「SUSCEPTOR」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

A susceptor 50 for placing a wafer W is integrally constituted without splitting the susceptor 50 into parts.例文帳に追加

ウェハＷを載置するサセプタ５０を分割せずに一体的に構成する。 - 特許庁

APPARATUS FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR EPITAXIAL WAFER, SUSCEPTOR, AND APPARATUS FOR SUPPORTING SUSCEPTOR例文帳に追加

半導体エピタキシャルウェーハの製造装置およびサセプタ並びにサセプタの支持装置 - 特許庁

SUSCEPTOR AND SEMICONDUCTOR SUBSTRATE HEATING APPARATUS例文帳に追加

サセプタおよび半導体基板加熱装置 - 特許庁

SHEET-LIKE SUSCEPTOR SHAPE MEASURING APPARATUS例文帳に追加

枚葉状サセプター形状測定装置 - 特許庁

HEAT TREATMENT APPARATUS AND SUSCEPTOR THEREFOR例文帳に追加

熱処理装置および熱処理用サセプタ - 特許庁

SUSCEPTOR DEVICE AND VAPOR PHASE GROWTH APPARATUS例文帳に追加

サセプタ装置および気相成長装置 - 特許庁

SUSCEPTOR AND APPARATUS FOR MANUFACTURING EPITAXIAL WAFER例文帳に追加

サセプタおよびエピタキシャルウェハの製造装置 - 特許庁

SUSCEPTOR AND EPITAXIAL WAFER MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

サセプタ、およびエピタキシャルウェーハの製造方法 - 特許庁

THERMAL BATCH REACTOR WITH REMOVABLE SUSCEPTOR例文帳に追加

除去可能なサセプタを伴う熱バッチリアクタ - 特許庁

SUSCEPTOR FOR HEAT TREATMENT AND HEAT TREATMENT APPARATUS例文帳に追加

熱処理用サセプタおよび熱処理装置 - 特許庁

REDUCING ELECTROSTATIC CHARGE BY ROUGHENING SUSCEPTOR例文帳に追加

サセプタの粗面化による静電荷の削減 - 特許庁

SUSCEPTOR AND METHOD FOR GROWING SEED CRYSTAL例文帳に追加

サセプタおよび種結晶の成長方法 - 特許庁

SUSCEPTOR AND CHEMICAL VAPOR PHASE DEPOSITION METHOD例文帳に追加

サセプタおよび化学気相成長方法 - 特許庁

The support member 7 comes into contact with an outer peripheral portion of the susceptor 6 to support the susceptor 6.例文帳に追加

支持部材７は、サセプタ６の外周部に接触してサセプタ６を支持する。 - 特許庁

Thus, the self-weight of the susceptor is not loaded perpendicular to the main surface of the susceptor, but loaded in the extending direction of the main surface of the susceptor, and the susceptor is not deflected by its self-weight, and the susceptor excellent in flatness is manufactured.例文帳に追加

したがって、サセプタの自重は、サセプタの主表面に垂直に負荷されず、サセプタの主表面が延びる方向に負荷されるので、サセプタが自重で撓むことがなく、平坦度の優れたサセプタが製造される。 - 特許庁

The vapor phase growth system comprises a susceptor 1 having an inner susceptor 11, and an outer susceptor 12 interposing a gap P between itself and the inner susceptor 11 so as to accommodate the inner susceptor movable up and down.例文帳に追加

インナサセプタ１１と、このインナサセプタを相対的に昇降可能に収容すべく当該インナサセプタ１１との間に隙間Ｐが設けられたアウタサセプタ１２とを備えるサセプタ１を有して気相成長装置を構成する。 - 特許庁

A susceptor 2 composing the production apparatus is composed of a first susceptor 21 and a second susceptor 22, and, in a state where the first susceptor 21 and the second susceptor 22 are combined, a prescribed gap is formed between the susceptors 21, 22.例文帳に追加

製造装置を構成するサセプタ２は、第１サセプタ２１および第２サセプタ２２で構成され、第１サセプタ２１および第２サセプタ２２を組み合わせた状態で各サセプタ２１，２２間に所定の隙間が形成される。 - 特許庁

SUSCEPTOR FOR EPITAXIAL GROWTH AND METHDO FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

エピタキシャル用サセプターとその製造方法 - 特許庁

The susceptor includes a susceptor body 5, an inner circumferential gear 7 and a soaking member 9.例文帳に追加

当該サセプタは、サセプタ本体５と内周歯車７および均熱部材９とを含む。 - 特許庁

The susceptor 5 holds a semiconductor substrate 7.例文帳に追加

サセプタ５は半導体基板７を保持する。 - 特許庁

The susceptor 6 is ≤1.0 mm thick.例文帳に追加

サセプタ６の厚みは１．０ｍｍ以下である。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR-PROCESSING APPARATUS WITH ROTATING SUSCEPTOR例文帳に追加

回転サセプタを備える半導体処理装置 - 特許庁

SUSCEPTOR FOR USE IN HEAT TREATMENT, AND HEAT TREATMENT APPARATUS例文帳に追加

熱処理用サセプタおよび熱処理装置 - 特許庁

A wafer 10 is mounted on the susceptor 4.例文帳に追加

ウエーハ１０はサセプタ４の上に置かれる。 - 特許庁

CERAMIC SUSCEPTOR AND CLEANING METHOD THEREOF例文帳に追加

セラミック製サセプターおよびその洗浄方法 - 特許庁

CERAMIC ARC TUBE HAVING INTEGRAL SUSCEPTOR例文帳に追加

一体式サセプタを有するセラミック発光管 - 特許庁

The susceptor 4 contains an electric heater 5.例文帳に追加

サセプタ４は内部に電気ヒータ５を有する。 - 特許庁

At least a dummy susceptor DMY1 is further disposed at an upper stage of a susceptor 218H or at least a dummy susceptor DMY3 is further disposed at a lower stage of a susceptor 218L.例文帳に追加

本発明では、サセプタ２１８Ｈの上段にさらに、少なくとも、ダミーサセプタＤＭＹ１が配置され、または、サセプタ２１８Ｌの下段に、さらに、少なくとも、ダミーサセプタＤＭＹ３が配置されている。 - 特許庁

SUSCEPTOR AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加

サセプタおよび半導体ウェーハの製造方法 - 特許庁

PLASMA CVD APPARATUS HAVING NON-METAL SUSCEPTOR例文帳に追加

非金属サセプタを有するプラズマＣＶＤ装置 - 特許庁

The susceptor 2 has a communicative path 20 which communicates a space 223 formed between the substrate wafer W and susceptor 2 when the wafer W is placed on the susceptor 2 to the outside of the susceptor 2.例文帳に追加

このサセプタ２は、基板ウェーハＷが載置された際に基板ウェーハＷおよび該サセプタ２の間で形成される空間部２２３と該サセプタ２外部とを連通する連通路２０を有する。 - 特許庁

EPITAXIAL WAFER MANUFACTURING APPARATUS AND SUSCEPTOR STRUCTURE例文帳に追加

エピタキシャルウェーハ製造装置及びサセプタ構造 - 特許庁

SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS AND SUSCEPTOR USED FOR IT例文帳に追加

基板処理装置およびそれに用いるサセプタ - 特許庁

The susceptor 3 is disposed in a silica tube 2.例文帳に追加

サセプタ３は石英管２内に配置される。 - 特許庁

The susceptor is shifted up within the vacuum chamber.例文帳に追加

サセプタを真空チャンバ上部に移動させる。 - 特許庁

ELECTRODE CONTAINED SUSCEPTOR AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

電極内蔵型サセプタ及びその製造方法 - 特許庁

The adapter 35 is lowered furthermore and the susceptor 11 is freed from the adapter 35 and then the susceptor 11 is drawn out from the reaction tube 31 along with the susceptor 11.例文帳に追加

アダプタ１１をさらに降下させてサセプタ１１をアダプタ３５からフリーにし、ツィーザ２８ごとサセプタ１１を反応管３１内から抜き取る。 - 特許庁

SUSCEPTOR HEATER ASSEMBLY OF LARGE-AREA SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

大面積基板処理システムのサセプタ・ヒータアセンブリ - 特許庁

The susceptor has a structure in which the surface of a first susceptor part 1A is covered with a same material with the wafer 2 or a second susceptor part 5 having same specific heat.例文帳に追加

第一サセプタ部分１Ａの表面をウェハ２と同じ材質若しくは比熱の等しい第二サセプタ部分５で覆った構造とする。 - 特許庁

SUSCEPTOR AND CVD UNIT USING THE SAME例文帳に追加

サセプタ及びそのサセプタを用いたＣＶＤ装置 - 特許庁

SUSCEPTOR OF EQUIPMENT FOR GAS PHASE THIN FILM GROWTH AND EQUIPMENT FOR GAS PHASE THIN FILM GROWTH USING THE SUSCEPTOR例文帳に追加

気相薄膜成長装置のサセプタおよび該サセプタを用いた気相薄膜成長装置 - 特許庁

The susceptor failure detecting means 5 judges the existence of susceptor failure based on the compared result of the temperature.例文帳に追加

サセプタ異常判定手段５は、温度比較結果に基づいて、サセプタ異常の有無を判定する。 - 特許庁

SUSCEPTOR, AND METHOD OF PROCESSING WAFER USING SAME例文帳に追加

サセプタおよびこれを用いたウェハの処理方法 - 特許庁

MICROWAVE SUSCEPTOR FOR COOKING AND BAKING BROWN例文帳に追加

調理及び焦げ目付け用途用マイクロ波サセプタ - 特許庁

The semiconductor manufacturing device includes a rotatable susceptor 3 which holds the treated object, a frame 23 which is installed at an outer peripheral portion of the susceptor 3 and can rotate together with the susceptor 3, a susceptor support 21 which supports the frame 23, and a rack 22 where the susceptor support 21 is fixed.例文帳に追加

処理対象物を保持する、回転可能なサセプタ３と、サセプタ３の外周部に設置され、サセプタ３とともに回転可能なフレーム２３と、フレーム２３を支持するサセプタ支持部２１と、サセプタ支持部２１を固定する架台２２とを備えている。 - 特許庁