「Sputtering Method」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

MANUFACTURING METHOD OF Cu-In-Ga TERNARY SINTERED ALLOY SPUTTERING TARGET例文帳に追加

Ｃｕ−Ｉｎ−Ｇａ三元系焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING DIELECTRIC THIN FILM AND HIGH-FREQUENCY MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

誘電体薄膜の形成方法および高周波マグネトロンスパッタリング装置 - 特許庁

CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET, CERAMIC SINTERED COMPACT AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加

円筒形スパッタリングターゲット並びにセラミックス焼結体及びその製造方法 - 特許庁

FILM FORMING METHOD OF SHIELD FILM BY SPUTTERING AND FORMED SHIELD FILM例文帳に追加

スパッタリング法によるシールド膜の成膜方法及び成膜されたシールド膜 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR MODULATING POWER SIGNALS TO CONTROL SPUTTERING例文帳に追加

電力信号を変調してスパッタリングを制御するためのシステムおよび方法 - 特許庁

IN-GA-ZN OXIDE SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING SAME例文帳に追加

Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ系酸化物スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

FILM FORMING METHOD OF HEATER FOR LIMITING CURRENT TYPE OXYGEN SENSOR, AND MASK FOR SPUTTERING例文帳に追加

限界電流式酸素センサ用ヒータの成膜方法及びスパッタ用マスク - 特許庁

To provide a sputtering film-forming method that can improve film thickness distribution in a reactive sputtering method that uses a metal target, and to provide a film-forming apparatus.例文帳に追加

金属ターゲットを用いた反応性スパッタ法において、膜厚分布を向上させることが可能なスパッタ成膜方法及び成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide sputtering device and method high in productivity and working rate.例文帳に追加

生産性が高く、稼働率の高いスパッタ装置及び方法を提供する。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, AND OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法 - 特許庁

To provide a deposition method and sputtering system for well executing deposition of copper, more preferably embedment thereof into holes, etc., by using a sputtering method.例文帳に追加

スパッタリング法を用いての銅の成膜、特にホール等への埋込みを良好に行うための成膜方法及びスパッタリング装置を提供することにある。 - 特許庁

PRESSURE-SENSITIVE ADHESIVE SHEET AND TAPE FOR MASKING, AND METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET例文帳に追加

マスキング用粘着シートおよびテープならびにスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR FORMING FILM OF OPTOMAGNETIC RECORDING MEDIUM, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

光磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

PRODUCTION METHOD OF TITANIUM OXIDE TARGET EXCELLENT IN STRENGTH AND RESISTANCE TO CRACK AT SPUTTERING例文帳に追加

強度および耐スパッタ割れ性に優れた酸化チタンターゲットの製造方法 - 特許庁

An insulating film is formed by a DC sputtering method or a DC pulse sputtering method, using an oxide target comprising a gallium oxide (also referred to as GaOx ).例文帳に追加

酸化ガリウム（ＧａＯｘとも表記する）からなる酸化物ターゲットを用いて、ＤＣスパッタリング法、またはＤＣパルススパッタ方式により絶縁膜を形成する。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET MATERIAL, SILICON-CONTAINING FILM FORMING METHOD, AND PHOTOMASK BLANK例文帳に追加

スパッタリング用ターゲット材、珪素含有膜の成膜方法、およびフォトマスクブランク - 特許庁

METALLIC MATERIAL HAVING MAGNESIUM COMPOUND FILM, TARGET MEMBER FOR SPUTTERING, METHOD OF PRODUCING TARGET MEMBER FOR SPUTTERING, AND METHOD OF FORMING MAGNESIUM COMPOUND FILM例文帳に追加

マグネシウム化合物被膜を有する金属材料、スパッタリング用ターゲット部材、スパッタリング用ターゲット部材の製造方法およびマグネシウム化合物被膜の形成方法 - 特許庁

TIN OXIDE POWDER FOR ITO SPUTTERING TARGET, PRODUCTION METHOD OF THE POWDER, SINTERED BODY SPUTTERING TARGET FOR ITO FILM FORMATION AND PRODUCTION METHOD OF THE TARGET例文帳に追加

ＩＴＯスパッタリングターゲット用酸化錫粉末、同粉末の製造方法、ＩＴＯ膜形成用焼結体スパッタリングターゲット及び同ターゲットの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING Mn-Ir ALLOY SPUTTERING TARGET FOR FORMING MAGNETIC THIN FILM例文帳に追加

磁性薄膜形成用Ｍｎ−Ｉｒ合金スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING DIELECTRIC OXIDE FILM AND DUAL-CATHODE MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

酸化物誘電体膜の製造方法とデユアルカソードマグネトロンスパッタリング装置 - 特許庁

An orientation control film 3 is formed on an alumina film 2 by a sputtering method.例文帳に追加

スパッタリング法によりアルミナ膜２上に配向制御膜３を形成する。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND SPUTTERING APPARATUS FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体装置の製造方法および半導体装置製造用スパッタ装置 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR ELEMENT, AND Ta MATERIAL FOR MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

半導体素子の製造方法およびマグネトロンスパッタリング装置用Ｔａ材 - 特許庁

HOLDING APPARATUS, ASSEMBLING SYSTEM, SPUTTERING APPARATUS, MACHINING METHOD AND MACHINING APPARATUS例文帳に追加

保持装置、組立てシステム、スパッタリング装置、並びに加工方法及び加工装置 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a sputtering target with fine crystal grains.例文帳に追加

微細な結晶粒を有するスパッタリングターゲットの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a target for sputtering in which the need of grinding the electric field concentrated place in a target for sputtering by press sputtering is eliminated, and, thus, particles are hardly generated in a sputtering chamber and to provide a method for transporting it.例文帳に追加

スパッタリング用ターゲットの電界集中箇所をプレスパッタリングにて削り取る必要をなくし、その結果スパッタチャンバー内にパーティクルがほとんど発生しないようにしたスパッタリング用ターゲットとその輸送方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a sputtering target for producing a transparent electrically conductive thin film where the strength of a sputtering target can be improved, the cracking of the sputtering target is not caused, and the sputtering target of high density can be produced.例文帳に追加

スパッタリングターゲットの強度を向上させることができ、スパッタリングターゲットの割れがなく、高密度のスパッタリングターゲットを製造することが可能な透明導電性薄膜製造用スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing an ingot for a sputtering target, which inhibits the production of a new defective mode (huge dust and large cavity) occurring when a target is sputtered in a new sputtering system such as long slow sputtering and reflow sputtering.例文帳に追加

ロングスロースパッタやリフロースパッタ等の新スパッタ方式でスパッタリングした際に発生する新たな不良モード（巨大ダストや大きな凹部）の発生を抑制することを可能にしたスパッタリングターゲット用インゴットの製造方法を提供する。 - 特許庁

For the thin film formation method, a sputtering method, a vacuum evaporation method, a CVD method, a laser ablation method, or the like may be used.例文帳に追加

薄膜形成方法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、レーザアブレーション法などの方法を用いることができる。 - 特許庁

To provide a sputtering target which suppresses the generation of nodules when a transparent conductive film is formed by sputtering method thereby attaining the stable deposition of the film, and to provide a process for producing the sputtering target.例文帳に追加

スパッタリング法による透明導電膜の製膜時のノジュールの発生を抑止して安定性よく製膜することのできるスパッタリングターゲットおよびその製造法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the alloy film including the first material and the second material, comprises a step of rotating the sputtering target 10, and a step of sputtering while rotating the sputtering target 10.例文帳に追加

スパッタターゲット１０を回転させるステップと、スパッタターゲット１０を回転させながら、スパッタリングするステップとにより第１の材料と第２の材料とを含む合金膜を製造する。 - 特許庁

SPUTTERING SYSTEM, TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM DEPOSITION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT例文帳に追加

スパッタリング装置及び透明導電膜形成方法並びに有機電界発光素子の製造方法 - 特許庁

ZINC OXIDE SINTERED COMPACT, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR MANUFACTURING TRANSPARENT FILM例文帳に追加

酸化亜鉛焼結体、その製造方法、スパッタリングターゲット及び透明性膜の製造方法 - 特許庁

METHOD OF PRODUCING SINTERED COMPACT, GaSb BASED ALLOY SPUTTERING TARGET, AND METHOD OF PRODUCING THE SAME例文帳に追加

焼結体の製造方法、および、ＧａＳｂ系合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

MASTER INFORMATION CARRIER, MANUFACTURING METHOD OF MAGNETIC DISK AND MANUFACTURING METHOD OF SPUTTERING TARGET AND MASTER INFORMATION CARRIER例文帳に追加

マスター情報担体、磁気ディスクの製造方法、スパッタターゲットおよびマスター情報担体の製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET MATERIAL, ITS PRODUCTION METHOD, AND METHOD OF PRODUCING TRANSPARENT ELECTRICALLY CONDUCTIVE FILM USING THE SAME例文帳に追加

スパッタリングターゲット材料、その製造方法、及びそれを用いた透明導電膜の製造方法 - 特許庁

SPUTTERING APPARATUS, TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM FORMING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DEVICE例文帳に追加

スパッタリング装置及び透明導電膜形成方法並びに有機電界発光素子の製造方法 - 特許庁

OPTICAL RECORDING MEDIUM AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND TARGET FOR SPUTTERING AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

光記録媒体及びその製造方法、並びに、スパッタリング用のターゲット及びその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND METHOD FOR MANUFACTURING ALLOY FILM AND PROBE PIN例文帳に追加

スパッタターゲット、スパッタターゲットの製造方法、合金膜の製造方法及びプローブピンの製造方法 - 特許庁

As the film deposition in this method is carried out by sputtering, the film deposition rate is higher than that of a vapor deposition method.例文帳に追加

しかも、成膜はスパッタによるものであるため蒸着法に比べると成膜レートが早い。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, ITS PRODUCTION METHOD, ORGANIC PIGMENT-DISPERSED TYPE THIN FILM AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

スパッタリングターゲット及びその製造方法、有機顔料分散型薄膜及びその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR OPTICAL MEDIUM, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND OPTICAL MEDIUM AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

光メディア用スパッタリングターゲット、その製造方法、ならびに、光メディア、およびその製造方法 - 特許庁

MAGNETRON, METHOD FOR OPERATING MAGNETRON AND METHOD FOR IMPROVING TARGET EROSION OF SPUTTERING MAGNETRON例文帳に追加

マグネトロン、マグネトロンの操作法およびスパッタリングするマグネトロンのターゲット侵食を改良する方法 - 特許庁

BACKING PLATE MANUFACTURING METHOD, BACKING PLATE, SPUTTER CATHODE, SPUTTERING APPARATUS, BUCKING PLATE CLEANING METHOD例文帳に追加

バッキングプレートの製造方法、バッキングプレート、スパッタカソード、スパッタリング装置、及びバッキングプレートの洗浄方法 - 特許庁

The information signal part is formed on a replica substrate by a vacuum deposition method or a sputtering method.例文帳に追加

レプリカ基板上に、真空蒸着法やスパッタリング法により情報信号部を形成する。 - 特許庁