「Sputtering Method」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

TANTALUM PALLADIUM SPUTTERING TARGET AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

タンタルパラジウムスパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

FLUORIDE SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

フッ化物スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

ITO SPUTTERING TARGET AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

ＩＴＯスパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING METAL OXIDE FILM BY SPUTTERING例文帳に追加

スパッタ法による金属酸化膜の成膜方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, PHASE SHIFT MASK BLANK USING THIS SPUTTERING TARGET, AND METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

スパッタターゲット、該スパッタターゲットを用いた位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁

To provide a method of welding sputtering target tiles to form a large sputtering target and a target assembly.例文帳に追加

スパッタターゲットタイルを溶接して、大型スパッタターゲット及びターゲットアセンブリを提供する。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, PHASE SHIFT MASK BLANK USING THE SPUTTERING TARGET AND METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

スパッタターゲット、該スパッタターゲットを用いた位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering apparatus of high use efficiency of a target and a magnetron sputtering method.例文帳に追加

ターゲットの使用効率の高いマグネトロンスパッタ装置及びマグネトロンスパッタ方法を実現する。 - 特許庁

INORGANIC MEMBRANE, ITS MANUFACTURING METHOD, PIEZOELECTRIC ELEMENT, LIQUID DISCHARGER, SPUTTERING TARGET, AND SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

無機膜とその製造方法、圧電素子、液体吐出装置、スパッタリングターゲット、及びスパッタリング装置 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING Cu-Ga ALLOY SPUTTERING TARGET AND Cu-Ga ALLOY SPUTTERING TARGET例文帳に追加

Ｃｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲットの製造方法及びＣｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲット - 特許庁

Cu-Ga ALLOY SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING Cu-Ga ALLOY SPUTTERING TARGET例文帳に追加

Ｃｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲット及びＣｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

FERROMAGNETIC SPUTTERING TARGET, MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM, AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

強磁性体スパッタリングターゲット、マグネトロンスパッタリング装置、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

Ir SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR FORMING THIN FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING Ir SPUTTERING TARGET例文帳に追加

薄膜形成用Ｉｒスパッタリングターゲット材およびＩｒスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, AND PRODUCTION METHOD AND REGENERATION METHOD THEREFOR例文帳に追加

スパッタリング用ターゲット、並びに、その製造方法及び再生方法 - 特許庁

COPPER FILM PRODUCTION METHOD, AND SPUTTERING DEVICE USED FOR THE METHOD例文帳に追加

銅薄膜製造方法、及びその方法に用いるスパッタ装置 - 特許庁

MOLD, PLATE-SHAPED SINTERED BODY, METHOD FOR PRODUCING THE SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET例文帳に追加

成形型、板状焼結体及びその製造方法、並びにスパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET AND METHOD OF MAKING ORGANIC THIN FILM例文帳に追加

スパッタリングターゲットおよび有機薄膜の作製方法 - 特許庁

To provide a method for producing a sputtering target material with which magnetic permeability used in a magnetron sputtering method is reduced.例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング法に用いる透磁率の低減したスパッタリングターゲット材の製造方法の提供。 - 特許庁

SPUTTERING APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DEVICE例文帳に追加

スパッタリング装置、及び液晶装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING Al-BASE TARGET MATERIAL FOR SPUTTERING例文帳に追加

Ａｌ系スパッタリング用タ−ゲット材の製造方法 - 特許庁

NICKEL ALLOY SPUTTERING TARGET AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

ニッケル合金スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

スパッタリング装置および半導体装置製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, PRODUCTION METHOD THEREFOR AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

スパッタリングターゲット、その製造方法および電子部品 - 特許庁

OXIDE SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

酸化物スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING DEVICE, SPUTTERING METHOD, MANUFACTURING DEVICE OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE ELEMENT, AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE ELEMENT例文帳に追加

スパッタ装置、スパッタ方法、有機ＥＬ発光素子の製造装置および有機ＥＬ発光素子の製造方法 - 特許庁

REACTIVE SPUTTERING FILM-FORMING METHOD AND FILM-FORMING APPARATUS例文帳に追加

反応性スパッタ成膜方法及び成膜装置 - 特許庁

SINTERED SPUTTERING TARGET MATERIAL AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

焼結スパッタリングターゲット材およびその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING Al-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL例文帳に追加

Ａｌ基合金スパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁

SPUTTERING SYSTEM AND METHOD FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

スパッタ装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR DETERMINING EROSION AREA OF SPUTTERING TARGET例文帳に追加

スパッタリング用ターゲットのエロージョン領域決定方法 - 特許庁

MANGANESE-ALLOY SPUTTERING TARGET AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

マンガン合金スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

The gas barrier layer 27 is then formed by a sputtering method.例文帳に追加

その後、スパッタ法でガスバリア層２７を形成する。 - 特許庁

CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

円筒形スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

Cu-Ga ALLOY, SPUTTERING TARGET, METHOD FOR PRODUCING THE Cu-Ga ALLOY, AND METHOD FOR PRODUCING THE SPUTTERING TARGET例文帳に追加

Ｃｕ−Ｇａ合金、スパッタリングターゲット、Ｃｕ−Ｇａ合金の製造方法、スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

TUNGSTEN TARGET FOR SPUTTERING AND ITS PRODUCING METHOD例文帳に追加

スッパタリング用タングステンターゲット及びその製造方法 - 特許庁

ECR SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR FORMING MULTILAYER FILM例文帳に追加

ＥＣＲスパッタ装置および多層膜形成方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING ZnS-SiO2 SPUTTERING TARGET例文帳に追加

ＺｎＳ−ＳｉＯ２スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

FILM DEPOSITION METHOD, AND SPUTTERING DEVICE FOR FILM DEPOSITION例文帳に追加

成膜方法および成膜のためのスパッタ装置 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING FECOB-BASED SPUTTERING TARGET MATERIAL例文帳に追加

ＦｅＣｏＢ系スパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁

As covering method, physical vapor deposition method by-sputtering method is suitable.例文帳に追加

被覆方法としては、スパッタリング法による物理蒸着法が適している。 - 特許庁

MASK FOR USE IN FORMING FILM BY SPUTTERING, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

スパッタリング成膜用マスク及びその製造方法 - 特許庁

METAL SILICIDE SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

金属シリサイドスパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

SnO2-BASED SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

ＳｎＯ２系スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

MAGNETRON SPUTTERING DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

マグネトロンスパッタ装置及び電子部品の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING Mg-CONTAINING ITO SPUTTERING TARGET例文帳に追加

Ｍｇ含有ＩＴＯスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁