「Sputtering Method」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

A method in one embodiment includes conducting reactive sputtering while adjusting a flow rate of a reactive gas according to the temperature of a structural member which faces to a sputtering space.例文帳に追加

本発明の一実施形態では、スパッタ空間に臨む構造部材の温度に応じて、反応性ガスの流量を調整しながら、反応性スパッタリングを行う。 - 特許庁

To provide a sputtering target with which the adhesion of particles to a substrate can be suppressed in the case where a sputtering target made of easily oxidizable copper is used, and also to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

容易に酸化される銅製のスパッタリングターゲットを用いる場合に、基板へのパーティクルの付着を抑制しうるスパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering apparatus capable of depositing high-quality thin films containing no impurities, and a method of forming the high-quality thin films using the sputtering apparatus.例文帳に追加

不純物を含まない良質な薄膜を成膜することができるスパッタリング装置、前記スパッタリング装置を用いた良質な薄膜の作製方法の提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering target for forming a magnetic recording medium film which can obtain high leakage flux density and can achieve the improvement of sputtering efficiency, and a method for producing the same.例文帳に追加

高い漏洩磁束密度が得られてスパッタ効率の向上を図ることができる磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a sputtering apparatus which can perform removal of an impurity layer generated at a target entire surface adequately and efficiently, and to provide a sputtering method thereof.例文帳に追加

ターゲット全表面に生成される不純物層の除去を的確かつ効率よく行なうことを可能とするスパッタリング装置及びそのスパッタリング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering system and a method of thin film deposition by magnetron sputtering by which film deposition rate can be increased and a thin film having excellent characteristics can be deposited.例文帳に追加

成膜速度が大きく、また、特性に優れた薄膜を形成することのできるマグネトロンスパッタリング装置およびマグネトロンスパッタリングによる薄膜形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a sputtering target while surely improving quality from the viewpoint of the stable formation or the like of a transparent electrode film by sputtering.例文帳に追加

スパッタリングによる透明電極膜の安定な形成等の観点から品質の確実な向上を図りながらスパッタリングターゲットを製造する方法等を提供する。 - 特許庁

The perpendicular magnetic recording medium is obtained by film-depositing the magnetic recording layer by a sputtering method using the sputtering target for manufacturing the magnetic recording medium.例文帳に追加

また、このような磁気記録媒体製造用スパッタリングターゲットを用いてスパッタリング法により上記磁気記録層を成膜することにより垂直磁気記録媒体を得る。 - 特許庁

To provide a film forming method by sputtering, which can stably form a uniform and homogeneous film on a substrate even in a long sputtering time.例文帳に追加

長時間に渡ってスパッタリングを実施しても、基板上に均一で均質な成膜を安定的に行うことができるスパッタリングによる成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a ZnS-SiO2 target material capable of applying DC sputtering and provided with high-speed and stable sputtering properties thereby and to provide its production method.例文帳に追加

ＤＣスパッタの適用が可能であり、これにより高速で安定したスパッタ性を備えたＺｎＳ−ＳｉＯ_2 系ターゲット材およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

When forming the protective film which protects the main magnetic pole, the film is deposited by a sputtering system with a bias or by a carousel type sputtering system or a chemical vapor deposition (CVD) method.例文帳に追加

主磁極を保護する保護膜の形成時に、スパッタ装置でバイアスをかけて成膜するか、あるいは、カルーセル型スパッタ装置やケミカルベーパーデポジション（CVD）法で成膜する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the optical recording medium described in (1), a shielding plate for improving directivity of sputtering particles is provided between the sputtering target and the supporting substrate.例文帳に追加

（２）スパッタリングターゲットと支持基板の間に、スパッタ粒子の指向性を高めるための遮蔽板を設けたことを特徴とする（１）記載の光記録媒体の製造方法。 - 特許庁

The sputtering target used in manufacture of a mask blank by a sputtering method comprises a metal silicide and silicon.例文帳に追加

本発明のマスクブランクは、スパッタリング法でマスクブランクを製作する際に使用されるスパッタリングターゲットであって、該ターゲットが金属シリサイドとシリコンからなることを特徴としている。 - 特許庁

To provide a sputtering system capable of depositing high-quality thin films containing no impurities, and a method of manufacturing the high-quality thin films using the sputtering system.例文帳に追加

不純物を含まない良質な薄膜を成膜することができるスパッタリング装置、前記スパッタリング装置を用いた良質な薄膜の作製方法の提供を課題とする。 - 特許庁

To provide a laser beam welding method and its apparatus capable of preventing any damage of an optical component due to sputtering, and preventing the adhesion of sputtering to a workpiece to be welded.例文帳に追加

スパッタによる光学部品損傷の防止、および被溶接材へのスパッタの付着を防止することができるレーザ溶接方法およびその装置を提供する。 - 特許庁

In the method of straightening for a sputtering target/backing plate assembly, the assembly formed by joining the sputtering target and the backing plate is straightened by means of vacuum suction.例文帳に追加

スパッタリングターゲットとバッキングプレートとを接合した組立体を真空吸引して矯正することを特徴とするスパッタリングターゲット／バッキングプレート組立体の矯正方法。 - 特許庁

HIGH-PURITY Ru POWDER, SPUTTERING TARGET OBTAINED BY SINTERING THE HIGH-PURITY Ru POWDER, THIN FILM OBTAINED BY SPUTTERING THE TARGET, AND METHOD FOR PREPARING HIGH-PURITY Ru POWDER例文帳に追加

高純度Ｒｕ粉末、該高純度Ｒｕ粉末を焼結して得るスパッタリングターゲット及び該ターゲットをスパッタリングして得た薄膜並びに高純度Ｒｕ粉末の製造方法 - 特許庁

To provide a target for sputtering capable of improving performance while reducing the cost, to provide a sputtering device using the same and to provide a method for producing a semiconductor device.例文帳に追加

高性能化できしかもコストが低減化できるスパッタリング用ターゲットおよびそれを用いたスパッタリング装置ならびに半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering target making it possible to suppress the generation of nodules when a transparent conductive film is formed by sputtering, and to provide their manufacturing method.例文帳に追加

スパッタリング法による透明導電膜の製膜時のノジュールの発生を抑止して安定性よく製膜することのできるスパッタリングターゲットおよびその製造法を提供する。 - 特許庁

In addition, a method of manufacturing the solar cell has a step of forming a thin film containing Zn, Sn and O in a surface of a transparent electrode film by a sputtering method using the sputtering target mentioned above.例文帳に追加

また、本発明の太陽電池の製造方法は、上記スパッタリングターゲットを用いたスパッタ法により、透明電極膜の表面にＺｎ、Ｓｎ及びＯを含有する薄膜を形成する工程を有する。 - 特許庁

An Mo/Si multilayered film (a surface side multilayered film) 102 is film-deposited on the surface of the deep layer side multilayered film 101 by a low voltage discharge rotary magnet cathode sputtering method which is a kind of a magnetron sputtering method.例文帳に追加

深層側多層膜１０１の表面には、マグネトロンスパッタ法の１種である低圧放電ロータリーマグネットカソードスパッタ法により、Ｍｏ／Ｓｉ多層膜（表層側多層膜）１０２が成膜されている。 - 特許庁

To provide a sputtering method, a sputtering apparatus, a piezoelectric element manufacturing method, and a liquid spray head having a piezoelectric element capable of depositing an excellent thin film of the uniform film thickness on a substrate.例文帳に追加

基板上に薄膜を良好且つ均一な膜厚に形成することができるスパッタリング方法、スパッタリング装置、圧電素子の製造方法及び圧電素子を具備する液体噴射ヘッドを提供する。 - 特許庁

A chromium thin film 2 being the seed layer and a tantalum thin film 3 being a sub-carrier layer are formed by using an ion beam sputtering method and the tantalum thin film 4 being a principal carrier layer is formed by using a magnetron sputtering method.例文帳に追加

イオンビームスパッタ法を用いてシード層であるクロム薄膜２と、副キャリア層であるタンタル薄膜３を形成し、マグネトロンスパッタ法を用いて主キャリア層であるタンタル薄膜４を形成する。 - 特許庁

In the method of etching the Au film, an insulating film 2 is formed on a semiconductor substrate 1 and the Au film 3 is formed on the film 2 by means of a sputtering method or plating method.例文帳に追加

半導体基板１上に絶縁膜２を形成し、絶縁膜２上にスパッタリング又はメッキ法によりＡｕ膜３を形成する。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD FOR SUBSTRATE WITH MULTI-LAYERED REFLECTING FILM, MANUFACTURING METHOD FOR REFLECTION TYPE MASK BLANK, AND MANUFACTURING METHOD FOR REFLECTION TYPE MASK例文帳に追加

スパッタリングターゲット、多層反射膜付き基板の製造方法、及び反射型マスクブランクの製造方法、並びに反射型マスクの製造方法 - 特許庁

Such the metal oxide conductor thin film is obtained by a forming method, where at the beginning of the formation of the conductor thin film, the conductor thin film is formed by a sputtering method in a non-oxidizing atmosphere, then the conductor thin film is formed by the sputtering method in an oxidizing atmosphere containing enriched oxygen.例文帳に追加

このような金属酸化物導電体薄膜の形成方法は、成膜当初は非酸化性雰囲気中でスパッタ成膜し、次いで酸素を富化した酸化性雰囲気中でスパッタ成膜することにより得られる。 - 特許庁

This ZnOx semiconductor layer is formed by using various thin film forming techniques such as a spin coat method, a DC sputtering method, an RF sputtering method, a metal organic vapor phase deposition (MOCVD) or an atomic layer deposition (ALD).例文帳に追加

このＺｎＯｘ半導体層を、スピンコート法、ＤＣスパッタリング法、ＲＦスパッタリング法、有機金属気相成長法（ＭＯＣＶＤ）または原子層堆積法（ＡＬＤ）のような様々な薄膜形成技術を用いて形成する。 - 特許庁

The process of forming the lower electrode 4 includes a process of forming a first metal layer by an ion beam sputtering method or a DC sputtering method, and a process of depositing a second metal layer on the first metal layer by an electrolytic plating method.例文帳に追加

下部電極４を形成する工程は、イオンビームスパッタ法またはＤＣスパッタ法によって第１金属層を形成する工程と、第１金属層の上に電解めっき法によって第２金属層を析出させる工程と、を含む。 - 特許庁

Like a transparent electrode 2, the tight attaching layer 4 consists, for example of SnO_2 and ITO, and is formed through the CVD method or sputtering method.例文帳に追加

密着層４は例えば透明電極２と同じＳｎＯ_2やＩＴＯから成り、ＣＶＤ法やスパッタリング法で形成される。 - 特許庁

In a manufacturing method of a Cu_2O thin film, the Cu_2O thin film having its film thickness of about 1 μm is created by a reactive sputtering method on a cleaned glass substrate.例文帳に追加

洗浄したガラス基板上に反応性スパッタ法によって膜厚約１μｍのＣｕ_2Ｏ薄膜を作製した。 - 特許庁

The film or composite film is produced by an arc ion plating method or a magnetron sputtering method using a solid target material with a sintered structure containing B.例文帳に追加

Ｂを含む、焼結構造の固体ターゲット材を用いたアークイオンプレーティング法またはマグネトロンスパッタリング法で製造する。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION METHOD, REFLECTOR FOR LCD, REFLECTION WIRING ELECTRODE, AND THIN FILM AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

スパッタリングターゲット及びその製造方法、反射型ＬＣＤ用反射板、反射配線電極、薄膜及びその製造方法 - 特許庁

TARGET FOR ION BEAM SPUTTERING, METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE FOR OXIDE SUPERCONDUCTOR, AND METHOD FOR PRODUCING WIRE ROD OF OXIDE SUPERCONDUCTOR例文帳に追加

イオンビームスパッタ用ターゲット、酸化物超電導導体用基材の製造方法および酸化物超電導線材の製造方法 - 特許庁

To provide a method for producing a film realizing selective sputtering onto a substrate having an oxide region(s).例文帳に追加

酸化物領域を有する基板上への選択スパッタを実現する膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

BIPOLAR PULSE SPUTTERING FILM DEPOSITION SYSTEM AND METHOD FOR PRODUCING THIN FILM MATERIAL OBTAINED USING THE SYSTEM例文帳に追加

バイポーラパルススパッタリング成膜装置および同装置を用いて作製される薄膜材料の製造方法 - 特許庁

SPUTTERING APPARATUS WITH FACING TARGETS, AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DISPLAY DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

対向ターゲット式スパッタリング装置及びこれを用いた有機電界発光表示装置の製造方法 - 特許庁

Besides, a conductive film, consisting essentially of Cu, of the wiring is formed by a sputtering method using a mask.例文帳に追加

また、該配線のＣｕを主成分とする導電膜は、マスクを用いたスパッタ法により形成する。 - 特許庁

To provide a high strength ITO sintered compact, a sputtering agent and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

高い強度を有するＩＴＯ燒結体、スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a sputtering target superior in mechanical strength for forming a phase-change memory film.例文帳に追加

機械的強度に優れた相変化メモリ膜形成用スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF Co-BASE SINTERED ALLOY SPUTTERING TARGET FOR FORMING MAGNETIC RECORDING FILM OF LOW RELATIVE MAGNETIC PERMEABILITY例文帳に追加

比透磁率の低い磁気記録膜形成用Ｃｏ基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING TRANSPARENT CONDUCTIVE THIN FILM AND SPUTTERING APPARATUS THEREFOR, AND COLOR FILTER USING THE SAME例文帳に追加

透明導電性薄膜の製造方法およびそのためのスパッタ装置、ならびにそれを用いたカラーフィルター - 特許庁

To provide a substrate for sputtering, improved in adhesion to film, and its manufacturing method.例文帳に追加

膜との密着性が向上したスパッタリング用基板およびその製造方法を提供することである。 - 特許庁

Then, a connection groove 17 is formed by laser scribing, and a second electrode 4 is formed by a sputtering method or the like.例文帳に追加

その後、接続溝１７をレーザスクライブにより形成し、第２電極４をスパッタ法などで形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a FeCoB-based sputtering target material for depositing a soft magnetic thin film.例文帳に追加

軟磁性薄膜を形成するためのＦｅＣｏＢ系スパッタリングターゲット材の製造方法を提供する。 - 特許庁

The multilayer films 3, 4, 6, 7 are deposited with vacuum deposition, ion plating, ion assisted deposition and sputtering method.例文帳に追加

前記多層膜３，４，６，７は、真空蒸着、イオンプレーティング、イオンアシスト蒸着、スパッタリング法で成膜される。 - 特許庁