「Sputtering Method」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a film deposition method which forms a high-quality film in a low-temperature process and which can freely control a nature of the film in a sputtering method and a sputtering apparatus.例文帳に追加

スパッタリング方法および装置において、低温プロセスで高品質な膜を形成するとともに、膜の性質を自由に制御可能な成膜方法を提供する。 - 特許庁

MAGNETIC RECORDING MEDIUM, ITS MANUFACTURE METHOD, SPUTTERING TARGET AND MAGNETIC RECORDING AND REPRODUCING DEVICE例文帳に追加

磁気記録媒体、その製造方法、スパッタリングターゲット、および磁気記録再生装置 - 特許庁

SPUTTERING TARGET IN WHICH OCCUPANCY RATIO OF PINHOLE IS ADJUSTED, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

ピンホールの占有割合を調整したスパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET OF SnO2O2-Sb2O3 SINTERED COMPACT, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE TARGET例文帳に追加

ＳｎＯ２−Ｓｂ２Ｏ３焼結体スパッタリングターゲット及び同ターゲットの製造方法 - 特許庁

To provide a magnet set which can easily change the configuration of a cathode magnet in a magnetron sputtering method.例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング法において、カソードマグネットの構成の変更を容易にする。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING Co-TYPE SPUTTERING TARGET MATERIAL WITH LOW MAGNETIC PERMEABILITY FOR MAGNETIC RECORDING MEDIUM例文帳に追加

磁気記録媒体用低透磁率スパッタリングＣｏ系ターゲット材の製造方法 - 特許庁

MAGNETIC RECORDING MEDIUM, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, MAGNETIC RECORDING AND REPRODUCING UNIT AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

磁気記録媒体、その製造方法、磁気記録再生装置、およびスパッタリングターゲット - 特許庁

The Ti film and the Pd film are formed by a sputtering method which is one of deposition methods.例文帳に追加

Ｔｉ膜及びＰｄ膜は、堆積法の１つであるスパッタ法で成膜する。 - 特許庁

The frequency of abnormal electric discharge in a sputtering method using a direct current power source 8 and in a sputtering method using only a pulse power source 7 is measured in advance.例文帳に追加

予め、直流電源８のみを使用したスパッタ方法と、パルス電源７のみを使用したスパッタ方法の、異常放電発生回数をそれぞれ測定する。 - 特許庁

By providing the sputtering system capable of common use of deposition of a collimation method and a sputtering method in a single chamber, reduction of maintenance and improvement of productivity become possible.例文帳に追加

コリメーション方式と通常スパッタリング方式の成膜が単一チャンバーでも共用可能なスパッタリング装置とすることでメンテナンスの減少や生産性向上が可能となる。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET FOR FORMING PHASE CHANGE FILM HAVING REDUCED GENERATION OF PARTICLE例文帳に追加

パーティクル発生の少ない相変化膜形成用スパッタリングターゲットの製造方法。 - 特許庁

ITO MOLDED PRODUCT, ITO SPUTTERING TARGET USING THE SAME AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

ＩＴＯ成型体、これを用いたＩＴＯスパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

METHOD OF PRODUCING HIGH PURITY Cu SPUTTERING TARGET WITH BACKING PLATE MADE OF Al ALLOY例文帳に追加

Ａｌ合金製バッキングプレート付き高純度Ｃｕスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING Cu-Ga ALLOY POWDER, Cu-Ga ALLOY POWDER, METHOD FOR PRODUCING Cu-Ga ALLOY SPUTTERING TARGET AND Cu-Ga ALLOY SPUTTERING TARGET例文帳に追加

Ｃｕ−Ｇａ合金粉末の製造方法及びＣｕ−Ｇａ合金粉末、並びにＣｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲットの製造方法及びＣｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲット - 特許庁

The Al2O3 film is formed particularly by an electron cyclotron resonance plasma sputtering method.例文帳に追加

特にこのＡl_2Ｏ_3膜を、例えば電子サイクロトロン共鳴プラズマスパッタ法で成膜する。 - 特許庁

Secondly, a nickel film 24 for covering the barrier metal film 23 is formed by the sputtering method.例文帳に追加

次に、バリアメタル膜２３を覆うニッケル膜２４をスパッタリング法により形成する。 - 特許庁

OXIDE SPUTTERING TARGET AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND BUFFER POWDER USED THEREFOR例文帳に追加

酸化物スパッタリングターゲット及びその製造方法並びにこれに用いる緩衝粉 - 特許庁

METALLIC TIN-CONTAINING INDIUM OXIDE SINTERED COMPACT, SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

金属スズ含有酸化インジウム焼結体、スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

ITO SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE ITO FILM例文帳に追加

ＩＴＯスパッタリングターゲット及びその製造方法並びにＩＴＯ透明導電膜 - 特許庁

The amorphous film (a-Si film) 3 is formed through a sputtering method using Ar gas.例文帳に追加

非晶質膜（ａ−Ｓｉ膜）３は、Ａｒガスを用いたスパッタ法にて形成する。 - 特許庁

METHOD FOR SYNTHESIZING THIN LiMn2O4 FILM, PRODUCTION OF LITHIUM CELL AND SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

ＬｉＭｎ２Ｏ４薄膜の合成方法、リチウム電池の製造方法及びスパッタ装置 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND Ti-W MATERIAL FOR MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM例文帳に追加

半導体素子の製造方法およびマグネトロンスパッタリング装置用Ｔｉ−Ｗ材 - 特許庁

SPUTTERING DEVICE FOR MANUFACTURING THIN FILM SOLID BATTERY, AND METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM SOLID BATTERY例文帳に追加

薄膜固体電池製造用スパッタ装置及び薄膜固体電池の製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, PROTECTIVE FILM FOR OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体用保護膜及びその製造方法 - 特許庁

The bulk body constituting the first bump layer is formed by one of a plating method, a sputtering method and a CVD method.例文帳に追加

第１バンプ層を構成するバルク体は、メッキ法、スパッタリング法、ＣＶＤ法のいずれかにより形成されるものである。 - 特許庁

It is preferable that the surface electrode 2 be formed, by using an electroless plating method or a sputtering method or a vapor deposition method.例文帳に追加

表面電極２は，無電解メッキ法，スパッタ法あるいは蒸着法により形成されていることが好ましい。 - 特許庁

To provide a film forming method having a higher productivity when forming a thin film according to a sputtering method.例文帳に追加

スパッタリング法によって薄膜を形成するにあたり、より生産性の高い成膜方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, METHOD FOR PRODUCING ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE DIODE AND MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

透明導電膜形成方法及び有機電界発光素子の製造方法およびマグネトロンスパッタ装置 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET, METHOD FOR FORMING HARD FILM AND HARD FILM COATED MEMBER USING THE SAME例文帳に追加

スパッタリングターゲットの製造方法、それを用いた硬質被膜の形成方法および硬質被膜被覆部材 - 特許庁

CLEANING METHOD OF FILM-FORMING DEVICE, CLEANING METHOD OF SPUTTERING TARGET AND CLEANING DEVICE USED THEREFOR例文帳に追加

成膜装置のクリーニング方法、スパッタリングターゲットのクリーニング方法及びこれらに使用するクリーニング装置 - 特許庁

METHOD OF PRODUCING POWDER MOLDING FOR SINTERING, AND METHOD OF PRODUCING SPUTTERING TARGET USING THE MOLDING例文帳に追加

焼結用粉末成型体の製造方法及び該成型体を用いたスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

TARGET FOR MAGNETRON SPUTTERING, TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM DEPOSITION METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE ELEMENT例文帳に追加

マグネトロンスパッタ用ターゲット及び透明導電膜形成方法並びに有機電界発光素子の製造方法 - 特許庁

PHASE CHANGE OPTICAL RECORDING MEDIUM, ITS MANUFACTURING METHOD, AND SPUTTERING TARGET FOR FORMING PROTECTIVE LAYER IN THE METHOD例文帳に追加

相変化型光記録媒体、その製造方法及びそれに用いる保護層形成用スパッタリングターゲット - 特許庁

THIN-FILM BULK ACOUSTIC RESONATOR MANUFACTURING METHOD, PIEZOELECTRIC FILM FORMING METHOD AND NON-REACTIVE SPUTTERING DEVICE例文帳に追加

薄膜バルク音響共振子の製造方法、圧電膜の形成方法および非反応性スパッタリング装置 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING Mo ALLOY POWDER TO BE PRESSURE-SINTERED, AND METHOD FOR PRODUCING TARGET MATERIAL FOR SPUTTERING例文帳に追加

加圧焼結用のＭｏ合金粉末の製造方法およびスパッタリング用ターゲット材の製造方法 - 特許庁

Further, an SiO2 film is deposited on the above Al2O3 film by a sputtering method or an electron beam vapor supposition method.例文帳に追加

Ａｌ_2 Ｏ_3 被膜上にスパッタリング法または電子ビーム蒸着法によりＳｉＯ_2 被膜を形成する。 - 特許庁

For example, the DLC film can be formed by the ion-plating method and the sputtering method using graphite as a target.例文帳に追加

例えば、ＤＬＣ膜は、黒鉛をターゲットとしたイオンプレーティング法やスパッタリング法により形成できる。 - 特許庁

To provide a sputtering target and a method for producing a sputtering target, the sputtering target having high power-resistant characteristics, and enabling a recording layer of an optical medium containing as a principal component magnesium oxide or germanium oxide with bismuth oxide to be deposited at high speed.例文帳に追加

酸化マグネシウム又は酸化ゲルマニウムと酸化ビスマスとを主成分とする光メディアの記録層を高速成膜できる、耐電力特性の高いスパッタリングターゲット及び製造方法を提供する。 - 特許庁

The zinc oxide based sputtering target is manufactured by using γ-Al_2O_3 as a dopant material, and a zinc oxide based transparent conductive film is formed by using the zinc oxide based sputtering target according to a sputtering method.例文帳に追加

ドーパント材料としてγ−Ａｌ_2 Ｏ_3 を用いて酸化亜鉛系スパッタリングターゲットを製造し、この酸化亜鉛系スパッタリングターゲットを用いてスパッタリング法により酸化亜鉛系透明導電膜を成膜する。 - 特許庁

In the disk-shaped optical recording medium having at least one sputtering layer formed by a sputtering method, the inner periphery of the sputtering layer is positioned inside a stack ring.例文帳に追加

スパッタ法によって形成されたスパッタ層を少なくとも１層有するディスク状の光記録媒体において、前記スパッタ層の内周が、スタックリングよりも内側に位置している光記録媒体である。 - 特許庁

To provide a method of designing a sputtering system where optimum sputtering cathode conditions are obtained, and the cracking and peeling of a target can be prevented.例文帳に追加

最適なスパッタカソード条件を計算で求め、ターゲットの割れや剥がれを未然に防止しうるスパッタ装置を設計する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering target for depositing a Co-based magnetic film having excellent coercive force and less medium noise by the sputtering method.例文帳に追加

保磁力に優れ、媒体ノイズの少ないＣｏ系合金磁性膜をスパッタリング法によって形成するためのスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

To provide an RF sputtering device and a manufacturing method for semiconductor device, with which the release of a coating film on a stage can be suppressed in RF sputtering.例文帳に追加

ＲＦスパッタ時にステージ上のコーティング膜の剥離を抑制できるＲＦスパッタ装置及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

By the sputtering method using the sputtering target, a Cu-Ga film containing Na effective for improving the power generation efficiency can be formed.例文帳に追加

このスパッタリングターゲットを用いたスパッタ法により、発電効率の向上に有効なＮａを含有したＣｕ−Ｇａ膜を成膜することができる。 - 特許庁

To provide a sputtering system and a sputtering method capable of forming a ferroelectric film having satisfactory orientation properties for a long period of time.例文帳に追加

良好な配向性の強誘電体膜を長期にわたり形成することができるスパッタリング装置及びスパッタリング方法を提供する。 - 特許庁