「Sputtering Method」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET FOR PHASE CHANGE MEMORY例文帳に追加

相変化型メモリー用スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

円筒形スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

HIGH-PURITY RUTHENIUM SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

高純度ルテニウムスパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

スパッタリング装置及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

スパッタリング装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

半導体装置の製造方法およびスパッタリング装置 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING Ge-Cr ALLOY SPUTTERING TARGET例文帳に追加

Ｇｅ−Ｃｒ合金スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

FACING TARGET SPUTTERING DEVICE AND METHOD例文帳に追加

対向ターゲットスパッタ装置及び対向ターゲットスパッタ方法 - 特許庁

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS, FILM-FORMING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL COMPONENT例文帳に追加

マグネトロンスパッタ装置、成膜方法、及び光学部品の製造方法 - 特許庁

SPUTTERING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

スパッタ方法及びそれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁

SPUTTERING DEVICE, METHOD FOR FORMING FILM, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

スパッタ装置、成膜方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR MANUFACTURING COPPER WIRING FILM例文帳に追加

スパッタリングターゲットの製造方法および銅配線膜の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR DEPOSITING COPPER THIN FILM AND SPUTTERING SYSTEM USED FOR THE METHOD例文帳に追加

銅薄膜製造方法、及びその方法に用いるスパッタ装置 - 特許庁

The Cd_3TeO_6 thin film is preferably formed by an RF magnetron sputtering method or an analogous sputtering method.例文帳に追加

この酸化物薄膜は、ＲＦマグネトロンスパッタリング法又は類似のスパッタリング法により形成することが好ましい。 - 特許庁

METHOD FOR FABRICATING PRECIOUS METAL MAGNETIC SPUTTERING TARGET AND PRECIOUS METAL MAGNETIC SPUTTERING TARGET FABRICATED BY USING THE METHOD例文帳に追加

貴金属磁気スパッタリングターゲットの製造方法及びこの方法で製造された貴金属磁気スパッタリングターゲット - 特許庁

SPUTTERING DEVICE, ITS OPERATION CONTROL METHOD, AND OPTICAL DISK例文帳に追加

スパッタ装置、その運転制御方法および光ディスク - 特許庁

SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD OF THE SAME, AND BARRIER FILM例文帳に追加

スパッタリングターゲット、同ターゲットの製造方法及びバリア膜 - 特許庁

ZnO film 105 is formed by ECR sputtering method.例文帳に追加

ＺｎＯ膜１０５は、ＥＣＲスパッタ法で作製した。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR OPTICAL MEDIUM, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

光メディア用スパッタリングターゲット、および、その製造方法 - 特許庁

To densify a thin film formed by a sputtering method.例文帳に追加

スパッタリング法で形成される薄膜を高密度化する。 - 特許庁

METHOD OF CLEANING SURFACE OF CONTAMINATION PLATE OF SPUTTERING SYSTEM, AND CONTAMINATION PLATE例文帳に追加

スパッタ装置の防着面清掃方法及び防着板 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD THEREFOR AND TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE FILM例文帳に追加

スパッタリングターゲット、その製造方法及び透明導電膜 - 特許庁

RF-SPUTTERING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ＲＦスパッタ装置及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING HARDLY WORKABLE ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL例文帳に追加

難加工性合金スパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING THIN-FILM BY PLASMA SPUTTERING AND FILM-FORMING APPARATUS例文帳に追加

プラズマスパッタリング薄膜形成方法及び成膜装置 - 特許庁

DOUBLE SHUTTER CONTROL METHOD FOR MULTITARGET SPUTTERING DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

多元スパッタ成膜装置の二重シャッタ制御方法 - 特許庁

COPPER MATERIAL FOR SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

スパッタリングターゲット用銅材料及びその製造方法 - 特許庁

MAGNETRON SPUTTERING ELECTRODE, FILM DEPOSITION SYSTEM, AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

マグネトロンスパッタ電極、成膜装置及び成膜方法 - 特許庁

ALUMINUM SHEET FOR SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

スパッタリングターゲット用アルミニウム板、及びその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND COPPER WIRING FILM例文帳に追加

スパッタリングターゲット、その製造方法および銅配線膜 - 特許庁

Then, an amorphous silicon film is formed through a sputtering method.例文帳に追加

つぎに、スパッタ法により、アモルファス・シリコン膜を形成する。 - 特許庁

MAGNETRON SPUTTERING METHOD AND PRODUCTION OF MAGNETIC RECORDING MEDIUM例文帳に追加

マグネトロンスパッタ法および磁気記録媒体の製造方法 - 特許庁

PALLADIUM ALLOY SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF例文帳に追加

Ｐｄ合金系スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING OXIDE SINTERED BODY例文帳に追加

スパッタリングターゲット及び酸化物焼結体の製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

スパッタリングターゲットとその製造方法、および電子部品 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR FORMING PROTECTION LAYER AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

保護層形成用スパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁

HIGH FREQUENCY SPUTTERING EQUIPMENT AND METHOD例文帳に追加

高周波スパッタリング装置及び高周波スパッタリング方法 - 特許庁

PLASMA SPUTTERING METHOD FOR FORMING THIN FILM, AND FILM- FORMING APPARATUS例文帳に追加

プラズマスパッタリング薄膜形成方法及び成膜装置 - 特許庁

METAL MASK FOR SPUTTERING, COLOR FILTER, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

スパッタ用メタルマスク及びカラーフィルタ及びその製造方法 - 特許庁

Mo-BASED SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

Ｍｏ系スパッタリング用ターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

The excess A component is removed through a sputtering method.例文帳に追加

スパッター法により余分な前記Ａ成分を除去する。 - 特許庁

METHOD FOR SUPPORTING DESIGN OF MAGNETRON SPUTTERING, DEVICE THEREFOR, AND PROGRAM例文帳に追加

マグネトロンスパッタの設計支援方法、装置及びプログラム - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING MoNb BASED SINTERED SPUTTERING TARGET MATERIAL例文帳に追加

ＭｏＮｂ系焼結スパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁

OPTICAL RECORDING MEDIUM, SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCING SAME例文帳に追加

光記録媒体、スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

MULTI-SEGMENTAL SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF THIN FILM例文帳に追加

多分割スパッタリングターゲットおよび薄膜の製造方法 - 特許庁