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Sputtering Methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2639件
SPUTTERING SOURCE, SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING METHOD例文帳に追加
スパッタ源、スパッタリング装置、及びスパッタリング方法 - 特許庁
SELF-SPUTTERING METHOD例文帳に追加
セルフスパッタリング方法 - 特許庁
SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
スパッタ成膜方法 - 特許庁
SPUTTERING SYSTEM AND SPUTTERING DEPOSITION METHOD例文帳に追加
スパッタ装置及びスパッタ成膜方法 - 特許庁
SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD, AND SPUTTERING SYSTEM例文帳に追加
スパッタ成膜方法およびスパッタ装置 - 特許庁
SPUTTERING SYSTEM AND SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
スパッタ装置及びスパッタ成膜方法 - 特許庁
SPUTTERING TARGET, SPUTTERING APPARATUS, SPUTTERING METHOD, AND MULTI-LAYERED FILM例文帳に追加
スパッターターゲット、スパッター装置、スパッター方法及び多層膜 - 特許庁
SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
スパッタリング成膜方法 - 特許庁
SPUTTERING SOURCE, SPUTTERING FILM DEPOSITION APPARATUS AND SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
スパッタ源、スパッタ成膜装置およびスパッタ成膜方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET, SPUTTERING TARGET, AND SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加
スパッタリングターゲットの製造方法、スパッタリングターゲット、スパッタリング装置 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS, AND MAGNETRON SPUTTERING METHOD例文帳に追加
マグネトロンスパッタ装置及びマグネトロンスパッタ方法 - 特許庁
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