「Sputtering Method」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

METHOD OF MANUFACTURING IRON SILICIDE SPUTTERING TARGET AND IRON SILICIDE SPUTTERING TARGET例文帳に追加

珪化鉄スパッタリングターゲットの製造方法及び珪化鉄スパッタリングターゲット - 特許庁

REACTIVE SPUTTERING METHOD AND DEVICE THEREFOR例文帳に追加

反応性スパッタリング方法とその装置 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING TARGET MATERIAL FOR SPUTTERING例文帳に追加

スパッタリング用ターゲット材の製造方法 - 特許庁

SPUTTERING SYSTEM AND THIN FILM FORMATION METHOD例文帳に追加

スパッタ装置及び薄膜形成方法 - 特許庁

JOINING METHOD OF TARGET PLATE FOR SPUTTERING例文帳に追加

スパッタリング用ターゲット板の接合方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET AND METHOD OF GRINDING例文帳に追加

スパッタリングターゲット及びその研削方法 - 特許庁

SPUTTERING APPARATUS AND MAINTENANCE METHOD THEREFOR例文帳に追加

スパッタリング装置及びそのメンテナンス方法 - 特許庁

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR USING THE SAME例文帳に追加

スパッタリング装置及びその使用方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING STAMPER, AND SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

スタンパの製造方法及びスパッタ装置 - 特許庁

METHOD FOR INSPECTING TARGET MATERIAL FOR SPUTTERING, AND METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET例文帳に追加

スパッタリング用ターゲット材料の検査方法及びスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

SPUTTERING APPARATUS AND THIN FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

スパッタ装置及び薄膜形成方法 - 特許庁

METHOD AND EQUIPMENT FOR REACTIVE SPUTTERING例文帳に追加

反応性スパッタリング方法とその装置 - 特許庁

SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF例文帳に追加

スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加

スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

スパッタリング用ターゲットとその製造方法 - 特許庁

INLINE TYPE SPUTTERING METHOD AND DEVICE例文帳に追加

インライン型スパッタリング方法および装置 - 特許庁

SPUTTERING TARGET AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF IZO SPUTTERING TARGET例文帳に追加

ＩＺＯスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

METHOD OF SPUTTERING CHROMIUM FOR BLACK MATRIX例文帳に追加

ブラックマトリクス用クロムのスパッタリング方法 - 特許庁

SPUTTERING METHOD, SPUTTERING APPARATUS, PIEZOELECTRIC ELEMENT MANUFACTURING METHOD, AND LIQUID SPRAY HEAD例文帳に追加

スパッタリング方法、スパッタリング装置、圧電素子の製造方法及び液体噴射ヘッド - 特許庁

METHOD FOR SPUTTERING AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL DISK例文帳に追加

スパッタリング方法及び光ディスクの製造方法 - 特許庁

ITO SINTERED COMPACT, SPUTTERING TARGET MATERIAL, SPUTTERING TARGET, AND MANUFACTURING METHOD OF SPUTTERING TARGET MATERIAL例文帳に追加

ＩＴＯ焼結体、スパッタリングターゲット材、スパッタリングターゲット、ならびにスパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁

SPUTTERING APPARATUS, AND METHOD FOR SPUTTERING MATERIAL FROM TARGET ONTO SUBSTRATE VIA SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

スパッタリング装置、およびスパッタリング装置を介してターゲットから基板上へ材料をスパッタリングする方法 - 特許庁

The selective patterning method includes a DC heating evaporation method, an ion beam evaporation method, a reactive ion beam evaporation method, a two-pole sputtering method, a magnetron sputtering method, a reactive sputtering method, a three-pole sputtering method, an ion beam sputtering method, an ion plating method, a hollow cathode beam method, an ion beam injection method and a plasma CVD method and the like.例文帳に追加

選択的パターニング方法は、直流加熱蒸着法、イオンビーム蒸着法、反応性イオンビーム蒸着法、２極スパッタ法、マグネトロンスパッタ法、反応性スパッタ法、３極スパッタ法、イオンビームスパッタ法、イオンプレーティング法、ホローカソードビーム法、イオンビーム注入法及びプラズマＣＶＤ法などである。 - 特許庁

To provide a sputtering target capable of improving the using efficiency of a conductive target at a sputtering process, a sputtering chamber including the sputtering target and a sputtering method.例文帳に追加

スパッタ工程において導電性ターゲットの使用効率を向上できるスパッタリング用ターゲットとこれを含むスパッタチャンバー及びスパッタリング方法を提供する。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

FILM DEPOSITION APPARATUS, AND REVERSE SPUTTERING METHOD例文帳に追加

成膜装置および逆スパッタリング方法 - 特許庁

FILM FORMING METHOD BY SPUTTERING, AND ITS DEVICE例文帳に追加

スパッタによる成膜方法とその装置 - 特許庁

SPUTTERING DEVICE AND THIN FILM FORMING METHOD例文帳に追加

スパッタリング装置及び薄膜形成方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET例文帳に追加

円筒形スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR CONTROLLING THE SAME例文帳に追加

スパッタリング装置およびその制御方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING INGOT FOR SPUTTERING TARGET例文帳に追加

スパッタリングターゲット用インゴットの製造方法 - 特許庁

UNBALANCED MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM AND METHOD例文帳に追加

アンバランスドマグネトロンスパッタリング装置及び方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET例文帳に追加

円筒形スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION METHOD OF THE SAME例文帳に追加

スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING Ru SPUTTERING TARGET MATERIAL例文帳に追加

Ｒｕスパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR PREPARING ALRu SPUTTERING TARGET例文帳に追加

ＡｌＲｕスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

MAGNETRON SPUTTERING DEPOSITION DEVICE AND METHOD例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング成膜装置及び方法 - 特許庁

SPUTTERING SYSTEM AND THIN FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

スパッタリング装置及び薄膜製造方法 - 特許庁

METHOD OF PRODUCING Co BASED SPUTTERING TARGET例文帳に追加

Ｃｏ系スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁