATING MATERIAL例文帳に追加
金属めっき材料のリフロー処理方法,金属めっき材料及び金属めっき材料のリフロー処理装置 - 特許庁
ELECTROLESS-PLATING SOLUTION USING THIOUREA, METHOD OF ELECTROLESS PLATING WITH THE SAME, AND OBJECT PLATED BY ELECTROLESS PLATING例文帳に追加
チオ尿素を使用した無電解メッキ液、及びこれを用いた無電解メッキ方法及び無電解メッキ被処理物 - 特許庁
ADDITIVE FOR COPPER PLATING, COPPER PLATING LIQUID USING THE ADDITIVE FOR COPPER PLATING AND COPPER ELECTROPLATING METHOD USING THE COPPER PLATING LIQUID例文帳に追加
銅めっき用添加剤及びその銅めっき用添加剤を用いた銅めっき液並びにその銅めっき液を用いた電気銅めっき方法 - 特許庁
The composite plating coating film is formed by executing an electroless plating method or electrolytic plating by using the plating soln., further heat treatment may be added as well.例文帳に追加
上記メッキ液を用いて無電解メッキ法や電解メッキを行って複合メッキ被膜を形成するが、さらに熱処理を付加しても良い。 - 特許庁
PRETREATMENT METHOD FOR PLATING AND SURFACE TREATMENT APPARATUS例文帳に追加
めっき前処理方法及び表面処理装置 - 特許庁
TIN-PLATING BATH, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加
スズめっき浴、及び電子部品の製造方法 - 特許庁
CIRCUIT BOARD AND METHOD FOR PARTIALLY PLATING CIRCUIT BOARD例文帳に追加
回路基板及び回路基板の部分メッキ方法 - 特許庁
NON-PLATING WIRE FOR ARC WELDING AND ARC WELDING METHOD例文帳に追加
アーク溶接用ノーメッキワイヤおよびアーク溶接法 - 特許庁
ELECTROLESS COPPER-PLATING SOLUTION, AND METHOD FOR MANAGING THE SAME例文帳に追加
無電解銅めっき液およびその管理方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING FILM CARRIER TAPE AND PLATING SYSTEM例文帳に追加
フィルムキャリアテープの製造方法およびメッキ装置 - 特許庁
METHOD FOR SUPPLYING CHROMIUM ION TO TRIVALENT CHROMIUM PLATING BATH例文帳に追加
3価クロムめっき浴へのクロムイオン補給方法 - 特許庁
METHOD FOR PLATING ELECTROLESS COMPOSITE NICKEL- PHOSPHORUS ALLOY例文帳に追加
無電解複合ニッケル−リン合金めっき方法 - 特許庁
PLATING EQUIPMENT, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
メッキ処理装置、半導体装置の製造方法 - 特許庁
PLATING FILM-FORMING APPARATUS AND CONTROL METHOD THEREOF例文帳に追加
めっき膜形成装置およびその制御方法 - 特許庁
SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD AND PLATING APPARATUS例文帳に追加
半導体装置の製造方法及びめっき装置 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF CONDUCTIVE ELECTROLESS PLATING POWDER例文帳に追加
導電性無電解めっき粉体の製造方法 - 特許庁
PLATING EQUIPMENT AND SN COMPONENT REPLENISHING METHOD例文帳に追加
めっき装置及びそのSn成分補給方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING SPARK PLUG AND PLATING REMOVAL DEVICE例文帳に追加
スパークプラグの製造方法、及び、メッキ除去装置 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR PLATING THROUGH-HOLE OF PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加
プリント基板のスルーホール・メッキ方法および装置 - 特許庁
TIN PLATING BATH AND PRODUCTION METHOD FOR ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加
スズめっき浴、及び電子部品の製造方法 - 特許庁
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