「Sputtering Method」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

REACTIVE SPUTTERING DEPOSITION DEVICE AND METHOD例文帳に追加

反応性スパッタリング蒸着装置及び方法 - 特許庁

TARGET MATERIAL FOR SPUTTERING AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加

スパッタリング用ターゲット及びその製造方法 - 特許庁

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND THIN FILM MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

マグネトロンスパッタ装置及び薄膜製造方法 - 特許庁

SPUTTERING APPARATUS, AND DEPOSITED FILM FORMING METHOD例文帳に追加

スパッタリング装置および堆積膜形成方法 - 特許庁

REACTIVE SPUTTERING DEVICE AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

反応性スパッタリング装置及び成膜方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, SPUTTERING DEVICE AND LIQUID-SPOUTING HEAD例文帳に追加

スパッタリングターゲットとその製造方法及びスパッタリング装置並びに液体噴射ヘッド - 特許庁

SINTERED COMPACT FOR SPUTTERING TARGET MATERIAL, ITS MANUFACTURING METHOD, AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

スパッタリングのターゲット材用焼結体、その製造方法、及びスパッタリング用ターゲット - 特許庁

SPUTTERING TARGET MATERIAL, MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND PRODUCTION METHOD OF SPUTTERING TARGET MATERIAL例文帳に追加

スパッタターゲット材料、磁気記録媒体及びスパッタターゲット材料の製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, SPUTTERING APPARATUS USING IT, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

スパッタリングターゲット及びその製造方法これを用いたスパッタ装置、半導体装置 - 特許庁

COPPER SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR TFT, COPPER FILM FOR TFT, AND SPUTTERING METHOD例文帳に追加

ＴＦＴ用銅スパッタリングターゲット材、ＴＦＴ用銅膜、及びスパッタリング方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING ALUMINUM MATERIAL FOR SPUTTERING TARGET MATERIAL, AND ALUMINUM MATERIAL FOR SPUTTERING TARGET MATERIAL例文帳に追加

スパッタリングターゲット材、スパッタリングターゲット材用アルミニウム材の製造方法及びスパッタリングターゲット材用アルミニウム材 - 特許庁

More preferably, the PVD method is an evaporation method or a sputtering method.例文帳に追加

ＰＶＤ法が、蒸着法、スパッタリング法であるとさらに好ましい。 - 特許庁

SPUTTERING APPARATUS, TRAP FOR SPUTTERING, FILM-FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE APPARATUS例文帳に追加

スパッタリング装置、スパッタリング用トラップ、成膜方法および有機電界発光装置の製造方法 - 特許庁

TARGET MEMBER FOR SPUTTERING, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

スパッタリング用ターゲット部材およびその製造法 - 特許庁

SPUTTER FILM DEPOSITION MACHINE, AND SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

スパッタ成膜機及びスパッタリング成膜方法 - 特許庁

IRON SILICATE SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加

珪化鉄スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM AND THIN FILM PRODUCTION METHOD例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング装置及び薄膜の製造法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK例文帳に追加

スパッタリングターゲット、及びマスクブランクの製造方法 - 特許庁

ERBIUM SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

エルビウムスパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

TUNGSTEN SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF例文帳に追加

タングステンスパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR OPTICAL DISK AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

光ディスク用スパッタリングターゲットとその製造法 - 特許庁

SPUTTERING METHOD CONTROLLED BY PLASMA EMMISION MONITOR例文帳に追加

プラズマ発光モニターで制御されたスパッタ方法 - 特許庁

REFURBISHED SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MAKING THE SAME例文帳に追加

再製スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING METAL BLANK FOR SPUTTERING TARGET例文帳に追加

スパッタリングターゲット用金属ブランクの形成方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING INDIUM OXIDE-BASED SPUTTERING TARGET例文帳に追加

酸化インジウム系スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

SILVER ALLOY SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCING METHOD例文帳に追加

銀合金スパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁

ITO SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

ＩＴＯスパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR BONDING SPUTTERING TARGET TO RECEIVING BOARD例文帳に追加

スパッタリングターゲットを受け板に接合する方法 - 特許庁

SPLIT SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

分割スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING METHOD, DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

スパッタリング方法及び装置及び電子部品の製造方法 - 特許庁

BIAS SPUTTERING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING ELASTIC WAVE APPARATUS例文帳に追加

バイアススパッタリング方法及び弾性波装置の製造方法 - 特許庁

METHOD OF VAPOR DEPOSITION OF HEUSLER ALLOY BY CO- SPUTTERING METHOD例文帳に追加

同時スパッタリング法によるホイスラー合金の蒸着方法 - 特許庁

SPUTTERING METHOD AND SYSTEM, AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

スパッタリング方法及び装置及び電子部品の製造方法 - 特許庁

ELECTRICALLY CONDUCTIVE FILM, SPUTTERING TARGET USING THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET例文帳に追加

導電性フィルム、これを用いたスパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

The chromium film 19B is formed by a sputtering method using a sputtering system 50.例文帳に追加

クロム膜１９Ｂは、スパッタリング装置５０を用い、スパッタリング法によって形成する。 - 特許庁

To provide a method for controlling ion density and sputtering rate in a sputtering system.例文帳に追加

スパッタリングシステムにおいてイオン密度とスパッタ率を制御する方法を提供する。 - 特許庁

MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM, AND METHOD OF MANUFACTURING THIN FILM例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング装置及び薄膜の製造法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING FOR COBALT SPUTTERING TARGET WITH LOW MAGNETIC PERMEABILITY例文帳に追加

低透磁率コバルトスパッターターゲットの製造方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING WIRING, AND PLASMA SPUTTERING REACTOR例文帳に追加

配線を形成する方法及びプラズマスパッタリアクタ - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET PROVIDED WITH BACKING PLATE例文帳に追加

バッキングプレート付きスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

Ag BASED SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

Ａｇ系スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING METAL SPUTTERING TARGET例文帳に追加

金属スパッタリング・ターゲット材料を作成する方法 - 特許庁

ITO SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

ＩＴＯスパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

TITANIUM NITRIDE SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

窒化チタンスパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

スパッタリング装置、及び電子デバイスの製造方法 - 特許庁