「Sputtering Method」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

SPLIT TARGET DEVICE FOR SPUTTERING AND SPUTTERING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

スパッタリング用分割ターゲット装置、及びそれを利用したスパッタリング方法 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering system, and to provide a magnetron sputtering method.例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング装置及びそのマグネトロンスパッタリング方法を提供する。 - 特許庁

MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM, AND METHOD OF THIN FILM DEPOSITION BY MAGNETRON SPUTTERING例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング装置およびマグネトロンスパッタリングによる薄膜形成方法 - 特許庁

RUTHENIUM TARGET FOR SPUTTERING, AND METHOD OF PRODUCING RUTHENIUM TARGET FOR SPUTTERING例文帳に追加

スパッタリング用ルテニウムターゲット及びスパッタリング用ルテニウムターゲットの製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, JOINT TYPE SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

スパッタリングターゲット、並びに接合型スパッタリングターゲット及びその作製方法 - 特許庁

SPLIT TARGET DEVICE FOR SPUTTERING AND SPUTTERING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

スパッタリング用分割ターゲット装置及びそれを利用したスパッタリング方法 - 特許庁

ION-BEAM SPUTTERING APPARATUS AND ION-BEAM SPUTTERING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

イオンビームスパッタリング装置および該装置を用いたイオンビームスパッタリング方法 - 特許庁

MAGNETRON SPUTTERING CATHODE, MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING MAGNETIC DEVICE例文帳に追加

マグネトロンスパッタカソード、マグネトロンスパッタ装置及び磁性デバイスの製造方法 - 特許庁

FLUORIDE THIN FILM DEPOSITION METHOD, AND SPUTTERING METHOD例文帳に追加

フッ化物薄膜形成方法及びスパッタリング方法 - 特許庁

SPUTTERING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING PHOTOVOLTAIC ELEMENT例文帳に追加

スパッタリング方法及び光発電素子の製造方法 - 特許庁

ION IMPLANTATION METHOD USING SPUTTERING METHOD, AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加

スパッタ法を用いたイオン注入法及びその装置 - 特許庁

ECR SPUTTERING APPARATUS AND FILM-FORMING METHOD例文帳に追加

ＥＣＲスパッタ装置、および成膜方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR FORMING FILM BY SPUTTERING例文帳に追加

スパッタリングによる成膜方法とその装置 - 特許庁

RUTHENIUM SPUTTERING TARGET, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

ルテニウムスパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁

TITANIUM SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

チタンスパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING APPARATUS, SPUTTERING METHOD AND PROGRAM FOR MAKING COMPUTER PERFORM THE METHOD例文帳に追加

スパッタリング装置、スパッタリング方法及びこの方法をコンピュータに実行させるためのプログラム - 特許庁

TANTALUM SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

タンタルスパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

FILM DEPOSITION METHOD, SPUTTERING SYSTEM, SPUTTERING TARGET, AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENT APPARATUS例文帳に追加

成膜方法、スパッタリング装置、スパッタリングターゲットおよび有機電界発光装置の製造方法 - 特許庁

The protective film is produced by a sputtering method.例文帳に追加

該保護膜は、スパッタリング法で製造される。 - 特許庁

REACTIVE SPUTTERING METHOD, AND FILM DEPOSITION APPARATUS THEREFOR例文帳に追加

反応性スパッタリング法とその成膜装置 - 特許庁

SPUTTERING TARGET MATERIAL AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

スパッタリングターゲット材およびその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

スパッタリング用ターゲット及びその製造方法 - 特許庁

SUBSTRATE FOR SPUTTERING AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

スパッタリング用基板およびその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD AND ANTIREFLECTION FILM例文帳に追加

スパッタ成膜方法及び反射防止膜 - 特許庁

SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING METHOD, AND DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加

スパッタリング装置及びスパッタリング方法、プラズマディスプレイパネルの製造装置及び製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING TUNGSTEN TARGET FOR SPUTTERING例文帳に追加

スパッタリング用タングステンターゲットの製造方法 - 特許庁

REACTIVE SPUTTERING METHOD AND OPTICAL MEMBER例文帳に追加

反応性スパッタリング方法及び光学部材 - 特許庁

SPUTTERING SYSTEM, METHOD FOR FORMING THIN FILM BY SPUTTERING, AND METHOD FOR MANUFACTURING DISK-SHAPED RECORDING MEDIUM USING THE SPUTTERING SYSTEM例文帳に追加

スパッタリング装置、スパッタリングによる薄膜形成方法および当該装置を用いたディスク状記録媒体の製造方法 - 特許庁

To provide a self-sputtering method capable of stable shift to self- sputtering.例文帳に追加

セルフスパッタリングへ安定して移行可能なセルフスパッタリング方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR CONTROLLING REACTIVE SPUTTERING AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

反応性スパッタリングの制御方法及び成膜方法 - 特許庁

SPUTTERING FILM-FORMING APPARATUS AND FILM-FORMING METHOD例文帳に追加

スパッタリング成膜装置及び成膜方法 - 特許庁

FORMING METHOD OF FORMED BODY FOR SPUTTERING TARGET例文帳に追加

スパッタリングターゲット用成型体の成型方法 - 特許庁

Respective layers are formed by a sputtering method.例文帳に追加

各めっき層ともスパッタリング法で形成する。 - 特許庁

Nb SPUTTERING TARGET, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加

Ｎｂスパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF OPTICAL DISK AND SPUTTERING DEVICE例文帳に追加

光ディスクの製造方法及びスパッタ装置 - 特許庁

SPUTTERING SOURCE, FILM-FORMING APPARATUS AND FILM-FORMING METHOD例文帳に追加

スパッタ源、成膜装置及び成膜方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET OF ZnO AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

ＺｎＯスパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD AND PLASMA PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

スパッタ成膜方法及びプラズマ処理装置 - 特許庁

THIN FILM MANUFACTURING METHOD AND SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

薄膜の製造方法およびスパッタリング装置 - 特許庁

VACUUM SPUTTERING APPARATUS AND VAPOR DEPOSITION METHOD THEREFOR例文帳に追加

真空スパッタリング装置とその蒸着方法 - 特許庁

Ta SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

Ｔａスパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

TANTALUM SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF例文帳に追加

タンタルスパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

FILM-FORMING METHOD BY GAS-FLOW SPUTTERING AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加

ガスフロースパッタリング成膜方法及び装置 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL DISK, AND SPUTTERING SYSTEM例文帳に追加

光ディスクの製造方法及びスパッタ装置 - 特許庁

COATING APPARATUS AND SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

コーティング装置およびスパッタリング成膜方法 - 特許庁