「Sputtering Method」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a sputtering method by which film hanging of an outer peripheral part of a substrate to be treated is prevented by a simple method so as to uniform a film thickness distribution.例文帳に追加

簡易な方法で、被処理基板外周部の膜だれを防止し、膜厚分布を均一化するスパッタリング方法を提供する。 - 特許庁

An Al2O3 film is deposited on the surface of a substrate composed of Ti-Al alloy by a sputtering method or an electron beam vapor deposition method.例文帳に追加

Ｔｉ−Ａｌ系合金からなる基材の表面にスパッタリング法または電子ビーム蒸着法によりＡｌ_2 Ｏ_3 被膜を形成する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING ELECTROLYTE LAYER OF HIGH PERFORMANCE SOLID OXIDE FUEL CELL MEMBRANE-ELECTRODE ASSEMBLY (SOFC-MEA) BY SPUTTERING METHOD例文帳に追加

スパッタリング法による高性能固体酸化物形燃料電池膜電極接合体（ＳＯＦＣ−ＭＥＡ）の電解質層の製造方法。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR SOLID ELECTROLYTE THIN FILM, PARALLEL FLAT-PLATE TYPE MAGNETRON SPUTTERING DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD FOR THIN-FILM SOLID LITHIUM ION SECONDARY BATTERY例文帳に追加

固体電解質薄膜の製造方法、平行平板型マグネトロンスパッタ装置、及び薄膜固体リチウムイオン２次電池の製造方法 - 特許庁

To provide a deposition method and a re-sputtering method capable of suppressing overhang of a frontage of a trench and/or a hole.例文帳に追加

トレンチおよび／またはホールの間口のオーバーハングを抑制することができる成膜方法およびリスパッタリング方法を提供すること。 - 特許庁

PARALLEL FLAT PLATE TYPE MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS, METHOD FOR PRODUCING SOLID ELECTROLYTE THIN FILM, AND METHOD FOR PRODUCING THIN FILM SOLID LITHIUM ION SECONDARY BATTERY例文帳に追加

平行平板型マグネトロンスパッタ装置、固体電解質薄膜の製造方法、及び薄膜固体リチウムイオン２次電池の製造方法 - 特許庁

HIGH PURITY VANADIUM, TARGET COMPOSED OF VANADIUM, THIN FILM OF VANADIUM, METHOD OF PRODUCING VANADIUM, AND METHOD OF PRODUCING SPUTTERING TARGET OF VANADIUM例文帳に追加

高純度バナジウム、同バナジウムからなるターゲット、同バナジウム薄膜、同バナジウムの製造方法及び同バナジウムスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

The active material thin film formed on the collector 1 is composed of an interfacial layer formed on the collector and an active material layer formed on the interfacial layer, the interfacial layer is formed by an RF sputtering method by an RF sputtering source, and the active material layer is formed by a DC pulse sputtering method by a DC pulse sputtering source 5.例文帳に追加

集電体１上に形成される活物質薄膜が、集電体上に形成される界面層と、該界面層上に形成される活物質層とから構成されており、界面層がＲＦスパッタ源４によるＲＦスパッタ法により形成され、活物質層がＤＣパルススパッタ源５によるＤＣパルススパッタ法により形成されることを特徴としている。 - 特許庁

To provide a target for magnetron sputtering which can form a metal fluoride film free from optical absorption with high reproducibility, and in which the occurrence of deformation or cracks can be suppressed even in a high temperature state upon sputtering, and to provide a sputtering method using the target.例文帳に追加

光吸収のない金属フッ化物膜を再現性よく形成できるとともに、スパッタリング時の高温状態においても変形又はクラックの発生を抑制できるマグネトロンスパッタリング用ターゲット及び該ターゲットを用いたスパッタリング方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a target which suppresses generation of nodules when a transparent conductive oxide is formed by a sputtering process and can stably perform sputtering, to provide the transparent conductive oxide formed from the target, and to provide a method for producing the sputtering target.例文帳に追加

スパッタリング法により透明導電性酸化物を成膜する際のノジュールの発生を抑制し、安定にスパッタリングを行うことのできるターゲット、このようなターゲットからなる透明導電性酸化物、およびこのようなターゲットの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering apparatus which can deposit a sputtered film having an excellent uniformity in a film thickness distribution on a wafer without increasing the cost and size of the sputtering apparatus, and further without reducing the reliability and yield of a product, and to provide a sputtering method using the same.例文帳に追加

スパッタ装置を高コスト化・大型化させることなく、さらには製品の信頼性や歩留りを低下させることなく、ウェーハ上に膜厚分布の均一性の優れたスパッタ膜を形成することができるスパッタ装置及びそれを用いたスパッタ方法を提供する。 - 特許庁

To provide a carbon dioxide gas shielded arc welding method and a welding device, in which sputtering reduces, and a weld quality improves.例文帳に追加

スパッタが低減し、溶接品質が向上した炭酸ガスアーク溶接方法および溶接装置を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING Co-BASE SINTERED ALLOY SPUTTERING TARGET FOR FORMATION OF MAGNETIC RECORDING FILM WHICH IS LESS LIKELY TO GENERATE PARTICLE例文帳に追加

パーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Ｃｏ基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

The magnetic recording medium 300 has a data-recording thin layer 306 formed by a sputtering method with the use of the sputter target.例文帳に追加

磁気記録媒体３００は、このスパッタターゲットでスパッタリング形成したデータ記録薄膜層３０６を有する。 - 特許庁

To provide a high-quality magnetoresistive thin film by using a method for controlling self bias of a high-frequency sputtering device.例文帳に追加

高周波スパッタリング装置の自己バイアスを制御する手法により高品質の磁気抵抗薄膜を提供する。 - 特許庁

MO-BASED SPUTTERING TARGET AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND CIGS-BASED THIN-FILM SOLAR CELL USING THE SAME例文帳に追加

Ｍｏ系スパッタリングターゲットおよびその製造方法ならびにこれを用いたＣＩＧＳ系薄膜太陽電池 - 特許庁

To provide a method for forming a film with a sputtering process, which can further improve the crystallinity of an LaB_6 film, and also does not cause the peeling of the LaB_6 film.例文帳に追加

ＬａＢ_６膜の結晶性を更に改善でき、剥離も少ないスパッタ形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thin film formation method which can greatly suppress generation of charging damage in sputtering.例文帳に追加

スパッタリング時におけるチャージングダメージの発生を大幅に抑制することができる薄膜形成方法を提供する。 - 特許庁

Next, a barrier metal 16 is formed by a sputtering method, and then a seed Cu film 17 is coated on the barrier metal 16.例文帳に追加

次に、スパッタ法により、バリアメタル１６の形成を経て、バリアメタル１６上にシードＣｕ膜１７を被覆する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING Co-BASED SINTERED ALLOY SPUTTERING TARGET TO BE USED IN FORMING MAGNETIC RECORDING FILM WITH LITTLE PARTICLE GENERATION例文帳に追加

パーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Ｃｏ基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR HIGHLY RESISTANT TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, AND HIGHLY RESISTANT TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF HIGHLY RESISTANT TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM例文帳に追加

高抵抗透明導電膜用スパッタリングターゲット及び高抵抗透明導電膜並びにその製造方法 - 特許庁

To provide a film-forming method by gas-flow sputtering, which can employ a target made from a nonconductive material, and to provide an apparatus therefor.例文帳に追加

、非導電性材料製ターゲットをも適用し得るガスフロースパッタリング成膜方法及び装置を提供する。 - 特許庁

The substrate layer 12 is formed on the nonmagnetic substrate 2 by a vapor growth method such as sputtering and vapor deposition.例文帳に追加

この下地層１２は、非磁性基板２上に、スパッタリングや蒸着等の気相成長法により形成する。 - 特許庁

To provide an indium-zinc-oxide-based sputtering target; a manufacturing method therefor; and an indium-zinc-oxide-based thin film.例文帳に追加

酸化インジウム亜鉛系スパッタリングターゲット、その製造方法、および酸化インジウム亜鉛系薄膜を提供する。 - 特許庁

To provide a method for inspecting a target material for sputtering, by which minute internal defects can be detected.例文帳に追加

微小な内部欠陥を検出することができるスパッタリング用ターゲット材料の検査方法を提供する。 - 特許庁

ALLOY FOR SOFT MAGNETIC FILM LAYER IN PERPENDICULAR MAGNETIC RECORDING MEDIUM, SPUTTERING TARGET MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金およびスパッタリングターゲット材並びにその製造方法 - 特許庁

To provide a thin film transistor having high mobility, a method for manufacturing the thin film transistor, and a sputtering target used for manufacturing the thin film transistor.例文帳に追加

高移動度の薄膜トランジスタ、その製造方法及びその製造に用いるスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET TO BE USED IN FORMING FILM OF PERPENDICULAR MAGNETIC RECORDING MEDIUM HAVING LOW RELATIVE MAGNETIC PERMEABILITY IN IN-PLANE DIRECTION例文帳に追加

面内方向比透磁率の低い垂直磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

The conductive layer is preferred, considering a shielding performance, to be formed by a dry method such as sputtering, CVD, etc.例文帳に追加

導電層は、シールド性能の点からスパッタ法、ＣＶＤ法等の乾式法で形成することが好ましい。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING Co BASED SINTERED ALLOY SPUTTERING TARGET FOR FORMING MAGNETIC RECORDING FILM WHICH IS LESS LIKELY TO GENERATE PARTICLE例文帳に追加

パーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Ｃｏ基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

SPUTTERING COMPOSITE TARGET, METHOD FOR PRODUCING TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM USING THE SAME AND TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM-FITTED BASE MATERIAL例文帳に追加

スパッタリング複合ターゲット、これを用いた透明導電膜の製造方法及び透明導電膜付基材 - 特許庁

SPUTTERING DEVICE, ITS ABNORMAL DISCHARGE DETECTING METHOD, PRODUCTION OF LIQUID CRYSTAL ELEMENT USING THE DEVICE AND LIQUID CRYSTAL ELEMENT例文帳に追加

スパッタリング装置とその異常放電検出方法、該装置を用いた液晶素子の製造方法、液晶素子 - 特許庁

The multilayer film is formed by laminating alternately an Si layer 2 and an Mo layer on a substrate 4 by a sputtering method.例文帳に追加

基板４の上に、スパッタリング法で、Ｓｉ層２とＭｏ層３を交互に積層して多層膜を形成する。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING HIGH-PURITY MOLYBDENUM-TUNGSTEN ALLOY POWDER USED FOR RAW POWDER FOR SPUTTERING TARGET例文帳に追加

スパッタリングターゲット用原料粉末として用いられる高純度モリブデン−タングステン合金粉末の製造方法 - 特許庁

Furthermore, the oxide layer of the oriented metal substrate surface can be cut by an ion beam or a sputtering method.例文帳に追加

また、配向金属基板表面の酸化層の切削は、イオンビームまたはスパッタ法により行なうことができる。 - 特許庁

VACUUM SPUTTERING MODE TYPE MANUFACTURING METHOD OF LAMINATED CERAMIC CAPACITOR (MLCC) COMPRISING DIELECTRIC CERAMIC LAYER AND INNER-ELECTRODE LAYER例文帳に追加

真空スパッタリング方式による誘電セラミック層及び内部電極層の積層セラミックコンデンサ（ＭＬＣＣ）製造法 - 特許庁

The diamond like carbon layer is dense carbon film-formed by a sputtering method using a target consisting of graphite.例文帳に追加

ダイヤモンドライクカーボン層は、黒鉛からなるターゲットを用いたスパッタリングにより成膜された緻密なカーボンである。 - 特許庁

(3) In the manufacturing method of the optical information recording medium in (1) or (2), the sputtering starting time is specified to be within 60 sec.例文帳に追加

（３）スパッタ開始時間を６０秒以内とする（１）又は（２）記載の光情報記録媒体の製造方法。 - 特許庁

(2) In the manufacturing method of the optical information recording medium in (1), the sputtering starting time is managed for every one substrate.例文帳に追加

（２）基板１枚毎にスパッタ開始時間を管理する（１）記載の光情報記録媒体の製造方法。 - 特許庁

To provide a large size sputtering target made of a metal oxide, which is excellent in film-forming property, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

成膜性に優れる金属酸化物の大型スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The manufacturing method is effective particularly for the manufacture of a sputtering target to which a large-sized flat plate shape is required.例文帳に追加

本発明は、特に大型平板形状が要求されるスパッタリング用ターゲットの製造に対して有効である。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a solar cell in which passivation by a method equivalent to a formation method such as a plasma CVD method can be performed even if an antireflection film is formed by a sputtering method.例文帳に追加

スパッタリング法により反射防止膜を形成した場合でも、プラズマＣＶＤ法などによる形成方法による場合と同等のパッシベーションがなされる太陽電池の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a piezoelectric element suitable to an inkjet head by an epitaxial growth method such as sputtering method or an oriented growth method, and to provide a method of manufacturing a liquid ejection head.例文帳に追加

スパッタ法などのエピタキシャル成長法或いは配向成長法よってインクジェットヘッドに適した圧電素子を作製する圧電素子の製造方法及び液体吐出ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To form a ferroelectric thin film having an orientation property equal to that of one film-formed by a sputtering method, an MOCVD method or the like, by a coating method such as a spin coating method or an MOD method at a low cost.例文帳に追加

スパッタリング法やＭＯＣＶＤ法などで成膜したのと同等の配向性を有した強誘電体薄膜を、スピンコート法、ＭＯＤ法などの塗布法で安価に成膜することを可能にする。 - 特許庁

To provide a sputtering target capable of depositing a transparent conductive film by the magnetron sputtering without any wasteful consumption of a sputtering target material, and easily controlling the resistivity and the transmittance of the transparent conductive film in a target for the magnetron sputter which has a mask on a substrate to perform the pattern-forming of the transparent conductive film on the substrate by the magnetron sputtering method.例文帳に追加

基板上にマスクを設け、マグネトロンスパッタリング法により基板上に透明導電膜をパターン形成するためのマグネトロンスパッタ用ターゲットにおいて、マグネトロンスパッタリングにより、スパッタリングターゲット材の消費に無駄が無く透明導電膜を形成でき、また透明導電膜の抵抗率や透過率の制御が容易にできるスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁