| 意味 | 例文 |
Sputtering Methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2639件
METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET MATERIAL例文帳に追加
スパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁
SPUTTERING APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
スパッタリング装置および製造方法 - 特許庁
SPUTTERING CATHODE AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
スパッタリングカソード及び成膜方法 - 特許庁
SPUTTERING TARGET, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加
スパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁
SPUTTERING SYSTEM AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
スパッタリング装置及び成膜方法 - 特許庁
SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加
スパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁
FILM DEPOSITION METHOD AND SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加
成膜方法およびスパッタリング装置 - 特許庁
SPUTTERING METHOD AND FILM DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加
スパッタリング方法及び成膜装置 - 特許庁
TARGET PROTECTING METHOD AND SPUTTERING DEVICE例文帳に追加
ターゲット保護方法及びスパッタ装置 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING TANTALUM SPUTTERING TARGET例文帳に追加
タンタルスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁
SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD FOR THE SPUTTERING TARGET, AND ALUMINUM WIRING FILM AND ELECTRONIC COMPONENT USING THE SPUTTERING TARGET例文帳に追加
スパッタリングターゲットとその製造方法、およびそれを用いたAl配線膜と電子部品 - 特許庁
PHOTORECORDING MEDIUM, SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF PHOTORECORDING MEDIUM AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加
光記録媒体、スパッタリングターゲット、及びそれらの製造方法 - 特許庁
FACING-TARGET TYPE SPUTTERING APPARATUS AND FACING-TARGET TYPE SPUTTERING METHOD例文帳に追加
対向ターゲット式スパッタ装置及び対向ターゲット式スパッタ方法 - 特許庁
BACKING PLATE USED IN SPUTTERING APPARATUS, AND SPUTTERING METHOD例文帳に追加
スパッタリング装置に用いられるバッキングプレートおよびスパッタリング方法 - 特許庁
SPUTTERING TARGET, AND SPUTTERING METHOD USING THE TARGET例文帳に追加
スパッタリング用のターゲット及びこのターゲットを用いたスパッタリング方法 - 特許庁
FACING-TARGET TYPE SPUTTERING APPARATUS, AND FACING-TARGET TYPE SPUTTERING METHOD例文帳に追加
対向ターゲット式スパッタ装置及び対向ターゲット式スパッタ方法 - 特許庁
PLANER MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND PLANER MAGNETRON SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
プレーナマグネトロンスパッタ装置およびプレーナマグネトロンスパッタ成膜方法 - 特許庁
FILM DEPOSITION METHOD BY SPUTTERING, OPTICAL MEMBER AND SPUTTERING DEVICE例文帳に追加
スパッタによる膜の形成方法、光学部材、およびスパッタ装置 - 特許庁
SPUTTERING EQUIPMENT FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND SPUTTERING METHOD THEREFOR例文帳に追加
半導体装置製造用スパッタリング設備及びスパッタリング方法 - 特許庁
SPUTTERING SYSTEM AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
スパッタリング装置および成膜方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING SPUTTERING FILM, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND SPUTTERING SYSTEM例文帳に追加
スパッタリング成膜方法、電子デバイスの製造方法及びスパッタリング装置 - 特許庁
SPUTTERING METHOD, SPUTTERING SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTORECEPTOR例文帳に追加
スパッタリング方法、スパッタリング装置及び電子写真感光体の製造方法 - 特許庁
SPUTTERING SYSTEM AND FILM-FORMING METHOD例文帳に追加
スパッタリング装置および成膜方法 - 特許庁
SPUTTERING APPARATUS AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
スパッタリング装置および成膜方法 - 特許庁
SPUTTERING SYSTEM AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
スパッタリング装置、および成膜方法 - 特許庁
SPUTTERING TARGET AND FILM-FORMING METHOD例文帳に追加
スパッタリングターゲットおよび成膜方法 - 特許庁
METHOD FOR PREVENTING DEVELOPMENT OF PARTICLES IN SPUTTERING APPARATUS, SPUTTERING METHOD, SPUTTERING APPARATUS AND MEMBER FOR COATING例文帳に追加
スパッタリング装置におけるパーティクル発生防止方法、スパッタリング方法、スパッタリング装置及び被覆用部材 - 特許庁
SPUTTERING CATHODE, SPUTTERING APPARATUS PROVIDED WITH SPUTTERING CATHODE, FILM-FORMING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加
スパッタリングカソード、スパッタリングカソードを備えたスパッタリング装置、成膜方法、および電子装置の製造方法 - 特許庁
SPUTTERING TARGET, SPUTTERING APPARATUS, SPUTTERING METHOD AND PROGRAM FOR MAKING COMPUTER PERFORM THE METHOD例文帳に追加
スパッタリングターゲット及びスパッタリング装置、スパッタリング方法及びその方法をコンピュータに実行させるためのプログラム - 特許庁
SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
スパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁
SPUTTERING APPARATUS AND FILM FORMING METHOD例文帳に追加
スパッタリング装置及び膜形成方法 - 特許庁
MOLYBDENUM SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
モリブデン板材及びその製造方法 - 特許庁
SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION METHOD FOR THE TARGET例文帳に追加
スパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁
ELECTRIC DISCHARGE RETAINING METHOD FOR SPUTTERING PROCESS例文帳に追加
スパッタ法における放電維持方法 - 特許庁
| 意味 | 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|