「Sputtering Method」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR SPUTTERING TO DEPOSIT CHALCOGEN COMPOUND, AND METHOD FOR FABRICATING PHASE-CHANGEABLE MEMORY DEVICE EMPLOYING THE SAME例文帳に追加

スパッタリング装置とカルコゲン化合物スパッタリング蒸着方法、およびこれを利用した相変化記憶素子形成方法 - 特許庁

BARIUM TANTALATE BASED SPUTTERING TARGET MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

タンタル酸バリウム系スパッタリングターゲット材とその製造方法。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, SPUTTERING DEVICE AND COLLIMATING PLATE例文帳に追加

半導体装置の製造方法、スパッタ装置及びコリメート板 - 特許庁

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET MATERIAL OF STRONTIUM RUTHENATE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

ルテニウム酸ストロンチウムスパッタリングターゲット材とその製造方法 - 特許庁

Ru-Pd-BASED SPUTTERING TARGET AND METHOD OF PRODUCING THE SAME例文帳に追加

Ｒｕ−Ｐｄ系スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR REFINING STRUCTURE OF Al SERIES TARGET MATERIAL FOR SPUTTERING例文帳に追加

Ａｌ系スパッタリング用タ−ゲット材の組織微細化方法 - 特許庁

Al-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

Ａｌ基合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, AND MASK BLANK MANUFACTURING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

スパッタリングターゲット及びこれを用いたマスクブランクの製造方法 - 特許庁

Pd-W BASED SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

Ｐｄ−Ｗ系スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

To provide a sputtering target which enables the satisfactory production of a Na-supplemented Cu-Ga film by means of a sputtering method, and a process for producing the sputtering target.例文帳に追加

スパッタ法により良好にＮａ添加されたＣｕ−Ｇａ膜を成膜可能なスパッタリングターゲット及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR REFLECTING FILM OF OPTICAL RECORDING MEDIUM, AND REFLECTING FILM MADE BY SPUTTERING METHOD USING IT例文帳に追加

光学記録媒体の反射膜用スパッタリングターゲット材及びそれを用いたスパッタ法による反射膜 - 特許庁

To provide a sputtering device and a sputtering method, which can improve utilization efficiency of a target.例文帳に追加

ターゲットの利用効率を向上させることができるスパッタ装置およびスパッタ方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a sputtering apparatus and a method of manufacturing a flat display device using the sputtering apparatus.例文帳に追加

スパッタリング装置及びスパッタリング装置を使用した平板表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, BACKING PLATE OR INSTRUMENT IN SPUTTERING DEVICE WITH LESS PARTICLE GENERATION, AND ROUGHENING METHOD例文帳に追加

パーティクル発生の少ないスパッタリングターゲット、バッキングプレート又はスパッタリング装置内の機器及び粗化方法 - 特許庁

Fe-Co ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL, AND METHOD FOR MANUFACTURING Fe-Co ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL例文帳に追加

Ｆｅ−Ｃｏ系合金スパッタリングターゲット材およびＦｅ−Ｃｏ系合金スパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁

To provide a sputtering apparatus and a sputtering method which can efficiently cool a workpiece with a simple constitution.例文帳に追加

簡易な構成で、被処理物を効率良く冷却できるスパッタリング装置及び方法を提供する。 - 特許庁

By the use of the sputtering target 14, the amorphous transparent conductive film is formed by a sputtering method.例文帳に追加

このスパッタリングターゲット１４を用いて、スパッタリング法によって非晶質透明導電膜を成膜する。 - 特許庁

To provide a method for reducing the permeability of a target material by the magnetron sputtering method.例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング法のターゲット材の透磁率の低減方法の提供。 - 特許庁

The diamond-like carbon layer 38 is formed by the CVD method or sputtering method.例文帳に追加

ダイアモンドライクカーボン層３８はＣＶＤ法やスパッタ法により形成される。 - 特許庁

PROCESSING METHOD OF COPPER OR COPPER ALLOY AND METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET例文帳に追加

銅または銅合金の加工方法およびスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

PULSED DIRECT-CURRENT SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD AND FILM DEPOSITION APPARATUS FOR THE METHOD例文帳に追加

パルス状直流スパッタ成膜方法及び該方法のための成膜装置 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET, METHOD FOR MANUFACTURING STAMPER, AND METHOD FOR MANUFACTURING MOLDED PRODUCT例文帳に追加

スパッタリング用ターゲットの製造方法、スタンパの製造方法、成形品の製造方法 - 特許庁

To provide an organic light emitting display and a deposition method for depositing an electrode or a passivation layer by means of a box cathode sputtering method or a facing target sputtering method by mixing Ar with an inert gas heavier than Ar.例文帳に追加

Ａｒよりさらに重い非活性ガスをＡｒと混合してボックスカソードスパッタリング(Box Cathode Sputtering)あるいは対向ターゲットスパッタリング（Facing Target Sputtering法で電極またはペッシベーション層を蒸着させた有機発光表示装置及び蒸着方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING SOLID PHASE DIFFUSION-JOINED SPUTTERING TARGET ASSEMBLY例文帳に追加

固相拡散接合スパッタリングターゲット組立て体の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT, AND SPUTTERING DEPOSITION EQUIPMENT例文帳に追加

半導体発光素子の製造方法およびスパッタ成膜装置 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR FORMING TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

透明導電膜用スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET OF HIGH MELTING POINT METAL, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

高融点金属スパッタリング用ターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

METAL MOLD RELEASING TREATMENT METHOD BY RF BIAS ECR SPUTTERING例文帳に追加

ＲＦバイアス式ＥＣＲスパッタリング金型離型処理方法 - 特許庁

OPTICAL RECORDING MEDIUM, ITS MANUFACTURING METHOD, AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

光記録媒体およびその製造方法ならびにスパッタリングターゲット - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR MANUFACTURING OPTICAL THIN FILM BY SPUTTERING例文帳に追加

スパッタリングによる光学薄膜の製造方法及び製造装置 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, THIN-FILM-FORMING APPARATUS AND THIN-FILM-FORMING METHOD例文帳に追加

スパッタ用ターゲット，薄膜形成装置及び薄膜形成方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, AND METHOD OF PRODUCING OXIDE FILM USING THE SAME例文帳に追加

スパッタリングターゲットおよびそれを用いた酸化膜の製造方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR JOINING SPUTTERING TARGET AND SUPPORTING BOARD THEREFOR例文帳に追加

スパッタリング用ターゲットとその支持板との接合方法及び装置 - 特許庁

DIFFUSION-JOINED SPUTTERING TARGET ASSEMBLY AND ITS PRODUCING METHOD例文帳に追加

拡散接合スパッタリングターゲット組立て体及びその製造方法 - 特許庁

MAGNETRON SPUTTERING SOURCE, SPUTTER-COATING SYSTEM AND METHOD FOR COATING SUBSTRATE例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング源、スパッタコーティング装置、及び基板コーティング方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, AND METHOD OF FORMING THIN FILM USING THE TARGET例文帳に追加

スパッタリングターゲットおよび該ターゲットを用いた薄膜の形成方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR FORMING MAGNETIC RECORDING FILM, AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

磁気記録膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

MAGNET UNIT FOR MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM, AND MAGNET ATTACHING/DETACHING METHOD例文帳に追加

マグネトロンスパッタ装置用磁石ユニット及び磁石着脱方法 - 特許庁

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR PRODUCING TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング装置および透明導電膜の製造方法 - 特許庁

BACKING PLATE, SPUTTERING TARGET-BACKING PLATE ASSEMBLY, METHOD FOR JOINING SPUTTERING TARGET AND BACKING PLATE, AND METHOD OF SPUTTER FILM DEPOSITION例文帳に追加

バッキングプレート、スパッタリングターゲット−バッキングプレート組立体、スパッタリングターゲットとバッキングプレートの接合方法及びスパッタリング成膜方法 - 特許庁

FIELD EFFECT TRANSISTOR, MANUFACTURING METHOD OF THE SAME AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

電界効果型トランジスタ、その製造方法及びスパッタリングターゲット - 特許庁

TRANSPARENT INSULATION FILM AND PRODUCTION METHOD THEREOF, AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

透明絶縁膜及びその製造方法、並びにスパッタリングターゲット - 特許庁

SPUTTERING TARGET, SILVER ALLOY FILM, AND METHOD FOR PRODUCING THE FILM例文帳に追加

スパッタリングターゲット並びにＡｇ合金膜及びその製造方法 - 特許庁

ECR SPUTTERING APPARATUS, AND TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

ＥＣＲスパッタリング装置及び透明導電膜の製造方法 - 特許庁