例文 (56件) |
active postの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 56件
In the active matrix type liquid crystal display device of a lateral field system, each pixel electrode 104 is provided with an additional capacitance 106 formed across either a pre-stage or a post-stage scanning line, and these pre-stage and after stage additional capacitance are alternately formed to each mutually adjacent signal wiring.例文帳に追加
横電界方式のアクティブマトリックス型液晶表示装置において、各画素電極104に対し走査電極配線101の前段または後段のいずれか一方の走査配線との間で付加容量106を形成し、かつそれら付加容量の前段形成、後段形成を、互いに隣接する信号配線102毎に交互にする。 - 特許庁
In the method for forming rugged surface whose cross-section has nonlinear symmetric shape, the rugged surface is obtained by a process of forming energy-sensitive negative type resin composition material including polymerizable monomer or oligomer of at least one kind, a process of applying active energy rays via a mask patterned with three or more gradations and a process of performing post-heating without etching operation.例文帳に追加
少なくとも一種類以上の重合可能なモノマー又はオリゴマーを含有する感エネルギー性ネガ型樹脂組成物質を形成する工程、3値以上の階調パターン形成されたマスクを介して活性エネルギー線を放射する工程、エッチング操作を行うことなく後加熱する工程により得られる表面凹凸の断面形状が、非線対称である表面凹凸形成方法。 - 特許庁
The surface unevenness formation method comprises: the step of forming an energy-sensitive negative type resin composition containing at lest one or more kinds of polymerizable monomer or oligomer; the step of emitting 0.005 to 1.0J/cm^2 of active energy rays at least one or more times via a mask formed in a pattern; and the step of subjecting to post-heating without an etching operation.例文帳に追加
少なくとも一種類以上の重合可能なモノマー又はオリゴマーを含有する感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層を形成する工程、パターン形成されたマスクを介して活性エネルギー線を少なくとも一回以上0.005〜1.0J/cm^2照射する工程、エッチング操作を行うことなく後加熱する工程を含む表面凹凸形成方法。 - 特許庁
A semiconductor layer in a VCSEL including an n-type lower DBR 104, an active layer 106, a p-type upper DBR 108, and a p-type contact layer 110 is laminated on a GaAs substrate 100; and a post structure P emitting laser light is separated from a pad forming region Q by a trench 114 formed in the semiconductor layer.例文帳に追加
VCSELは、GaAs基板100上に、n型の第下部DBR104、活性層106、p型の上部DBR108、およびp型のコンタクト層110を含む半導体層が積層され、レーザ光を出射するポスト構造Pとパッド形成領域Qとが半導体層に形成された溝114によって分離されている。 - 特許庁
An active filter employed in a PLL circuit having two charge pump circuits at the post-stage of a phase comparator comprises a first circuit element connected between the output of one charge pump circuit and the earth, a second circuit element connected between the output of the other charge pump circuit and the earth, and a voltage adder for adding the voltage across the first circuit element and the voltage across the second circuit element.例文帳に追加
位相比較器の後段に2つのチャージポンプ回路を備えるPLL回路内で用いられるアクティブフィルタが、一方のチャージポンプ回路の出力とアースとの間に接続される第1の回路要素と、他方のチャージポンプ回路の出力とアースとの間に接続される第2の回路要素と、第1、第2の回路要素のそれぞれの両端の電圧を加算する電圧加算器とを備える。 - 特許庁
The present invention relates to the nitride light-emitting element comprising an n-type clad layer 30, an active layer 40, a p-type clad layer 50 and a transparent conductive film layer 60 that are sequentially laminated on a substrate 10, wherein the transparent conductive film layer 60 including a surface patterned in nanometer scale using wet etching and post-thermal-treatment without a separate etching mask.例文帳に追加
基板10上に順次積層されたn型クラッド層30、活性層40、p型クラッド層50及び透明導電性薄膜層60を備え、ここで、透明導電性薄膜層60は、内部で発生した光の外部発光効率を高めるために別途のエッチングマスクなしに湿式エッチング方式とポスト熱処理によるナノメートルスケールでパターニングされた表面を有する窒化物系発光素子である。 - 特許庁
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