| 例文 (11件) |
crossover of electron beamの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 11件
The crossover of an electron beam is formed at the position of a blanking operating 7 by means of a condenser lens (not shown in the figure) rather provided on an electron gun side than the opening 1, and the angle of opening of the electron beam is restricted by the blanking opening 7.例文帳に追加
成形開口１よりも電子銃に設けられたコンデンサレンズ（図示せず）により、電子線のクロスオーバがブランキング開口７の位置に形成され、ブランキング開口７によって、電子線の開き角が制限される。 - 特許庁
The astigmatism correctors 91, 92, 93, 94 generate astigmatism near a crossover point so as to prevent reduction of an area of the electron beam 2.例文帳に追加
非点収差補正器によって、クロスオーバ点の近傍で非点収差を発生させ、電子線ビームの面積が小さくならないようにする。 - 特許庁
Electron beams passing through the beam separator 3 pass through a first objective lens 4, and electron beams from each electron source are to be converged on a crossover 5 by the operation of the first objective lens 4.例文帳に追加
ビームセパレータ３を通過した電子線は、第１対物レンズ４を通過後、第１対物レンズ４の働きによって、各電子源からの電子線が１箇所５に収束するようにされている。 - 特許庁
The electron beam 2 emitted from an electron emitting surface of the cathode 1 is bent by a lens 3 in a converging direction and passes through a field stop 4 and further forms a crossover through a lens 5.例文帳に追加
カソード１の電子放出面から放出された電子ビーム２は、レンズ３により収束方向に曲げられ、視野絞り４を通り、さらにレンズ５により、クロスオーバを形成する。 - 特許庁
A first crossover is formed inside the extraction electrode 3 where an aperture 8 is provided to shield and absorb an electron beam 2' emitted from an end surface of the cathode, and positioned on the outer peripheral side of the crossover.例文帳に追加
第１のクロスオーバーは引き出し電極３内に形成されるようになっており、その位置にアパーチャー８が設けられて、クロスオーバーで外周側に位置する、カソードの端面から放出された電子ビーム２’を遮蔽して吸収する。 - 特許庁
To provide a technique for facilitating the position adjustment of a crossover and improving the throughput of a device in the charged particle beam application device, such as an electron beam drawing device.例文帳に追加
電子線描画装置等の荷電粒子線応用装置において、クロスオーバーの位置調整を容易にし、当該装置のスループットを向上させることができる技術を提供する。 - 特許庁
A forming aperture 8, which forms the sectional surface of the electron beam in a ring type, is arranged in the illumination optical system, and the reticle 12 is illuminated with a crossover image of the beam which is formed in the ring type.例文帳に追加
照明光学系中に、電子ビームをリング状の断面に成形する成形開口８が設けられており、リング状に成形されたビームのクロスオーバ像でレチクル１２を照明する。 - 特許庁
This pattern inspection/measurement device is structured such that a secondary signal converging lens 69 is installed at a position of the crossover in the traveling direction of the primary electron beam, or on a path of a separated secondary signal by causing the secondary signal to spatially separate the primary electron beam by a Wien filter 18.例文帳に追加
二次信号収束用レンズ６９を、前記一次電子線の進行方向上クロスオーバの位置に、若しくはウィーンフィルタ１８により二次信号が前記一次電子線を空間的に分離させ、分離された二次信号の進路上に設置する構成とする。 - 特許庁
A diaphragm 106 for adjusting brightness, having a plurality of openings for selecting brightness near a position on an electron beam path where a crossover image is formed, an opening for passing the electron beam is selected, based on signals for adjusting brightness, and thus adjusting the brightness to a desired value.例文帳に追加
クロスオーバー像が形成される電子ビーム行路上の位置の近傍に輝度を選択するための複数の開口を有する輝度調整用絞り１０６を設置し、輝度調整用の信号を基に電子ビームの通過する開口を選択して、輝度を所望の値に調整する。 - 特許庁
Since the crossover 5 is to be positioned at the rear focal point of the second objective lens 7, each electron beam is vertically entered to the surface of the sample 8.例文帳に追加
このとき、クロスオーバ５の位置が第２対物レンズ７の後方焦点位置になるようにされているので、各電子線は、いずれも試料８表面に垂直入射する。 - 特許庁
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